掃描電子顯微鏡成像原理及基本操作.doc

掃描電子顯微鏡成像原理及基本操作一、 基本結(jié)構(gòu)組成：1.電子光學(xué)系統(tǒng)：電子槍?zhuān)痪酃忡R（第一、第二聚光鏡和物鏡）；物鏡光闌。 2.掃描系統(tǒng)：掃描信號(hào)發(fā)生器；掃描放大控制器；掃描偏轉(zhuǎn)線(xiàn)圈。 3.信號(hào)探測(cè)放大系統(tǒng)：探測(cè)二次電子、背散射電子等電子信號(hào)。 4.圖象顯示和記錄系統(tǒng)：SEM采用電腦系統(tǒng)進(jìn)行圖象顯示和記錄。 5.真空系統(tǒng)：常用機(jī)械真空泵、擴(kuò)散泵、渦輪分子泵等使真空度高于 10 -4 Torr 。6.電源系統(tǒng)：高壓發(fā)生裝置、高壓油箱。二、 掃描電子顯微鏡成像原理掃描電鏡是用聚焦電子束在試樣表面逐點(diǎn)掃描成像。試樣為塊狀或粉末顆粒，成像信號(hào)可以是二次電子、背散射電子或吸收電子。其中二次電子是最主要 的成像信號(hào)。由電子槍發(fā)射的能量為 5 35keV 的電子，以其交叉斑作為電子源，經(jīng)二級(jí)聚光鏡及物鏡的縮小形成具有一定能量、一定束流強(qiáng)度 和束斑直徑的微細(xì)電子束，在掃描線(xiàn)圈驅(qū)動(dòng)下，于試樣表面按一定時(shí)間、空間順 序作柵網(wǎng)式掃描。聚焦電子束與試樣相互作用，產(chǎn)生二次電子發(fā)射（以及其它物 理信號(hào)），二次電子發(fā)射量隨試樣表面形貌而變化。二次電子信號(hào)被探測(cè)器收集 轉(zhuǎn)換成電訊號(hào)，經(jīng)視頻放大后輸入到顯像管柵極，調(diào)制與入射電子束同步掃描的 顯像管亮度，得到反映試樣表面形貌的二次電子像。三、 掃描電鏡具有以下的特點(diǎn)(1) 制樣方法簡(jiǎn)單，對(duì)試樣的尺寸、形態(tài)等無(wú)嚴(yán)格要求，可以觀察直徑為的大塊試樣以及粉末等。 (2) 場(chǎng)深大，適用于粗糙表面和斷口的分析觀察；圖像富有立體感、真實(shí)感、易于識(shí)別和解釋。 (3) 放大倍數(shù)變化范圍大，對(duì)于多相、多組成的非均勻材料便于低倍下的普查和高倍下的觀察分析。 (4) 具有相當(dāng)高的分辨率，可達(dá)到為 3.5 6nm。 (5) 可以通過(guò)電子學(xué)方法有效地控制和改善圖像的質(zhì)量，如通過(guò)調(diào)制可改善圖像反差的寬容度，使圖像各部分亮暗適中。 (6) 可進(jìn)行多種功能的分析。與 X 射線(xiàn)譜儀配接，可在觀察形貌的同時(shí)進(jìn)行微區(qū)成分分析。 (7) 可使用，觀察在不同環(huán)境條件下（加熱、冷卻和拉伸等樣品臺(tái)進(jìn)行動(dòng)態(tài)試驗(yàn)）的相變及形態(tài)變化等。四、 掃描電鏡的用途 通過(guò)樣品中的電子激發(fā)出的各種信號(hào)，掃描電鏡可以做出電子圖像分析，如可利用二次電子進(jìn)行樣品表面形貌及結(jié)構(gòu)分析的分析；以?xún)善綔y(cè)器信號(hào)做積分運(yùn)算，通過(guò)背散射電子可以分析樣品表面成分像，以?xún)善綔y(cè)器信號(hào)做微分運(yùn)算時(shí)，則可用于樣品表面形貌像德分析；此外，通過(guò)透射電子則可對(duì)析晶體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及晶格信息進(jìn)行分析。 而且，其配上其它一些配套設(shè)備，還可做顯微化學(xué)成份分析，顯微晶體結(jié)構(gòu)分析，顯微陰極發(fā)光圖像分析，這更加擴(kuò)大的掃描