yh材料測(cè)試技術(shù)練習(xí)題公開(kāi)課一等獎(jiǎng)省優(yōu)質(zhì)課大賽獲獎(jiǎng)?wù)n件

練習(xí)題1、只要原子內(nèi)層電子被打出核外即產(chǎn)生特征X射線()×2、管電壓越高則特征X射線波長(zhǎng)越短(

)

3、滿足布拉格方程2dsinθ=λ必定發(fā)生X射線反射()4、衍射強(qiáng)度實(shí)際是大量原子散射強(qiáng)度疊加(

)5、結(jié)構(gòu)因子與晶體中原子散射因子相關(guān)()6、X射線強(qiáng)度總是與管電流成正比(

)××√√√判斷題選擇題1、與入射X射線相比相干散射波長(zhǎng)

(A)較短，(B)較長(zhǎng)，(C)二者相等，(D)不一定2、連續(xù)X射線總強(qiáng)度正比于

(A)管電壓平方，(B)管電流，(C)靶原子序數(shù)，(D)以上都是3、L層電子回遷K層且多出能量將另一L層電子打出核外即產(chǎn)生

(A)光電子，(B)二次熒光，(C)俄歇電子，(D)A和B√√√4、面心立方點(diǎn)陣消光條件是晶面指數(shù)

(A)全奇，(B)全偶，(C)奇偶混雜，(D)以上都是5、多晶樣品可采取X射線衍射方法是

(A)德拜-謝樂(lè)法，(B)勞厄法，(C)周轉(zhuǎn)晶體法，(D)A和B6、X射線衍射儀主要部分包含

(A)光源，(B)測(cè)角儀光路，(C)計(jì)數(shù)器，(D)以上都是11、X射線衍射儀測(cè)量參數(shù)不包含

(A)管電壓，(B)管電流，(C)掃描速度，(D)暴光時(shí)間√√√√填空題1、除結(jié)構(gòu)因子外，影響衍射強(qiáng)度因子包含（）（）和（）。2、X射線與物質(zhì)相互作用包含（）和（),統(tǒng)稱為（）。3、X射線衍射方法包含()、()和()。4、結(jié)構(gòu)振幅符號(hào)()，結(jié)構(gòu)因子符號(hào)()，結(jié)構(gòu)因子等零稱為()。多重因子吸收因子溫度因子散射衰減真吸收粉末法勞埃法周轉(zhuǎn)晶體法∣F∣2F

消光5、管電壓較低時(shí)只產(chǎn)生()譜，較高時(shí)則可能產(chǎn)生()和()譜。11、衍射儀主要組成單元包含()、()和()。

12、影響衍射儀精度原因包含()、()和()

13、衍射儀主要試驗(yàn)參數(shù)包含()、()和()連續(xù)連續(xù)特征光源測(cè)角儀光路計(jì)數(shù)器儀器樣品試驗(yàn)方法狹縫寬度掃描范圍掃描速度名詞解釋1、七大晶系、點(diǎn)陣參數(shù)

相干散射、熒光輻射、俄歇效應(yīng)、原子散射因子、吸收因子、結(jié)構(gòu)因子。X射線衍射方向：

即布拉格定律，可表示為，其中d晶面間距，布拉格衍射角，為X射線波長(zhǎng)。布拉格定律決定X射線在晶體中衍射方向?；诓祭穸?，可進(jìn)行定性物相分析、點(diǎn)陣常數(shù)測(cè)定及應(yīng)力測(cè)定等。1、定性物相分析中主要依據(jù)是d值和I值(

)2、定量物相分析能夠確定樣品中元素含量(

)3、定量物相分析K法優(yōu)點(diǎn)是不需要摻入內(nèi)標(biāo)樣品(

)4、定量物相分析法中必須采取衍射積分強(qiáng)度()5、定性物相分析主要依據(jù)是(A)衍射峰位，(B)積分強(qiáng)度，(C)衍射峰寬，(D)以上都是6、X射線定量物相分析包含()、()和()×√√√單線條法內(nèi)標(biāo)K值法7、物質(zhì)定性分析原理、物質(zhì)定量分析原理8、非晶態(tài)物質(zhì)與晶態(tài)物質(zhì)區(qū)分、X射線衍射圖樣有何不一樣×1、描述織構(gòu)方法不包含

(A)極圖，(B)反極圖，(C)ODF函數(shù)，(D)徑向分布函數(shù)2、宏觀應(yīng)力測(cè)定幾何關(guān)系包含

(A)同傾，(B)側(cè)傾，(C)A與B，(D)勞厄背反射3、宏觀平面應(yīng)力測(cè)定實(shí)質(zhì)是利用

(A)不一樣方位衍射峰寬差，(B)不一樣方位衍射峰位差，

(C)有沒(méi)有應(yīng)力衍射峰寬差，(D)有沒(méi)有應(yīng)力衍射峰位差4、哪種靶臨界激發(fā)電壓最低

(A)Cu，(B)Mo，(C)Cr，(D)Fe5、哪種靶K系特征X射線波長(zhǎng)最短

(A)Cu，(B)Mo，(C)Cr，(D)Fe√√√√√6、材料內(nèi)應(yīng)力分類

（關(guān)鍵點(diǎn)）第I類內(nèi)應(yīng)力為宏觀尺寸范圍并引發(fā)衍射譜線位移，第II類應(yīng)力為晶粒尺寸范圍并引發(fā)衍射譜線展寬，第III類應(yīng)力為晶胞尺寸范圍并引發(fā)衍射強(qiáng)度下降。第I類應(yīng)力屬于宏觀應(yīng)力，第II類及第III類應(yīng)力屬于微觀應(yīng)力。