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注意事項(xiàng):1.本試卷共四道大題(21小題150一、選擇填空(330分)不含雜質(zhì)與缺 B.能級(jí)位于禁帶中C.電阻率很 B.高反C.高速開(kāi) C.不含任何雜 D.自旋一軌道耦合出來(lái)的能帶上的空穴根據(jù)分布函數(shù),電子占據(jù)(EF+kT)能級(jí)的幾率__。CEF金屬 B.本征半導(dǎo)C.摻雜半導(dǎo) qτ/m*τ是載流子的__渡越時(shí) C.平均自由時(shí) k空間的<100>0.85k空間的<111>0.85k空間的<100>k空間的<111>激子吸 B.光生伏特效光輻 二.簡(jiǎn)答題(840分PNPN三.計(jì)算題(50分實(shí)驗(yàn)測(cè)得硅的晶格常數(shù)為0.543nmSi的原子體密度(單位體積內(nèi)的原子個(gè)數(shù)(5非平衡載流子為8μs。計(jì)算光照前后樣品的電導(dǎo)率(15分)0300k時(shí)鍺的有效狀態(tài)密度Nc=1.05×1019cm-3,Nv=5.7×1018cm-3,Eg=0.67eV;500k時(shí)鍺的Eg=0.581eV;常數(shù)k=1.380×10-23J/K,求溫度為300k和500k時(shí),含施主濃度ND=5×1015cm-3NA=2×109cm-3的鍺中電子及空穴濃度為多少?(15分)0ND=1015cm-3n型硅,由于光照產(chǎn)生了非平衡載流子△n=△p=1014cm-3四.證明題(1530分對(duì)于某n型半導(dǎo)
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