標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 25184-2010 X射線光電子能譜儀檢定方法》是一項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)定X射線光電子能譜儀(XPS)性能指標(biāo)的測(cè)試方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于新制造、使用中以及修理后的X射線光電子能譜儀的質(zhì)量檢驗(yàn)和校準(zhǔn)工作。

根據(jù)該標(biāo)準(zhǔn),首先定義了X射線光電子能譜儀的基本術(shù)語及其功能部件,如X射線源、分析器、檢測(cè)系統(tǒng)等,并明確了各部分的技術(shù)要求。接著詳細(xì)描述了儀器主要性能參數(shù)的測(cè)定方法,包括但不限于能量分辨率、靈敏度、穩(wěn)定性等關(guān)鍵指標(biāo)。對(duì)于能量分辨率,通過測(cè)量特定元素的標(biāo)準(zhǔn)樣品來評(píng)估;靈敏度則依據(jù)單位時(shí)間內(nèi)記錄到的光電子數(shù)進(jìn)行計(jì)算;而穩(wěn)定性則是通過對(duì)長時(shí)間內(nèi)連續(xù)采集數(shù)據(jù)的一致性分析來確定。

此外,《GB/T 25184-2010》還規(guī)定了一系列實(shí)驗(yàn)條件,比如環(huán)境溫度、濕度控制以及電源電壓波動(dòng)范圍等,確保測(cè)試結(jié)果準(zhǔn)確可靠。同時(shí),也提供了不同類型樣本處理及制備的具體指導(dǎo)原則,以保證不同材料表面分析時(shí)獲得一致且可比的結(jié)果。

最后,該文件列出了完整的檢定流程,從準(zhǔn)備工作開始直至最終報(bào)告編寫,涵蓋了所有必要步驟和技術(shù)細(xì)節(jié)。這不僅有助于實(shí)驗(yàn)室工作人員按照統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)操作,同時(shí)也為設(shè)備制造商提供了一個(gè)明確的質(zhì)量基準(zhǔn),促進(jìn)了行業(yè)內(nèi)技術(shù)交流與進(jìn)步。


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  • 現(xiàn)行
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  • 2010-09-26 頒布
  • 2011-08-01 實(shí)施
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文檔簡(jiǎn)介

ICS7104040

G04..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T25184—2010

X射線光電子能譜儀檢定方法

VerificationmethodforX-rayphotoelectronspectrometers

2010-09-26發(fā)布2011-08-01實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T25184—2010

目次

前言…………………………

范圍………………………

11

規(guī)范性引用文件…………………………

21

符號(hào)和縮略語……………

31

方法原理與系統(tǒng)構(gòu)成……………………

43

計(jì)量單位與技術(shù)指標(biāo)……………………

54

檢定環(huán)境…………………

65

檢定項(xiàng)目與方法…………………………

75

報(bào)告檢定結(jié)果……………

822

檢定周期…………………

922

GB/T25184—2010

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)表面分析分委員會(huì)歸口

。

本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位福建光電有限公司廈門大學(xué)固體表面物理化學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人王水菊時(shí)海燕丁訓(xùn)民

:、、。

GB/T25184—2010

X射線光電子能譜儀檢定方法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了射線光電子能譜儀的檢定方法本標(biāo)準(zhǔn)適用于使用非單色化或射線或

X。AlMgX

單色化射線且?guī)в袨R射清潔用離子槍的射線光電子能譜儀的檢定

AlX,X。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

,,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用本文件

。,()。

射線光電子能譜分析方法通則

GB/T19500—2004X

表面化學(xué)分析射線光電子能譜儀和俄歇電子能譜儀強(qiáng)度標(biāo)的線性

GB/T21006—2007X

(ISO21270:2004,IDT)

表面化學(xué)分析詞匯

GB/T22461—2008(ISO18115:2001,IDT)

表面化學(xué)分析濺射深度剖析用層狀膜系為參考物質(zhì)的優(yōu)化方法

GB/T20175—2006

(ISO14606:2000,IDT)

表面化學(xué)分析射線光電子能譜儀能量標(biāo)尺的校準(zhǔn)

GB/T22571—2008X(ISO15472:2001,

IDT)

表面化學(xué)分析射線光電子能譜荷電控制和荷電校正方法的報(bào)告

GB/T25185—2010X

(ISO19318:2004,IDT)

表面化學(xué)分析射線光電子能譜儀所選儀器性能參數(shù)表述

ISO15470:1999X(Surface

ChemicalAnalysis—X-rayphotoelectronspectrometers—Descriptionofselectedinstrumental

performanceparameters)

表面化學(xué)分析樣品制備和安裝程序標(biāo)準(zhǔn)指南

ISO18116(Surfacechemicalanalysis—

Guidelinesforpreparationandmountingofspecimensforanalysis)

表面化學(xué)分析和均相材料定量分析用實(shí)驗(yàn)測(cè)定相對(duì)靈敏度因子

ISO18118:2004AESXPS

的使用指南

(Surfacechemicalanalysis—AugerelectronspectroscopyandX-rayphotoelectron

spectroscopy—Guidetotheuseofexperimentallydeterminedrelativesensitivityfactorsforthequantitative

analysisofhomogeneousmaterials)

表面化學(xué)分析和橫向分辨率的測(cè)定

ISO18516:2006AESXPS(Surfacechemicalanalysis—

AugerelectronspectroscopyandX-rayphotoelectronspectroscopy—Determinationoflateralresolution)

表面化學(xué)分析和橫向分辨率分析面積和分析器分析面積的測(cè)

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