ITO鍍膜交流報告

1/50STN生產處B班（QQ406433680）2009.08.08鍍膜交流2/50J/C作業(yè)時序及注意事項3/50■J/C時人員分工蘭玉高蘭玉高1、人員分工2、確認主操工藝參數輸入正確性3、確認產品規(guī)格書，將要求事項傳達給每個員工4、檢查每個人工作完成情況羅斌1、更換框架2、計算轉產時間，通知凈化間轉產時間及周期，控制投入量3、工藝參數設定及調整及良品投入數任其盛1、確認不良留樣與計數報表一致性2、及時輸入生產報表及鍍膜轉產3、跟蹤Dummy數據及時反饋主操4/50■J/C時人員分工蘭玉高朱建明彭軍太張躍1、更換框架2、準備下機種所需的包材1、包裝產品及生產結束打包入庫2、準備下機種所需的包材3、打印下機種所需的標簽4、當需要預熱下個機種框架時，預熱框架1、包裝產品及生產結束打包入庫2、將準備好的包材移送到現(xiàn)場3、當需要預熱下個機種框架時，預熱框架5/50■具體實施根據生產進展情況，必須提前做好準備工作提前準備好打印設備測試溶液提前升溫■J/C準備6/50■J/C時間縮短作業(yè)流程項目內容責任人更換框架1、提前計算好上個品種最后一個框架號良品羅斌2、提前10分鐘將預熱好的框架移送到現(xiàn)場彭軍太3、對最后一個良品后的框架立即進行更換羅斌彭軍太7/50■J/C時間縮短作業(yè)流程項目內容責任人物性調整1、最后一個良品框架后面空5個框架通知凈化間裝載Dummy羅斌2、主操根據物性是一般規(guī)格，轉產時好控制不需要掛第2次Dummy，在第1個Dummy后面空4個框架直接掛良品，如果在靶材末期生產高電阻時要掛第2次Dummy，特殊機種要等Dummy數據結果出來后才能通知凈化間裝載良品羅斌3、最后一個框架良品在哪個區(qū)開始更改該區(qū)溫度,良品進入C9區(qū)更改DC、Ar、周期，羅斌4、第一個Dummy進入C9區(qū)間后，更改冷卻時間，以最快速度放出Dummy，通過產品顏色估計膜厚度情況，測量電阻根據經驗作相應調整羅斌5、Dummy品測量完電阻后送FQA測量透過率和膜厚度，結果出來立即反饋主操任其盛6、主操根據透過率和膜厚度再次作調整羅斌7、班長確認主操輸入的工藝參數以及Dummy數據結果，判斷良品需要作哪方面調整蘭玉高結論一般機種物性轉產時間是：

10個框架*周期靶材初、末期轉產高電阻時間是：

16個框架*周期8/50■J/C時注意事項序號J/C時注意事項責任人1J/C更換框架時，更換框架作業(yè)者要檢查確認好框架變形與否的正常狀態(tài)相應作業(yè)者2認真確認產品規(guī)格書,特別是特記事項，要讓每個員工都知道蘭玉高3根據產品物性規(guī)格來判斷進行的Dummy次數，計算出轉產時間通知清洗和凈化間羅斌4提前計算好Dummy裝載的框架號羅斌5Dummy產品進入C5區(qū)間通知FQA加熱溶液羅斌9/50■J/C時注意事項序號J/C時注意事項責任人6Dummy產品出來后要通過產品顏色調整DC，根據電阻調整溫度，特別時注意上下電阻情況來調整理相應加熱板溫度羅斌7高電阻產品如HIT80Ω產品至少要掛2個Dummy，確認電阻沒問題之后才能裝載良品羅斌8根據經驗判斷不好生產的特殊機種要等FQA數據出來合格后才能生產羅斌9良品進入鍍膜室后經常查看RGA數據波動情況羅斌、蘭玉高10良品進入Sio2區(qū)間后查看RF反射功率情況，要將反射功率控制在最低羅斌、蘭玉高11第一個框架良品進入C9區(qū)后要以最快的時間放出鍍膜室（更改冷卻時間）羅斌10/50說明：良品結束的下一框架鍍膜工序開始更換框架，根據調整溫度隔4-6個框架掛DUMMY關注：物性、安全、信息傳遞說明：當第一次DUMMY裝載后，間隔5個框架時裝載第二次DUMMY，如果第一次DUMMY正常及時裝載良品關注：物性、信息傳遞說明：先測量電阻及透光率，當該項正常即通知裝載良品，接下來測量膜厚度關注：準確性、信息傳遞說明：電阻及透光率值正常即裝載良品，不等待膜厚度數據出來再裝載關注：物性、信息傳遞A更換框架D等待時CFQA測量B物性調整■J/C時序匯總11/50時間[分鐘]510152025責任人更換框架凈化班長鍍膜班長當凈化間最后一個框架裝載完，鍍膜立即開始更換框架物性調整凈化班長鍍膜班長

第五個新框架裝載DUMMY，間隔5個框架裝載良品FQA測量FQA人員電阻及透光率正常等待時間微調參數將數據在中心值鍍膜班長密切跟蹤DUMMY物性情況品種：S56NL7R-80歐姆基準時間：8月18日[靶材壽命的變化會進行適當調整]速度：2.5分鐘12.51057.5■J/C時物性時間分解12/50■J/C異常調整舉例說明進行2次Dummy，J/C共54分鐘背景：8月12生產S16NL7R-80HIT產品時，進行2次Dummy共用時54分鐘規(guī)格:82±10ITO膜厚度：320±70透過率：87.2%↑

第1次Dummy溫度：430/560/540DC：2.16第1次Dummy結果:電阻:85-92上限,上下電阻有超規(guī)B面比A面電阻高膜厚度:274-284有較多的上調空間,增加DC電阻不會太明顯下降透過率:88.0%-88.3%,有下調空間,但增加DC透過率會下降增加A面:DC:0.03KW增加B面:DC:0.05KW增加溫度:20度,C5區(qū)上下加熱板溫度由560/540-620/340第2次Dummy第2次Dummy結果:電阻:78-82上下電阻最高86良品按第2次Dummy條件進行生產13/50確認框架是否超出外框底槽■J/C時更換框架點檢內容確認擋板變形、歪斜確認框架橫桿變形確認框架是否凸出外框14/50■J/C時更換框架點檢內容黃燈和綠燈同時亮正常單一綠燈亮說明框架沒有擋住光眼15/50T/C作業(yè)時序及注意事項16/501、更換A7、A8靶材2、松C6-C10大門螺釘3、放A面靶材內面水■T/C時人員分工職長/班長蘭玉高朱建明任其盛1、更換A5、A6靶材2、卸框架3、拆A面Ar氣管1、更換A3、A4靶材2、卸框架3、拆C7、C8區(qū)高真空閥1、人員分工2、更換A1、A2靶材3、松A面靶材螺釘4、拆C3、C4區(qū)高真空閥1、更換Sio2靶材2、準備工具及消耗品3、拆C5、C6區(qū)高真空閥1、協(xié)助A面換靶材（抬靶材拿保護框）2、生產結束打包入庫張躍彭軍太陳泌洲B面A面17/501、協(xié)助B面換靶材（抬靶材拿保護框）2、將AB面靶材移送到現(xiàn)場3、松C6-C10大門螺釘■T/C時人員分工職長/班長唐宏林羅斌陳志1、更換B7、B8靶材2、將AB面靶材移送到現(xiàn)場3、松C1-C5大門螺釘4、松B面靶材螺釘1、更換B5、B6靶材2、關閉設備，充氣3、關閉冷卻水閥4、放B面冷卻水1、更換B3、B4靶材2、將AB面靶材移送到現(xiàn)場3、松C1-C5大門螺釘4、松B面靶材螺釘1、更換B1、B2靶材2、協(xié)調B面靶材更換作業(yè)3、拆B(yǎng)面Ar氣管1、清潔鍍膜室2、拆AB面電源線喻

安張來民李鑫源B面A面18/50■T/C時注意事項現(xiàn)象：■T/C時，靶材內有積水，造成靶材不絕緣或絕緣不好對策：■徹底清掃陰極，兆歐表打在500V檔位，測量時只要有絕緣或比沒裝上靶材時絕緣好，就沒問題。靶材裝上幾顆螺釘測量時如果仍能有點絕緣那么繼續(xù)下步作業(yè)，反之只有拆陰極了■使用維修電吹風機進行加熱處理，邊加熱邊進行絕緣測量，當兆歐表逐步在想好的方向變化，證明是水份影響靶材內有水絕緣不好注意：■此項作業(yè)前提是陰極不是異物造成不絕緣19/50■T/C時注意事項■設備在開啟狀態(tài)開始松螺釘，這樣會造成高真空閥突然自行關閉■真空閥關閉，開始松螺釘，這樣會造成少量螺釘松不動現(xiàn)象■真空閥關閉，C1、C10區(qū)仍保持抽真空狀態(tài)松螺釘，這樣效果最好20/50■T/C時注意事項現(xiàn)象：■鍍膜室底部滾輪較臟，有防護罩的滾輪清潔不方便對策：■清潔底部滾輪時，手動運行滾輪，轉速設在1000，使?jié)L輪運行，這樣清潔時方便，同時也清潔的較干凈滾輪在運行狀態(tài)下清潔21/50■T/C時操作技巧先放1#、3#、4#、6#、8#靶材作業(yè)再放2#、5#、7#靶材作業(yè)靶材更換時間縮短22/50■T/C時操作技巧現(xiàn)象：■螺釘隨意裝各螺孔，壞的螺孔不易及時發(fā)現(xiàn)造成靶材漏氣對策：■取靶材螺釘的時候，在每個螺孔的位置做個記號，在裝螺釘時保持在原螺孔的地方裝螺釘，減少漏氣XX23/50■T/C時操作技巧現(xiàn)象：■T/C時，每個區(qū)間溫度降到250度以下方能開門對策：■為了加速降各區(qū)間溫度，節(jié)省時間，生產結束時，不要馬上鎖框架，最后1個良品后面空10個框架，再鎖框架，通過框架運行，帶走鍍膜室內熱量，這樣可以節(jié)省降溫時間24/50■T/C時操作技巧現(xiàn)象：■T/C后，測完框架絕緣后，通常是凈化間手動推一個框架進C1區(qū)，這樣操作是為了框架能夠自動運行，但這樣凈化間手動推框架進C1比較麻煩，也浪費時間。對策：■框架測完絕緣后，不從凈化間推框架進C1，而是直接抽真空，框架自動運行時，點擊光眼自動初始化，C1區(qū)會自動進入一個框架25/50■T/C時操作技巧現(xiàn)象：■C1、C10區(qū)大門鏍釘易斷原因分析：■C1、C10區(qū)每次充氣時N2氣量可能不夠，與外界壓力沒有成正平衡對策：■C1、C10區(qū)大門四角部分別用個夾鉗固定緊，或多上4個螺釘26/50■T/C時操作技巧現(xiàn)象：■T/C后框架自動運行時，第1個框架到C10區(qū)時，7#小門不完全開，造成框架堵在C10區(qū)對策：■框架運行到C5區(qū)時，擋住C10區(qū)光眼，讓7#門提前開啟（半開狀態(tài)），這樣框架還沒到C10區(qū)，使這種現(xiàn)象提前發(fā)生。待7#門打開后，立即停止擋光眼，7#會自動關閉，這樣框架運行到C10區(qū)時能正常運行7#小門未完全開框架運行到C5區(qū)時，擋住C10區(qū)光眼，等7#門開才能停止擋光眼27/50靶材初、末期生產物性28/50■靶材初期生產注意事項項目注意事項靶材初期生產1、靶材初期如果第1個品種是1.1T玻璃20Ω產品，開加熱器時間至少要到7個小時才能出良品2、靶材壽命至少要到8KW才能進行Dummy測試，否測測試出來的物性不準確3、靶材初期第1個品種生產時，第一個框架產品一般沒問題，RGA數據有上升趨勢電阻肯定有異常，半個小時以后整體電阻沒有上升趨勢，一般就穩(wěn)定了29/50■靶材末期生產注意事項項目注意事項靶材末期生產1、靶材末期生產高電阻產品，進行Dummy時最好不要只進行一次Dummy測試，（如HIT80Ω）等物性數據沒問題再通知掛良品，進行Dummy時主操應了解框架上下產品透過率與產品中間的差別，并由此來判斷靶材是否擊穿2、靶材末期生產高電阻產品，進行Dummy時主操應了解框架上下產品與中間產品透過率的差別，并由此來判斷靶材是否擊穿3、靶材末期生產高電阻產品進行Dummy時，可以不等耐熱性但一定要測試耐熱性（特殊機種除外）4、靶材末期生產高電阻產品電阻時，必須每30鐘對框架上產品進行電阻測量30/50

目前CS2鍍膜物性控制主要有以下個機種不好控制生產，物性不穩(wěn)定

1、S74NL1R-15VST產品，物性規(guī)格是：電阻：13±2ITO膜厚度：1250±100透過率：84%∽91%

難控點:角部電阻框架角部產品的角部(紅線)電阻上限生產時的建議:1、C5區(qū)溫度最好控制在480-500度，C5區(qū)上下加熱板溫度560-580度■特殊客戶注意事項31/50

2、S16NL1R-80T16NL1R-80HIT產品，物性規(guī)格是：電阻：80±12ITO膜厚度：320±70透過率：87.2%↑耐熱性:＜2.7倍

難控點:電阻框架上下部位(紅線)電阻上限框架上下產品中間部(藍線)電阻接下限“S”產品生產時的建議:1、C5區(qū)溫度最好控制在430-440度，C5區(qū)7#、8#加熱板溫度590/290度2、ITO靶材開6#、7#沒帶翅膀的保護框效果好些3、O2氣只能開0.5,如開1.0產品剛出角部會偏高“T”產品生產時的建議:1、C5區(qū)溫度最好控制在400-410度，C5區(qū)7#、8#加熱板溫度480/280度2、ITO靶材開6#、7#沒帶翅膀保護框效果好些3、O2氣開1.0,如開0.5生產半個多小時左右中間電阻會越來越低■特殊客戶注意事項32/50

3、S16NL7R-60ANS產品，物性規(guī)格是：電阻：45±8.5

ITO膜厚度：450±70透過率：84%∽89%耐熱性:≤2.2倍

難控點:耐熱性生產時的建議:1、溫度最好控制在400-410度2、ITO靶材開后3對3、ITO靶材壽命控制在200KWH以內生產比較好■特殊客戶注意事項33/50■鍍膜應了解框架不同點的物性例如彎曲度：

框架上的玻璃彎曲度是由下向上，數值越來越大建議：整理出多機種數據來說明上大下小34/50■鍍膜應了解FQA設備性能右邊爐子比左邊爐子耐熱性差產品放在上層耐熱性比下層耐熱性差產品兩側放玻璃保護，耐熱性數據穩(wěn)定產品放在爐子中間耐熱性差兩側和頂部產品耐熱性比中間耐熱性差35/50■鍍膜應了解FQA設備性能產品放在一塊磚上的耐熱性比放在兩塊磚上的差簡單道理：加熱一升水需要5分鐘時間，加熱2升水需要的時間就是10分鐘，所以放一枚玻璃進去在300度穩(wěn)定和放10枚玻璃進去所需要的時間是不一樣的耐熱性差36/50產品加入O2后為什么電阻會升高加入O2后，ITO薄膜濺射的過程中，會產生大量的氧負離子,氧負離子在電場的作用會轟擊到所沉積的ITO薄膜表面，使ITO薄膜的結晶結構和晶體狀態(tài)造成結構缺陷。濺射的電壓越大，氧負離子轟擊膜層表面的能量也越大，那么造成缺陷的幾率就越大，產生晶體結構也越嚴重，從而導致了ITO薄膜沉積厚度下降，電阻升高■鍍膜應了解知識37/50方塊電阻測量儀在長和寬相等的樣品上測量的玻璃鍍膜電阻。方塊電阻的大小與樣品尺寸無關，即任意大小正方形的玻璃電阻都是一樣的，不管邊長是1米還是0.1米，它們的電阻都是一樣

■鍍膜應了解知識結論

在耐熱性規(guī)格不穩(wěn)定和難控制的時候，測試耐熱性要求QA嚴格按玻璃100*50mm進行切割(1：2的比例)38/50Pinnacle：使ITO靶材形成等離子體的功率生成裝置?？缮?-12?的功率

■鍍膜應了解設備具體功能39/50Sparc-leV：對在Pinnacle里生成傳達到靶材之前的功率，起著濾波及控制的作用，可用頻率為20-100?■鍍膜應了解設備具體功能40/50設備邀請事項41/50■邀請事項-加熱板變形現(xiàn)象：■A8靶材旁的加熱板變形嚴重，每次T/C關A8靶材時，AR管會碰到變形的加熱板，造成靶材安裝困難，導致漏