機(jī)械工業(yè)工程設(shè)計(jì)基本術(shù)語(yǔ)標(biāo)準(zhǔn)9 電鍍

電鍍9.1電鍍工藝9.1.1電鍍electroplating利用電解在被鍍物表面形成均勻、致密、結(jié)合良好的金屬或合金沉積層的過(guò)程。9.1.2化學(xué)腐蝕chemicalcorrosion金屬和非金屬在電解質(zhì)溶液、干燥氣體和高溫下發(fā)生化學(xué)作用引起的腐蝕。9.1.3電化學(xué)腐蝕electrochemicalcorrosion金屬在電解質(zhì)溶液中或金屬表面覆蓋液膜時(shí)，電化學(xué)反應(yīng)使金屬氧化的過(guò)程。9.1.4基體材料basismaterial能在其上沉積金屬或形成膜層的材料。9.1.5閃鍍flashplating通電時(shí)間極短產(chǎn)生薄鍍層的電鍍。9.1.6光亮電鍍brightplating在適當(dāng)條件下，從鍍槽中直接得到具有光澤鍍層的電鍍。9.1.7合金電鍍alloyplating在電流作用下，使兩種或兩種以上金屬(其中也包括非金屬元素)共沉積的過(guò)程。9.1.8多層電鍍multilayerplating在同一基體上先后沉積上幾層性質(zhì)或材料不同的金屬層的電鍍。9.1.9復(fù)合電鍍（彌散電鍍）compositeplating用電化學(xué)法或化學(xué)法使金屬離子與均勻懸浮在溶液中的不溶性非金屬或其他金屬微粒同時(shí)沉積而獲得復(fù)合鍍層的過(guò)程。9.1.10高速電鍍highspeedelectro-deposition為獲得高的沉積速率，采用特殊的措施，在極高的陰極電流密度下進(jìn)行電鍍的過(guò)程。9.1.11刷鍍brushplating用一個(gè)同陽(yáng)極連接并能提供電鍍需要的電解液的電極或刷，在作為陰極的被鍍物上移動(dòng)進(jìn)行選擇電鍍的方法。9.1.12掛鍍r(jià)ackplating利用掛具吊掛被鍍物進(jìn)行的電鍍。9.1.13滾鍍barrelplating被鍍物在回轉(zhuǎn)容器中進(jìn)行的電鍍。9.1.14塑料電鍍platingonplastics在塑料被鍍物上沉積金屬鍍層的過(guò)程。9.1.15防腐裝飾性鍍鉻electroplatingadorn-chrome在光亮的中間鍍層表面，再鍍0.2-0.5μm的鉻鍍層，使其產(chǎn)品既有一定的防腐性，又具有光亮的外觀和耐用性。9.1.16鍍硬鉻electroplatinghardchrome利用鉻的高硬度、耐磨性和抗腐蝕性，在重負(fù)荷條件下使用的被鍍物如氣缸、模具、量具、印刷版、軸、滾筒等表面鍍上一厚硬鉻鍍層。9.1.17退鍍stripping退除被鍍物表面鍍層的過(guò)程。9.1.18除氫removalofhydrogen（de-embrittlement）金屬被鍍物在一定溫度下加熱或采用其他處理方法以驅(qū)除金屬內(nèi)部吸收氫的過(guò)程。9.1.19預(yù)鍍strike在一定組成的溶液中或一定操作條件下沉積出金屬薄膜，用以改善隨后的鍍層與基體結(jié)合力的方法。9.1.20逆流漂洗countercurrentrinsing制方向的運(yùn)動(dòng)方向與清洗水流動(dòng)相反地多道清洗過(guò)程。9.1.21超聲波清洗ultrasoniccleaning用超聲波作用于清洗溶液，除去被鍍物表面油污及其他雜質(zhì)的方法。9.1.22噴射清洗sprayrinsing用噴射的細(xì)液流沖洗被鍍物以提高清洗效果，并節(jié)約用水的清洗方法。9.1.23電鍍鋅electroplatingzinc電沉積過(guò)程中，在基體上形成符合要求的平滑致密的鋅金屬層。9.1.24電鍍銅electroplatingcopper電沉積過(guò)程中，在基體上形成符合要求的平滑致密的銅金屬層。9.1.25電鍍鎳electroplatingnickel電沉積過(guò)程中，在基體上形成符合要求的平滑致密的鎳金屬層。9.1.26化學(xué)拋光chemicalpolishing金屬被鍍物在一定的溶液中進(jìn)行處理獲得平整、光亮表面的過(guò)程。9.1.27鍍前處理pre-plating為使被鍍物材質(zhì)∪暴露出真實(shí)表面和消除內(nèi)應(yīng)力及其他特殊目的所需除去油污、氧化物及內(nèi)應(yīng)力等種種前置技術(shù)處理。9.1.28鍍后處理post-plating為使鍍件增強(qiáng)防腐性能、裝飾性及其他特殊目的而進(jìn)行的（如鈍化、熱熔、封閉和除氫等等）電鍍后置技術(shù)處理。9.1.29化學(xué)除油alkalinedegreasing借皂化和乳化作用在堿性溶液中清除被鍍物表面油污的過(guò)程。9.1.30乳化除油emulsiondegreasing用含有有機(jī)溶劑、水和乳化劑的液體除去被鍍物表面油污的過(guò)程。9.1.31有機(jī)溶劑除油solventdegreasing利用有機(jī)溶劑清除被鍍物表面油污的過(guò)程。9.1.32電解除油electrolyticdegreasing金屬被鍍物作為陽(yáng)極或陰極在電解質(zhì)溶液中進(jìn)行電解以清除被鍍物表面皿油污的過(guò)程。9.1.33弱浸蝕aciddipping將金屬被鍍物浸在電鍍前浸入一定的溶液中，除去表面上極薄的氧化膜并使表面活化的過(guò)程。9.1.34強(qiáng)浸蝕pickling將金屬被鍍物浸在較高濃度和一定溫度的浸蝕液中，除去其上的氧化物和銹蝕物等的過(guò)程。9.1.35電解浸蝕electrolyticpickling金屬被鍍物作為陽(yáng)極或陰極在電解質(zhì)溶液中進(jìn)行電解以清除被鍍物表面氧化物和銹蝕物的過(guò)程。9.1.36光亮浸蝕brightpickling用化學(xué)或電化學(xué)方法除去金屬被鍍物表面的氧化物或其他化合物使之呈現(xiàn)光亮的過(guò)程。9.1.37機(jī)械拋光mechanicalpolishing借助于高速旋轉(zhuǎn)的抹有拋光膏的拋光輪，以提高金屬被鍍物表面平整和光亮度的機(jī)械加工過(guò)程。9.1.38磨光grinding借助粘有磨料的磨輪對(duì)金屬被鍍物進(jìn)行拋磨以提高被鍍物表面平整度的機(jī)械加工過(guò)程。9.1.39刷光brushing旋轉(zhuǎn)的金屬或非金屬刷論（或刷子）隊(duì)被鍍物表面進(jìn)行加工以清除表面上殘存的附著物，并使表面呈現(xiàn)一定光澤的過(guò)程。9.1.40滾光barrelburnishing將被鍍物裝在盛有磨料和滾光液的旋轉(zhuǎn)容器中進(jìn)行滾磨處光的機(jī)械加工過(guò)程。9.1.41電拋光electro-polishing金屬被鍍物在合適的溶液中進(jìn)行陽(yáng)極極化處理以使表面平滑、光亮的過(guò)程。9.1.42活化activation用調(diào)整有效離子濃度，達(dá)到理想行為以消除電極表面的鈍化狀態(tài)。9.1.43粗化roughening用機(jī)械法或化學(xué)法使被鍍物表面得到微觀粗糙，使之由憎液性變?yōu)橛H液性，以提高鍍層與被鍍物表面之間的結(jié)合力的一種非導(dǎo)電材料化學(xué)鍍前處理工藝。9.1.44機(jī)械粗化machinecoarsening用滾磨、噴砂或砂紙打磨方法，使被鍍物表面粗化。9.1.45化學(xué)粗化chemistrycoarsening用化學(xué)浸蝕劑，使非導(dǎo)材料被鍍物表面粗化。9.1.46敏化sensitization將粗化處理后的非導(dǎo)材料被鍍物于敏化液中浸漬，使其表面吸附一層還原性物質(zhì),隨后進(jìn)行活化處理時(shí)，可在被鍍物表面還原貴金屬離子以形成“活化層”或"催化膜”，從而加速化學(xué)鍍反應(yīng)的過(guò)程。9.1.47活化處理activetreatment在塑料表面產(chǎn)生一薄層催化性的貴金屬層。9.1.48雙極性電極bipolarelectrode不與外電源連接而置于陰極和陽(yáng)極之間電解液中的導(dǎo)體，其面對(duì)著陽(yáng)極的一側(cè)起著陰極作用，對(duì)著陰極的另一側(cè)起著陽(yáng)極作用的一種電極。9.1.49分散能力throwingpower在特定條件下，鍍液使電極（通常是陰極）上鍍層分布比初次電流分布更為均勻的能力。9.1.50不溶性陽(yáng)極（惰性陽(yáng)極）inertanode電流通過(guò)時(shí)不發(fā)生陽(yáng)極溶解反應(yīng)的陽(yáng)極。9.1.51導(dǎo)電率（比電導(dǎo)）conductivity單位截面積和單位長(zhǎng)度的導(dǎo)體之電導(dǎo)，通常以s/m表示。9.1.52電流密度currentdensity單位面積電極上通過(guò)的電流強(qiáng)度，通常以A／dm2表示。9.1.53電解質(zhì)electrolyte本身具有離子導(dǎo)電性或在一定條件下（例如高溫熔融或溶于溶劑形成溶液）能夠呈現(xiàn)離子導(dǎo)電性的物質(zhì)。9.1.54電解液electrolyticsolution具有離子導(dǎo)電性的溶液。9.1.55去極化depolarization在電解質(zhì)溶液或電極中加入某種去極劑而使電極極化降低的現(xiàn)象。9.1.56陰極cathode發(fā)生還原反應(yīng)的電極，即反應(yīng)物于其上獲得電子的電極。9.1.57陰極極化cathodicpolarization當(dāng)有電流通過(guò)時(shí)，陰極的電極電勢(shì)向負(fù)的方向偏移的現(xiàn)象。9.1.58輔助陽(yáng)極auxiliaryanode為了改善被鍍物表面上的電流分布而附加的陽(yáng)極。9.1.59輔助陰極auxiliarycathode部位附加某種形狀的陰極，被鍍物上某些電流過(guò)于集中地以避免毛刺和燒焦等缺陷，這種附加的陰極就是輔助陰極。9.1.60電流效率currentefficiency電極上通過(guò)單位電量時(shí)，電極反應(yīng)生成物的實(shí)際質(zhì)量與當(dāng)量之比。通常以％表示。9.1.61沉積速率depositionrate單位時(shí)間內(nèi)鍍件表面沉積出金屬的厚度。通常以μm／h表示。9.1.62極間距inter-electrodedistance原電池或電解槽電極（正、負(fù)極或陰、陰極）之間的距離。9.1.63氫脆hydrogenembrittlement金屬或合金吸收氫原子和有應(yīng)力存在下而引起的脆性。9.1.64陰極性鍍層cathodiccoating比基體金屬的電極電勢(shì)更正的金屬鍍層。9.1.65陽(yáng)極anode能接受反應(yīng)物所給出電子發(fā)生氧化反應(yīng)的電極。9.1.66陽(yáng)極泥anodeslime在電流作用下，陽(yáng)極溶解過(guò)程中產(chǎn)生的不溶性殘?jiān)?.1.67陽(yáng)極極化anodicpolarization當(dāng)有電流通過(guò)時(shí)，陽(yáng)極的電極電勢(shì)向正的方向偏移的現(xiàn)象。9.1.68陽(yáng)極性鍍層anodiccoating比基體金屬的電極電勢(shì)更負(fù)的金屬鍍層。9.1.69導(dǎo)電鹽conductingsalt添加到電解液中能夠提高溶液導(dǎo)電率的鹽類物質(zhì)。9.1.70槽電壓tankvoltage電解時(shí)單元電解槽兩極間總電位差。9.1.71螯合物chelatecompound中心離子與配體多為配合形成的具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)的配位化合物。9.1.72整平作用levelingaction鍍液使鍍層表面比基體表面更平滑的能力。9.1.73覆蓋能力coveringpower在特定的電鍍條件下，鍍液沉積金屬覆蓋鍍件整個(gè)表面的能力。9.1.74主要表面significantsurface被鍍物上電鍍前后的規(guī)定表面，該表面上的鍍層對(duì)于被鍍物的外觀或使用性能是極為重要的。9.1.75沖擊電流strikingcurrent電鍍過(guò)程中通過(guò)的瞬時(shí)大電流。9.2電鍍?cè)O(shè)備與材料9.2.1自動(dòng)直線生產(chǎn)線autoproductionline電鍍?cè)O(shè)備按直線形布置的自動(dòng)生產(chǎn)線。9.2.2自動(dòng)環(huán)型生產(chǎn)線autoannularproductionline電鍍?cè)O(shè)備按閉式環(huán)形布置的自動(dòng)生產(chǎn)線。9.2.3間歇式生產(chǎn)線intermittentproductionline按生產(chǎn)節(jié)拍組織的非連續(xù)的脈動(dòng)式生產(chǎn)線。9.2.4整流器rectifier把交流電直接變?yōu)橹绷麟姷脑O(shè)備。9.2.5匯流排busbar連接整流器與鍍槽供導(dǎo)電用的銅排。9.2.6電鍍槽electroplatingbath用于電鍍的槽體。9.2.7掛具platingrack用來(lái)裝掛零件，以便于將它們放入槽中進(jìn)行電鍍或其它處理的工具。9.2.8離心干燥機(jī)centrifugaldryer利用離心力使被鍍物脫水干燥的設(shè)備。9.2.9移動(dòng)陰極sweptcathode被鍍被鍍物與極杠一起作周期性往復(fù)運(yùn)動(dòng)的陰極。9.2.10攪拌裝置agitator能使鍍液定向流動(dòng)以保證濃度均勻的裝置。9.2.11加熱裝置heater用來(lái)加熱鍍液或其它液體的裝置。9.2.12冷卻裝置cooler用來(lái)冷卻鍍液或其它液體的裝置。9.2.13除氫箱dehydrogenationbox用于驅(qū)除電鍍生產(chǎn)過(guò)程中鍍層內(nèi)部吸收氫的設(shè)備。9.2.14滾鍍?cè)O(shè)備rollerelectroplatingdevice用于小被鍍物進(jìn)行滾動(dòng)電鍍的裝置。9.2.15過(guò)濾設(shè)備filtrationdevice用于過(guò)濾在電鍍過(guò)程中鍍液產(chǎn)生沉淀或懸浮物的裝置。9.2.16電鍍廢水處理設(shè)備wastewatertreatmentdevice將電鍍生產(chǎn)產(chǎn)生的污水治理能夠達(dá)標(biāo)排放的裝置。9.2.17光亮劑brighteningagent(brightener)加入鍍液中可獲得光亮鍍層的添加劑。9.2.18表面活性劑surface-activeagent能顯著降低界面張力的物質(zhì)。9.2.19助濾劑filteraid為防止濾渣堆積過(guò)于密實(shí)，使之有助于過(guò)濾作用而使用的細(xì)密程度不同的惰性不溶性材料。9.2.20阻化劑inhibiter能減緩化學(xué)反應(yīng)或電化學(xué)反應(yīng)速度的物質(zhì)，例如強(qiáng)浸蝕中使用的緩蝕劑。9.2.21添加劑additionagent(additive)加入鍍液中能改進(jìn)鍍液的電化學(xué)性能或改善鍍層質(zhì)量的少量添加物。9.2.22緩沖劑buffer能使溶液PH值在一定范圍內(nèi)維持基本恒定的物質(zhì)。9.2.23整平劑levelingagent在電鍍過(guò)程中能夠改善基體表面微觀平整性，以得到平整光滑鍍層的添加劑。9.2.24乳化劑emulsifyingagent(surfactant)能降低互不相溶的液體間的界面張力，使之形成乳濁液的物質(zhì)。9.2.25潤(rùn)濕劑wettingagent能降低被鍍物與溶液間的界面張力，使被鍍物表面易于被溶液潤(rùn)濕的物質(zhì)。9.2.26電鍍液electroplatingliquid能在具有相應(yīng)的金屬離子和導(dǎo)電鹽等電解液中電沉積出金屬鍍層的溶液。9.2.27陽(yáng)極袋anodebag套在陽(yáng)極上以防止陽(yáng)極泥渣進(jìn)入溶液的化纖織物袋子。9.2.28抑霧劑restrainfog-typeagent抑制電鍍?nèi)芤寒a(chǎn)生氣霧的添加劑。9.3電鍍質(zhì)量與檢驗(yàn)9.3.1起皮peeling鍍層呈片狀脫離基體的現(xiàn)象。9.3.2針孔pores從鍍層表面貫穿到鍍層底部或基體金屬的微小孔道。9.3.3內(nèi)應(yīng)力internalstress在電鍍過(guò)程中由于種種原因引起鍍層晶體結(jié)構(gòu)的變化，使鍍層被拉伸或壓縮,但因鍍層以被固定在基體上，遂使鍍層處于受力狀態(tài)，這種作用于鍍層的內(nèi)力稱為內(nèi)應(yīng)力。9.3.4結(jié)合力adhesion鍍層與基體材料之間結(jié)合強(qiáng)度的量度，可用使鍍層與基體分離所需的力表示。9.3.5不連續(xù)水膜waterbreak被鍍物表面因污染所引起的不均勻潤(rùn)濕性而使其水膜不連續(xù)的現(xiàn)象，這是一種檢查清洗程度的方法。9.3.6金屬變色tarnish由于腐蝕而引起的金屬或鍍層表面色澤的變化(如發(fā)暗、失色等)。9.3.7剝離spalling由于某些原因(例如不均勻的熱膨脹及收縮)引起的表面鍍層的碎裂或脫落。9.3.8起泡blister在電鍍層中由于鍍層與底金屬之間失去結(jié)合力而引起一種凸起狀缺陷。9.3.9桔皮orangepeel類似于桔皮波紋外觀的處理表層。9.3.10海綿狀鍍層spongedeposit與基體材料結(jié)合不牢固的疏松多孔的沉積物。9.3.11燒焦鍍層burntdeposit在過(guò)高電流密度下形成的黑暗色、粗糙松散、質(zhì)量差的沉積物，其中常含有氧化物或其他雜質(zhì)。9.3.12樹(shù)枝狀結(jié)晶treescrystal電鍍時(shí)在陰極上（特別是邊緣和其他高電流密度區(qū)）形成的粗糙、松散的樹(shù)枝狀或不規(guī)則突起的沉淀物。9.3.13晶須whiskers金屬鍍層的絲狀增長(zhǎng)物，通常是微觀的，又時(shí)在電鍍過(guò)程中形成，有時(shí)是在處理后存放過(guò)程中產(chǎn)生的。9.