光學(xué)玻璃拋光與研磨工藝考核試卷

光學(xué)玻璃拋光與研磨工藝考核試卷考生姓名：________________答題日期：________________得分：_________________判卷人：_________________

一、單項(xiàng)選擇題（本題共20小題，每小題1分，共20分，在每小題給出的四個(gè)選項(xiàng)中，只有一項(xiàng)是符合題目要求的）

1.下列哪種材料不屬于光學(xué)玻璃？()

A.硼硅玻璃

B.鈉鈣玻璃

C.硫系玻璃

D.金屬玻璃

2.光學(xué)玻璃拋光過程中，哪種磨料適用范圍最廣？()

A.氧化鋁

B.碳化硅

C.硼酸

D.氟化鋁

3.拋光光學(xué)玻璃時(shí)，以下哪個(gè)因素不影響拋光效率？()

A.拋光盤轉(zhuǎn)速

B.拋光液濃度

C.環(huán)境溫度

D.玻璃材質(zhì)

4.下列哪種研磨方式不適用于光學(xué)玻璃研磨？()

A.手工研磨

B.機(jī)械研磨

C.液體研磨

D.超聲波研磨

5.光學(xué)玻璃研磨過程中，以下哪種現(xiàn)象表明研磨速度過快？()

A.研磨液溫度升高

B.玻璃表面出現(xiàn)劃痕

C.研磨液顏色變深

D.玻璃表面產(chǎn)生裂紋

6.下列哪種工藝不屬于光學(xué)玻璃拋光？()

A.化學(xué)拋光

B.物理拋光

C.激光拋光

D.超精密拋光

7.在光學(xué)玻璃研磨過程中，以下哪個(gè)因素對研磨質(zhì)量影響最大？()

A.研磨盤轉(zhuǎn)速

B.研磨壓力

C.研磨液類型

D.環(huán)境濕度

8.下列哪種光學(xué)玻璃拋光方法可以獲得更高的表面質(zhì)量？()

A.水拋光

B.干拋光

C.油拋光

D.蒸汽拋光

9.光學(xué)玻璃研磨過程中，以下哪個(gè)環(huán)節(jié)可以減少表面劃痕？()

A.增加研磨壓力

B.提高研磨盤轉(zhuǎn)速

C.使用較粗的磨料

D.使用較細(xì)的磨料

10.下列哪種情況適宜采用化學(xué)拋光方法？()

A.光學(xué)玻璃表面有嚴(yán)重劃痕

B.光學(xué)玻璃表面粗糙度較大

C.光學(xué)玻璃要求超精密拋光

D.光學(xué)玻璃形狀復(fù)雜

11.光學(xué)玻璃研磨過程中，以下哪種現(xiàn)象表明研磨壓力過大？()

A.研磨液顏色變淺

B.玻璃表面出現(xiàn)裂紋

C.研磨盤溫度升高

D.研磨液溫度降低

12.下列哪種拋光液適用于光學(xué)玻璃拋光？()

A.硅酸鈉

B.硫酸

C.鹽酸

D.磷酸

13.在光學(xué)玻璃拋光過程中，以下哪個(gè)因素影響拋光液的選??？()

A.光學(xué)玻璃的硬度

B.光學(xué)玻璃的透光率

C.光學(xué)玻璃的形狀

D.光學(xué)玻璃的尺寸

14.下列哪種研磨工具適用于光學(xué)玻璃研磨？()

A.金剛石研磨盤

B.鋼絲研磨輪

C.橡皮研磨盤

D.砂布研磨盤

15.光學(xué)玻璃拋光過程中，以下哪個(gè)因素可以影響拋光液的性能？()

A.拋光液的pH值

B.拋光液的粘度

C.拋光液的溫度

D.拋光液的成分

16.下列哪種方法可以檢測光學(xué)玻璃拋光質(zhì)量？()

A.顯微鏡觀察

B.拋光液檢測

C.硬度測試

D.透光率測試

17.在光學(xué)玻璃研磨過程中，以下哪個(gè)因素可能導(dǎo)致研磨不均勻？()

A.研磨盤轉(zhuǎn)速不穩(wěn)定

B.研磨壓力不均勻

C.研磨液溫度變化

D.環(huán)境濕度變化

18.下列哪種光學(xué)玻璃拋光工藝可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)表面粗糙度？()

A.粗拋光

B.精拋光

C.超精密拋光

D.化學(xué)拋光

19.光學(xué)玻璃研磨過程中，以下哪種現(xiàn)象表明研磨液濃度合適？()

A.研磨液顏色變淺

B.研磨液溫度升高

C.研磨液產(chǎn)生泡沫

D.研磨液流動(dòng)性好

20.下列哪種因素會(huì)影響光學(xué)玻璃拋光后的表面應(yīng)力？()

A.拋光壓力

B.拋光時(shí)間

C.拋光液溫度

D.拋光盤材料

（注：請將答案填寫在答題括號(hào)內(nèi)，每題1分，共20分。）

二、多選題（本題共20小題，每小題1.5分，共30分，在每小題給出的四個(gè)選項(xiàng)中，至少有一項(xiàng)是符合題目要求的）

1.光學(xué)玻璃研磨過程中，影響研磨效率的因素有：()

A.研磨盤的材料

B.研磨液的粘度

C.玻璃的硬度

D.環(huán)境的濕度

2.下列哪些是光學(xué)玻璃拋光的主要方法？()

A.機(jī)械拋光

B.化學(xué)拋光

C.激光拋光

D.超聲波拋光

3.光學(xué)玻璃拋光液的成分可能包括：()

A.研磨劑

B.潤滑劑

C.酸性物質(zhì)

D.堿性物質(zhì)

4.以下哪些情況下需要對光學(xué)玻璃進(jìn)行拋光？()

A.玻璃表面有劃痕

B.玻璃表面粗糙度大

C.玻璃要求高透光率

D.玻璃用于裝飾用途

5.以下哪些因素會(huì)影響光學(xué)玻璃拋光的質(zhì)量？()

A.拋光液的流速

B.拋光壓力的大小

C.拋光盤的轉(zhuǎn)速

D.拋光時(shí)間的長短

6.以下哪些研磨工具適用于光學(xué)玻璃的精細(xì)研磨？()

A.金剛石研磨盤

B.硅膠研磨盤

C.毛刷研磨輪

D.纖維研磨墊

7.光學(xué)玻璃研磨過程中，哪些現(xiàn)象可能是由于研磨壓力不當(dāng)造成的？()

A.玻璃表面出現(xiàn)裂紋

B.研磨液顏色變深

C.研磨盤磨損過快

D.玻璃表面研磨不均勻

8.以下哪些方法可以用于檢測光學(xué)玻璃的表面質(zhì)量？()

A.光譜分析

B.白光干涉儀

C.接觸式表面粗糙度計(jì)

D.非接觸式表面粗糙度計(jì)

9.以下哪些條件有助于提高光學(xué)玻璃的拋光效率？()

A.提高拋光液的粘度

B.增加拋光壓力

C.降低拋光盤的轉(zhuǎn)速

D.選擇合適的磨料

10.以下哪些因素會(huì)影響光學(xué)玻璃拋光后的表面應(yīng)力？()

A.拋光液的成分

B.拋光液的溫度

C.拋光過程中磨料的粒度

D.拋光后玻璃的冷卻速度

11.光學(xué)玻璃研磨過程中，以下哪些做法可以減少研磨液的污染？()

A.定期更換研磨液

B.使用過濾系統(tǒng)

C.避免在研磨過程中使用過量研磨液

D.使用一次性研磨盤

12.以下哪些特點(diǎn)表明光學(xué)玻璃拋光工藝達(dá)到了良好的效果？()

A.表面粗糙度低

B.表面無劃痕

C.表面應(yīng)力分布均勻

D.拋光效率高

13.在光學(xué)玻璃研磨工藝中，以下哪些因素可能導(dǎo)致研磨燒傷？()

A.研磨壓力過大

B.研磨盤轉(zhuǎn)速過高

C.研磨液溫度過高

D.研磨時(shí)間過長

14.以下哪些磨料適用于光學(xué)玻璃的拋光？()

A.氧化硅

B.氧化鈰

C.鋁氧化物

D.碳化硅

15.光學(xué)玻璃在拋光過程中可能出現(xiàn)的缺陷包括：()

A.拋光痕跡

B.表面裂紋

C.拋光不均勻

D.表面污染

16.以下哪些條件有助于保持光學(xué)玻璃研磨過程中的穩(wěn)定性？()

A.穩(wěn)定的研磨壓力

B.穩(wěn)定的研磨盤轉(zhuǎn)速

C.穩(wěn)定的研磨液溫度

D.穩(wěn)定的環(huán)境溫度

17.光學(xué)玻璃拋光液的維護(hù)措施包括：()

A.定期檢測拋光液的成分

B.定期更換拋光液

C.控制拋光液的溫度

D.保持拋光液的清潔

18.以下哪些是超精密拋光技術(shù)的特點(diǎn)？()

A.表面粗糙度極低

B.拋光精度高

C.拋光速度慢

D.對環(huán)境條件要求嚴(yán)格

19.光學(xué)玻璃研磨過程中，以下哪些因素可能導(dǎo)致研磨液性能下降？()

A.研磨液中磨料粒度變化

B.研磨液溫度過高

C.研磨液被污染

D.研磨液使用時(shí)間過長

20.以下哪些措施可以減少光學(xué)玻璃拋光過程中的表面損傷？()

A.使用較細(xì)的磨料

B.減少拋光壓力

C.提高拋光盤的轉(zhuǎn)速

D.使用適宜的拋光液

（注：請將答案填寫在答題括號(hào)內(nèi)，每題1.5分，共30分。）

三、填空題（本題共10小題，每小題2分，共20分，請將正確答案填到題目空白處）

1.光學(xué)玻璃的拋光過程中，通常使用的拋光劑是________拋光劑。

2.在研磨光學(xué)玻璃時(shí)，為了防止玻璃產(chǎn)生裂紋，應(yīng)控制研磨壓力不大于________MPa。

3.光學(xué)玻璃的表面粗糙度一般要求在________nm以下。

4.用來測量光學(xué)玻璃表面粗糙度的常用儀器是________。

5.在光學(xué)玻璃研磨過程中，磨料的粒度一般從________目到________目。

6.光學(xué)玻璃拋光后，其表面應(yīng)力的產(chǎn)生主要是由于________。

7.為了提高光學(xué)玻璃的拋光效率，可以采用________拋光方法。

8.在光學(xué)玻璃研磨工藝中，________研磨盤適合于初步研磨。

9.光學(xué)玻璃拋光液的pH值一般應(yīng)控制在________到________之間。

10.超精密拋光技術(shù)通常用于光學(xué)玻璃的________拋光。

四、判斷題（本題共10小題，每題1分，共10分，正確的請?jiān)诖痤}括號(hào)中畫√，錯(cuò)誤的畫×）

1.光學(xué)玻璃研磨時(shí)，磨料越細(xì)，研磨效率越高。（）

2.拋光液的粘度越高，光學(xué)玻璃的拋光效果越好。（）

3.在光學(xué)玻璃研磨過程中，研磨壓力越大，研磨效率越高。（）

4.光學(xué)玻璃的表面應(yīng)力越大，其強(qiáng)度越高。（）

5.環(huán)境濕度對光學(xué)玻璃的研磨質(zhì)量沒有影響。（）

6.使用超聲波研磨可以顯著提高光學(xué)玻璃的研磨效率。（）

7.在光學(xué)玻璃拋光過程中，拋光液的溫度越低，拋光效果越好。（）

8.光學(xué)玻璃研磨后，可以直接進(jìn)行拋光，無需進(jìn)行中間清洗步驟。（）

9.光學(xué)玻璃的透光率與拋光質(zhì)量成正比關(guān)系。（）

10.所有類型的光學(xué)玻璃都適用于同一種拋光工藝。（）

五、主觀題（本題共4小題，每題5分，共20分）

1.請簡述光學(xué)玻璃研磨過程中，如何選擇合適的磨料粒度，并說明不同粒度磨料對研磨效果的影響。

2.描述光學(xué)玻璃拋光過程中，拋光壓力、拋光盤轉(zhuǎn)速和拋光液溫度這三個(gè)因素對拋光質(zhì)量的影響，并給出合理的控制建議。

3.請闡述超精密拋光技術(shù)在光學(xué)玻璃加工中的應(yīng)用，以及與常規(guī)拋光技術(shù)相比，超精密拋光技術(shù)的優(yōu)勢。

4.分析在光學(xué)玻璃研磨與拋光過程中，可能出現(xiàn)的表面缺陷及其產(chǎn)生原因，并提出相應(yīng)的預(yù)防措施。

標(biāo)準(zhǔn)答案

一、單項(xiàng)選擇題

1.D

2.A

3.C

4.D

5.B

6.C

7.B

8.A

9.D

10.C

11.B

12.A

13.A

14.A

15.B

16.A

17.B

18.C

19.A

20.A

二、多選題

1.ABCD

2.ABC

3.ABCD

4.ABC

5.ABCD

6.AD

7.AB

8.BD

9.BD

10.ABCD

11.ABC

12.ABCD

13.ABC

14.ABC

15.ABCD

16.ABCD

17.ABCD

18.ABCD

19.ABCD

20.ABC

三、填空題

1.氧化鈰

2.0.1-0.3

3.1-10

4.白光干涉儀

5.240-1200

6.拋光過程中的機(jī)械應(yīng)力

7.液體拋光

8.金剛石研磨盤

9.8-10

10.精密

四、判斷題

1.×

2.×

3.×

4.×

5.×

6.√

7.×

8.×

9.√

10.×

五、主觀題（參考）

1.選擇磨料粒度應(yīng)考慮玻璃硬度和表面粗糙度。細(xì)磨料適合精研磨