在用水晶釜MT檢測(cè).doc

1、在用高壓水晶釜磁粉檢測(cè)工藝1總則11適用范圍本工藝適用于在用高壓水晶釜現(xiàn)場(chǎng)釜體及受壓部件螺紋磁粉檢測(cè)。12引用標(biāo)準(zhǔn)、法規(guī)編制本檢測(cè)工藝依據(jù)jb/t4730.42005、及tsgr0002-2005超高壓容器安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程。13檢測(cè)人員應(yīng)是取得國(guó)家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督行政部門特種設(shè)備無損檢測(cè)人員資格考核委員會(huì)頒發(fā)的磁粉檢測(cè)ii級(jí)及ii級(jí)以上的人員。2器材及檢測(cè)參數(shù)21儀器型號(hào)采用磁粉檢測(cè)儀，其性能應(yīng)符合jb/t4730.42005的規(guī)定。22檢測(cè)方法交叉磁軛法、磁軛法。23磁化通電方式連續(xù)法、濕法。24磁化電流交流電25磁化方向?qū)Ρ粰z部位的每一區(qū)域應(yīng)進(jìn)行相互垂直的兩次磁化。26磁化規(guī)范261交流電磁軛

2、至少應(yīng)有45n的提升力；交叉磁軛至少應(yīng)有關(guān)118n的提升力（磁極與試件表面間隙為0.5mm）。262采用靈敏度試片a130100靈敏度試片校驗(yàn)。27磁化通電時(shí)間及施加磁懸液采用連續(xù)法時(shí)，被檢部位的磁化、施加磁懸液的工藝及觀察磁痕顯示都應(yīng)在磁化通電時(shí)間內(nèi)完成，通電時(shí)間為13秒，停施磁懸液至少1s后方可停止磁化。為保證磁化效果應(yīng)至少反復(fù)磁化兩次。28磁軛觸頭間距：磁軛觸頭間距為100mm。29磁懸液施加方式采用噴灑法。210磁懸液種類磁膏加水。211磁懸液濃度1025克/升濃度的磁懸液。212反差增強(qiáng)劑選用白色反差增強(qiáng)劑。213磁粉、磁懸液、靈敏度試片、磁粉檢測(cè)反差增強(qiáng)劑，應(yīng)有質(zhì)量證明書（合格證）

3、。3表面準(zhǔn)備被檢工件表面應(yīng)徹底去除污垢、油污，100%露出金屬基體，再擦洗干凈，特別是螺紋溝槽處。4檢測(cè)操作缺陷評(píng)定41待被檢表面處理完畢并干燥后，噴涂反差增強(qiáng)劑，待反差增強(qiáng)劑完全干燥后方可進(jìn)行檢測(cè)。42檢測(cè)系統(tǒng)靈敏度校驗(yàn)將a1-30/100試片置于螺紋溝槽處（或釜體表面），按實(shí)際檢測(cè)時(shí)噴灑磁懸液的方式噴灑磁懸液。a1-30/100試片磁痕顯示清晰，方可進(jìn)行檢測(cè)。43每一區(qū)域進(jìn)行磁力線相互垂直的兩個(gè)方向磁化，磁化區(qū)域每次應(yīng)有不少于15mm重迭區(qū)域。44磁痕辯認(rèn)及缺陷磁痕評(píng)定441區(qū)分無關(guān)磁痕、偽磁痕和缺陷磁痕。442缺陷磁痕4421不允許存在任何裂紋缺陷磁痕顯示。4422不允許存在任何條狀缺陷磁痕顯示，不允許存在任何圓形缺陷磁痕顯示。注：條狀缺陷磁痕是指長(zhǎng)度與寬度之比大于3的缺陷磁痕。圓形缺陷磁痕是指長(zhǎng)度與寬度之比不大于3的缺陷磁痕。443非相關(guān)顯示、偽顯示可不記錄。5檢測(cè)部位高壓水晶釜釜體螺紋及相關(guān)受壓部件螺紋100%、釜體外表面30%抽查（抽查部位由釜體底部向上）、所有測(cè)溫孔及釜體外表面修磨處