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文檔簡(jiǎn)介

1、文章來源 畢業(yè)論文網(wǎng) 氮化物襯底材料的研究與開發(fā)文章來源 畢業(yè)論文網(wǎng) 寬帶隙的gan基半導(dǎo)體在短波長(zhǎng)發(fā)光二極管、激光器和紫外探測(cè)器,以及高溫微器件方面顯示出廣闊的應(yīng)用前景;對(duì)環(huán)保,其還是很適合于環(huán)保的體系。半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)發(fā)展分類所示的若干主要階段,其每個(gè)階段均能形成富有特色的產(chǎn)業(yè)鏈。世界各國現(xiàn)在又投入了大量的、財(cái)力和物力,以期望取得gan基高功率器件的突破,并且居于此領(lǐng)域的制高點(diǎn)?!暗镆r底材料與半導(dǎo)體照明的應(yīng)用前景”文稿介紹了氮化物襯底材料與半導(dǎo)體照明的應(yīng)用前景的部分內(nèi)容。 gan、aln、inn及其合金等材,是作為新材料的gan系材料。對(duì)襯底材料進(jìn)行評(píng)價(jià)要就襯底材料綜合考慮其因素,尋找到

2、更加合適的襯底是發(fā)展gan基技術(shù)的重要目標(biāo)。評(píng)價(jià)襯底材料要綜合考慮襯底與外延膜的晶格匹配、襯底與外延膜的熱膨脹系數(shù)匹配、襯底與外延膜的化學(xué)穩(wěn)定性匹配、材料制備的難易程度及的高低的因素。inn的外延襯底材料就現(xiàn)在來講有廣泛應(yīng)用的。自支撐同質(zhì)外延襯底的研制對(duì)發(fā)展自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的氮化物半導(dǎo)體激光器、大功率高亮度半導(dǎo)體照明用led,以及高功率微波器件等是很重要的?!暗镆r底材料的評(píng)價(jià)因素及研究與開發(fā)”文稿介紹了氮化物襯底材料的評(píng)價(jià)因素及研究與開發(fā)的部分內(nèi)容。 氮化物襯底材料與半導(dǎo)體照明的應(yīng)用前景 gan是直接帶隙的材料,其光躍遷幾率比間接帶隙的高一個(gè)數(shù)量級(jí)。因此,寬帶隙的gan基半導(dǎo)體在短波長(zhǎng)發(fā)光二極

3、管、激光器和紫外探測(cè)器,以及高溫微電子器件方面顯示出廣闊的應(yīng)用前景;對(duì)環(huán)保,其還是很適合于環(huán)保的材料體系。 1994年,日本的nicha公司在gan/l2o3上取得突破,1995年,gan器件第一次實(shí)現(xiàn)商品化。1998年,gan基發(fā)光二極管led規(guī)模為us$5.0億,2000年,市場(chǎng)規(guī)模擴(kuò)大至us$13億。據(jù)權(quán)威專家的預(yù)計(jì),gan基led及其所用的l2o3襯底在國際市場(chǎng)上的市場(chǎng)成長(zhǎng)期將達(dá)到50年之久。gan基led及其所用的l2o3襯底具有獨(dú)特的優(yōu)異物化性能,并且具有長(zhǎng)久耐用性。預(yù)計(jì),2005年gan基器件的市場(chǎng)規(guī)模將擴(kuò)大至us$30億,gan基器件所用的l2o3襯底的市場(chǎng)規(guī)模將擴(kuò)大至us$5

4、億。 半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)發(fā)展分類所示的若干主要階段,其每個(gè)階段均能形成富有特色的產(chǎn)業(yè)鏈: (1)第一階段 第一階段(特種照明時(shí)代,2005年之前),其中有:儀器儀表指示;金色顯示、室內(nèi)外廣告;燈、信號(hào)燈、標(biāo)致燈、汽車燈;室內(nèi)長(zhǎng)明燈、吊頂燈、變色燈、草坪燈;城市景觀美化的輪廓燈、橋梁、高速公路、隧道導(dǎo)引路燈,等等。 (2)第二階段 第二階段(照明時(shí)代,20052010年),其中有:cd、dvd、 h-dvd光存儲(chǔ);激光金色顯示;娛樂、條型碼、打印、圖像記錄;醫(yī)用激光;開拓固定照明新領(lǐng)域,衍生出新的照明產(chǎn)業(yè),為通用照明應(yīng)用打下基礎(chǔ),等等。 (3)第三階段 第三階段(通用照明時(shí)代,2010年之后),包括

5、以上二個(gè)階段的應(yīng)用,并且還全面進(jìn)入通用照明市場(chǎng),占有3050%的市場(chǎng)份額。 到達(dá)目前為止(處于第一階段,特種照明時(shí)代),已紛紛將中、低功率藍(lán)色發(fā)光二極管(led)、綠色led、白光led、藍(lán)紫色led等實(shí)現(xiàn)了量產(chǎn),走向了商業(yè)市場(chǎng)。高功率藍(lán)色發(fā)光二極管(led)、激光二極管(ld)和全波段inn-gan等,將會(huì)引發(fā)新的、更加大的商機(jī),例如,光存儲(chǔ)、光通訊等。實(shí)現(xiàn)高功率藍(lán)色發(fā)光二極管(led)、激光二極管(ld)和全波段inn-gan實(shí)用化,并且達(dá)到其商品化,這需要合適的襯底材料。因此,gan材料及器件發(fā)展,需要尋找到與gan匹配的襯底材料,進(jìn)一步提高外延膜的質(zhì)量。 另外,就基礎(chǔ)研究和中長(zhǎng)期計(jì)劃考

6、慮,科技發(fā)展越來越需要把不同體系的材料結(jié)合到一起,即稱之為異質(zhì)結(jié)材料。應(yīng)用協(xié)變襯底可以將晶格和熱失配的缺陷局限在襯底上,并且為開辟新的材料體系打下基礎(chǔ)。已提出了多種協(xié)變襯底的制備技術(shù),例如,自支撐襯底、鍵合和扭曲鍵合、重位晶格過渡層,以及soi和vte襯底技術(shù)等。預(yù)計(jì),在今后的1020年中,大尺寸的、協(xié)變襯底的制備技術(shù)將獲得突破,并且廣泛應(yīng)用于大失配異質(zhì)結(jié)材料生長(zhǎng)及其相聯(lián)系的光電子器件制造。 世界各國現(xiàn)在又投入了大量的人力、財(cái)力和物力,并且以期望取得gan基高功率器件的突破,居于此領(lǐng)域的制高點(diǎn)。 氮化物襯底材料的評(píng)價(jià)因素及研究與開發(fā) gan、aln、inn及其合金等材料,是作為新材料的gan系

7、材料。對(duì)襯底材料進(jìn)行評(píng)價(jià),要就襯底材料綜合考慮其因素,尋找到更加合適的襯底是作為發(fā)展gan基技術(shù)的重要目標(biāo)。 一、評(píng)價(jià)襯底材料綜合考慮因素 評(píng)價(jià)襯底材料要綜合考慮以下的幾個(gè)因素: (1)襯底與外延膜的晶格匹配 襯底材料和外延膜晶格匹配很重要。晶格匹配包含二個(gè)內(nèi)容: 外延生長(zhǎng)面內(nèi)的晶格匹配,即在生長(zhǎng)界面所在平面的某一方向上襯底與外延膜的匹配; 沿襯底表面法線方向上的匹配。 (2)襯底與外延膜的熱膨脹系數(shù)匹配 熱膨脹系數(shù)的匹配也很重要,外延膜與襯底材料在熱膨脹系數(shù)上相差過大不僅可能使外延膜質(zhì)量下降,還會(huì)在器件工作過程中,由于發(fā)熱而造成器件的損壞。 (3)襯底與外延膜的化學(xué)穩(wěn)定性匹配 襯底材料需要有

8、相當(dāng)好的化學(xué)穩(wěn)定性,不能因?yàn)榕c外延膜的化學(xué)反應(yīng)使外延膜質(zhì)量下降。 (4)材料制備的難易程度及成本的高低 考慮到產(chǎn)業(yè)化發(fā)展的需要,襯底材料的制備要求簡(jiǎn)潔,而且其成本不宜很高。   二、inn的外延襯底材料的研究與開發(fā) inn的外延襯底材料就現(xiàn)在來講有廣泛應(yīng)用的,其中有:inn;al2o3(0001);6h-sic;mgal2o4(111);lialo2和ligao2;mgo;si ;gaas(111)等。 -族化合物,例如,gan、aln、inn,這些材料都有二種結(jié)晶形式:一種是立方晶系的閃鋅礦結(jié)構(gòu),而另一種是六方晶系的纖鋅礦結(jié)構(gòu)。以藍(lán)光輻射為中心形成研究熱點(diǎn)的是纖鋅礦結(jié)構(gòu)的氮化鎵、氮

9、化鋁、氮化銦,而且主要是氮化鎵、氮化鋁、氮化銦的固溶體。這些材料的禁帶是直接躍遷型,因而有很高的量子效率。用氮化鎵、氮化鋁、氮化銦這三種材料按不同組份和比例生成的固溶體,其禁帶寬度可在2.2ev到6.2ev之間變化。這樣,用這些固溶體制造發(fā)光器件,是光電集成材料和器件發(fā)展的方向。 (1)inn和gan 因?yàn)楫愘|(zhì)外延氮化物薄膜通常帶來大量的缺陷,缺陷損害了器件的性能。與gan一樣,如果能在inn上進(jìn)行同質(zhì)外延生長(zhǎng),可以大大減少缺陷,那么器件的性能就有巨大的飛躍。 自支撐同質(zhì)外延gan,aln和algan襯底是目前最有可能首先獲得實(shí)際應(yīng)用的襯底材料。 (2)藍(lán)寶石(-al2o3)和6h-sic -

10、al2o3單晶,即藍(lán)寶石晶體。(0001)面藍(lán)寶石是目前最常用的inn的外延襯底材料。其匹配方向?yàn)椋篿nn(001)/ al2o3(001),inn110/ al2o310011,12。因?yàn)橐r底表面在薄膜生長(zhǎng)前的氮化中變?yōu)閍lon,inn繞al2o3(0001)襯底的六面形格子結(jié)構(gòu)旋轉(zhuǎn)30,這樣其失匹配度就比原來的29%稍有減少。雖然(0001)面藍(lán)寶石與inn晶格的失配率高達(dá)25%,但是由于其六方對(duì)稱,熔點(diǎn)為2050,最高工作溫度可達(dá)1900,具有良好的高溫穩(wěn)定性和力學(xué)性能,加之對(duì)其研究較多,生產(chǎn)技術(shù)較為成熟,而且價(jià)格便宜,現(xiàn)在仍然是應(yīng)用最為廣泛的襯底材料。 6h-sic作為襯底材料應(yīng)用的廣

11、泛程度僅次于藍(lán)寶石。同藍(lán)寶石相比,6h-sic與inn外延膜的晶格匹配得到改善。此外,6h-sic具有藍(lán)色發(fā)光特性,而且為低阻材料,可以制作電極,這就使器件在包裝前對(duì)外延膜進(jìn)行完全測(cè)試成為可能,因而增強(qiáng)了6h-sic作為襯底材料的競(jìng)爭(zhēng)力。又由于6h-sic的層狀結(jié)構(gòu)易于解理,襯底與外延膜之間可以獲得高質(zhì)量的解理面,這將大大簡(jiǎn)化器件的結(jié)構(gòu);但是同時(shí)由于其層狀結(jié)構(gòu),在襯底的表面常有給外延膜引入大量的缺陷的臺(tái)階出現(xiàn)。 (3)鎂鋁尖晶石(mgal2o4) mgal2o4晶體,即鋁酸鎂晶體。mgal2o4晶體是高熔點(diǎn)(2130)、高硬度(莫氏8級(jí))的晶體材料,屬面心立方晶系,空間群為fd3m, 晶格常數(shù)

12、為0.8085nm。mgal2o4晶體是優(yōu)良的傳聲介質(zhì)材料,在微波段的聲衰減低,用mgal2o4晶體制作的微波延遲線插入損耗小。mgal2o4晶體與si的晶格匹配性能好,其膨脹系數(shù)也與si相近,因而外延si膜的形變扭曲小,制作的大規(guī)模超高速集成電路速度比用藍(lán)寶石制作的速度要快。此外,國外又用mgal2o4晶體作超導(dǎo)材料,有很好的效果。近年來,對(duì)mgal2o4晶體用于gan的外延襯底材料研究較多。由于mgal2o4晶體具有良好的晶格匹配和熱膨脹匹配,(111)面mgal2o4晶體與gan晶格的失配率為9%,具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性,以及良好的機(jī)械力學(xué)性能等優(yōu)點(diǎn),mgal2o4晶體目前是ga

13、n較為合適的襯底材料之一,已在mgal2o4基片上成功地外延出高質(zhì)量的gan膜,并且已研制成功藍(lán)光led和ld。此外,mgal2o4襯底最吸引人之處在于可以通過解理的方法獲得激光腔面。 在前面的研究基礎(chǔ)上,近來把mgal2o4晶體用作inn的外延襯底材料的研究也陸續(xù)見之于文獻(xiàn)報(bào)道。其之間的匹配方向?yàn)椋篿nn(001)/mgal2o4(111),inn110/mgal2o4100,inn繞mgal2o4(111)襯底的四方、六方形格子結(jié)構(gòu)旋轉(zhuǎn)30。研究表明(111)面mgal2o4晶體與inn晶格的失配率為15%,晶格匹配性能要大大優(yōu)于藍(lán)寶石,(0001)面藍(lán)寶石與inn晶格的失配率高達(dá)25%。

14、而且,如果位于頂層氧原子層下面的鎂原子占據(jù)有效的配位晶格位置,以及氧格位,那么這樣可以有希望將晶格失配率進(jìn)一步降低至7%,這個(gè)數(shù)字要遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于藍(lán)寶石。所以mgal2o4晶體是很有發(fā)展?jié)摿Φ膇nn的外延襯底材料。 (4)lialo2和ligao2 以往的研究是把lialo2 和ligao2用作gan的外延襯底材料。lialo2 和ligao2與gan的外延膜的失配度相當(dāng)小,這使得lialo2 和ligao2成為相當(dāng)合適的gan的外延襯底材料。同時(shí)ligao2作為gan的外延襯底材料,還有其獨(dú)到的優(yōu)點(diǎn):外延生長(zhǎng)gan后,ligao2襯底可以被腐蝕,剩下gan外延膜,這將極大地方便了器件的制作。但是由

15、于ligao2晶體中的鋰離子很活潑,在普通的外延生長(zhǎng)條件下(例如,mocvd法的化學(xué)氣氛和生長(zhǎng)溫度)不能穩(wěn)定存在,故其單晶作為gan的外延襯底材料還有待于進(jìn)一步研究。而且在目前也很少把lialo2和ligao2用作inn的外延襯底材料。 (5)mgo mgo晶體屬立方晶系,是nacl型結(jié)構(gòu),熔點(diǎn)為2800。因?yàn)閙go晶體在mocvd氣氛中不夠穩(wěn)定,所以對(duì)其使用少,特別是對(duì)于熔點(diǎn)和生長(zhǎng)溫度更高的inn薄膜。 (6)gaas gaas(111)也是目前生長(zhǎng)inn薄膜的襯底材料。襯底的氮化溫度低于700時(shí),生長(zhǎng)inn薄膜的厚度小于0.05m時(shí),inn薄膜為立方結(jié)構(gòu),當(dāng)生長(zhǎng)inn薄膜的厚度超過0.2m時(shí),立方結(jié)構(gòu)消失,全部轉(zhuǎn)變?yōu)榱浇Y(jié)構(gòu)的inn薄膜。inn薄膜在gaas(111)襯底上的核化方式與在al2o3(001)襯底上的情況有非常大的差別,inn薄膜在gaas(111)襯底上的核化方式?jīng)]有在白寶石襯底上生長(zhǎng)inn薄膜時(shí)出現(xiàn)的柱狀、纖維狀結(jié)構(gòu),表面上顯現(xiàn)為非常平整。 (7)si 單晶si,是應(yīng)用很廣的半導(dǎo)體材料。以si作為inn襯底材料是很引起注意的,因?yàn)橛锌?/p>

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