淺談半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域CPC分類(lèi)現(xiàn)狀

1、    淺談半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域cpc分類(lèi)現(xiàn)狀    詹斯琦 王真真摘要：本文簡(jiǎn)要分析cpc分類(lèi)體系在半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域的分類(lèi)現(xiàn)狀，主要從半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域ipc分類(lèi)下的四個(gè)一點(diǎn)組與對(duì)應(yīng)的cpc分類(lèi)下的四個(gè)一點(diǎn)組進(jìn)行對(duì)比分析。關(guān)鍵詞：半導(dǎo)體器件制造；ipc；cpc；分類(lèi)現(xiàn)狀引言自2010年10月來(lái)，專(zhuān)利分類(lèi)cpc體系上線，其融合了歐、美原有專(zhuān)利分類(lèi)體系的優(yōu)勢(shì)，與ipc分類(lèi)體系在分類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)和層級(jí)結(jié)構(gòu)上保持了一致，并在ecla基礎(chǔ)上進(jìn)行了擴(kuò)展，由于cpc采用ipc分類(lèi)形式，做了更進(jìn)一步的細(xì)分，使得其對(duì)專(zhuān)利文獻(xiàn)的標(biāo)引更加細(xì)化，這對(duì)專(zhuān)利文獻(xiàn)檢索效率的提高起到了至關(guān)重

2、要的作用1。一、半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域ipc與cpc分類(lèi)現(xiàn)狀1.ipc分類(lèi)現(xiàn)狀半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域主要涉及半導(dǎo)體器件的制造方法和制造裝置，其對(duì)應(yīng)的ipc分類(lèi)號(hào)為h01l21/02-h01l21/687，共有四個(gè)一點(diǎn)小組：h01l21/02（文獻(xiàn)量1075307）、h01l 21/64（文獻(xiàn)量792）、h01l 21/66（文獻(xiàn)量104700）、h01l 21/67（文獻(xiàn)量116555）?？梢?jiàn)，半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域的文獻(xiàn)主要集中在h01l21/02一點(diǎn)組分類(lèi)下。對(duì)于h01l21/02一點(diǎn)組，涉及制造方法及工藝，由于一篇專(zhuān)利中可能涉及多個(gè)發(fā)明點(diǎn)，即可能會(huì)涉及到多個(gè)下位點(diǎn)組的分類(lèi)號(hào)，從而導(dǎo)致在采用ipc分類(lèi)

3、時(shí)模棱兩可，舍去部分相關(guān)的分類(lèi)號(hào)，直接影響檢索效率。對(duì)于h01l21/66和h01l21/67一點(diǎn)組，h01l21/66分類(lèi)下沒(méi)有二點(diǎn)組，這兩個(gè)分類(lèi)號(hào)下的文獻(xiàn)分類(lèi)較為準(zhǔn)確，在檢索時(shí)可以直接在該一點(diǎn)組分類(lèi)號(hào)下+關(guān)鍵詞進(jìn)行檢索，但是因?yàn)槠湎挛稽c(diǎn)組過(guò)少，導(dǎo)致文獻(xiàn)的分類(lèi)較為籠統(tǒng)，沒(méi)有更精細(xì)的分類(lèi)所以不能進(jìn)行有針對(duì)性地檢索，導(dǎo)致檢索效率較為低下。2.cpc分類(lèi)現(xiàn)狀由于cpc與ipc分類(lèi)體系在分類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)和層級(jí)結(jié)構(gòu)上保持了一致，除了原ipc分類(lèi)一點(diǎn)組h01l21/64及h01l21/66以外的其它一點(diǎn)組，cpc分類(lèi)在原ipc分類(lèi)基礎(chǔ)上做了更進(jìn)一步的細(xì)分，下位點(diǎn)組最高可達(dá)十點(diǎn)組以上；同時(shí)cpc還從不同于ipc分

4、類(lèi)的角度對(duì)分類(lèi)號(hào)進(jìn)行了衍生擴(kuò)展（如cpc h01l21/02002-h01l21/027）；例外地，cpc還將原ipc的一點(diǎn)組h01l 21/66分類(lèi)移出了h01l21/00大組，在cpc分類(lèi)中重新成立了一個(gè)大組分類(lèi)條目h01l22/00，并在該大組下進(jìn)行了細(xì)分。經(jīng)過(guò)細(xì)分、擴(kuò)展后的半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域的cpc分類(lèi)體系可以幫助審查員提高檢索效率。二、半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域ipc與cpc分類(lèi)號(hào)對(duì)比本章主要從cpc分類(lèi)對(duì)分入ipc一點(diǎn)組h01l 21/02和h01l21/67和h01l21/66中的文獻(xiàn)進(jìn)行擴(kuò)展細(xì)分進(jìn)行比較分析。1.cpc h01l21/02-h01l21/27分類(lèi)與ipc h01l21/

5、02 分類(lèi)比較原分入ipc一點(diǎn)組h01l21/02下共有三個(gè)二點(diǎn)組，cpc在原ipc分類(lèi)的基礎(chǔ)上進(jìn)行了擴(kuò)展分類(lèi)，新加入了三個(gè)二點(diǎn)組，因此cpc在一點(diǎn)組h01l21/02下共有六個(gè)二點(diǎn)組，如下所示：1、cpc新增 h01l21/02002（··） 預(yù)備晶片2、cpc 新增 h01l 21/02041（··） 清洗3、cpc 新增 h01l 21/02104（··） 形成層4、原ipc保留 h01l 21/027 （··） 未在h01l 21/18或h01l 21/34組中包含的為進(jìn)一步的光刻工藝在半導(dǎo)體之上制作掩膜5

6、、原ipc保留 h01l 21/04 （··） 至少具有一個(gè)躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的器件6、原ipc保留 h01l 21/62 （··） 無(wú)躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的器件可見(jiàn)，cpc分類(lèi)在一點(diǎn)組h01l21/02下擴(kuò)展了多個(gè)二點(diǎn)組，并且其下位點(diǎn)組最高可達(dá)9點(diǎn)組，主要是針對(duì)半導(dǎo)體器件的基片的預(yù)處理過(guò)程進(jìn)行了分類(lèi)，基片的預(yù)處理如清洗和形成層在ipc中沒(méi)有相應(yīng)的分類(lèi)號(hào)，而往往很多專(zhuān)利涉及半導(dǎo)體器件制造之前對(duì)晶片的預(yù)處理過(guò)程，因此cpc在該領(lǐng)域的擴(kuò)展分類(lèi)使得半導(dǎo)體制造工藝的過(guò)程的分類(lèi)更加完善，檢索起來(lái)更加有針對(duì)性。2.cpc h01l21/67-h01l21/673分類(lèi)與

7、ipc h01l21/67 分類(lèi)比較cpc對(duì)原分入ipc一點(diǎn)組h01l21/67的文獻(xiàn)進(jìn)行了擴(kuò)展分類(lèi)，新加入了一個(gè)二點(diǎn)組，因此cpc在一點(diǎn)組h01l21/67下共有五個(gè)二點(diǎn)組，如下所示：1、cpc新增 h01l 21/67005 （··） 非專(zhuān)用與其它地方的設(shè)備：制造或處理裝置；監(jiān)測(cè)，分類(lèi)或標(biāo)記用設(shè)備2、原ipc保留 h01l 21/673 （··） 使用專(zhuān)用的載體的3、原ipc保留 h01l 21/677 （··） 用于傳送的，例如在不同的工作站之間4、原ipc保留 h01l 21/68（··） 用于定位、定向或

8、對(duì)準(zhǔn)的5、原ipc保留 h01l 21/683（··） 用于支撐或夾緊的可見(jiàn)，cpc分類(lèi)在一點(diǎn)組h01l21/67下擴(kuò)展了一個(gè)二點(diǎn)組，由于半導(dǎo)體制造工藝中有多種處理工藝，即涉及不同類(lèi)型的處理裝置，此外，在半導(dǎo)體制造過(guò)程中通常會(huì)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)工藝過(guò)程，因此處理裝置中通常還包括監(jiān)控裝置，而該些裝置類(lèi)型在ipc中沒(méi)有相應(yīng)的分類(lèi)號(hào)，cpc對(duì)此進(jìn)行了細(xì)分，擴(kuò)展了半導(dǎo)體制造裝置的分類(lèi)領(lǐng)域，分類(lèi)更為全面。3.cpc h01l22/10-h01l22/34分類(lèi)與ipc h01l21/66 分類(lèi)比較半導(dǎo)體制造的測(cè)試或測(cè)量方法的ipc分類(lèi)號(hào)僅由一個(gè)一點(diǎn)組h01l21/66構(gòu)成， cpc在半導(dǎo)體制造的

9、測(cè)試或測(cè)量方法的分類(lèi)從原ipc所在的h01l21/00大組下分出來(lái)，重組了一個(gè)新的大組h01l22/00，其下目前有三個(gè)一點(diǎn)組，如下所示：ipc（一點(diǎn)組）：h01l 21/66？在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量；cpc（大組）：1、h01l 22/10 （·） 測(cè)量作為制造工藝的一部2、h01l 22/20 （·） 包括多個(gè)測(cè)量、修正、標(biāo)記或分類(lèi)步驟3、h01l 22/30 （·） 專(zhuān)門(mén)適用在制造中的測(cè)試或測(cè)量可見(jiàn)，cpc分類(lèi)在半導(dǎo)體制造的測(cè)試領(lǐng)域進(jìn)行了初步的細(xì)分，該分類(lèi)還有進(jìn)一步可細(xì)化的空間，盡管只是初步的細(xì)分，但較之前僅有一點(diǎn)組的ipc分類(lèi)而言，給審查員在對(duì)該領(lǐng)域案件的審查過(guò)程指明了檢索的方向。三、總結(jié)半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域ipc分類(lèi)比較簡(jiǎn)略和上位，分類(lèi)的角度不夠全面，不利于審查員高效的檢索，而cpc分類(lèi)不僅在原有ipc分類(lèi)分支上進(jìn)行了細(xì)分使得分類(lèi)條目更加詳細(xì)，同時(shí)還做了新的擴(kuò)展，覆蓋面廣，分類(lèi)角度多，可以從不同的角度對(duì)案件進(jìn)行分類(lèi)。因此，審查員在檢索時(shí)，可以優(yōu)先查找更精準(zhǔn)的cpc分類(lèi)號(hào)進(jìn)行檢索，減小漏檢的概率，迅速提高檢索效率。參考文獻(xiàn)：1郭青. 淺析cpc分類(lèi)體系j. 中