光學(xué)薄膜技術(shù)簡(jiǎn)介PPT學(xué)習(xí)教案

1、會(huì)計(jì)學(xué)1光學(xué)薄膜技術(shù)簡(jiǎn)介光學(xué)薄膜技術(shù)簡(jiǎn)介第1頁(yè)/共24頁(yè)第2頁(yè)/共24頁(yè)P(yáng)hotop Confidential輸入：使用條件（入射角，入射介質(zhì)，基片材料），光性要求（工作波長(zhǎng)，反射率，透過(guò)率，偏振態(tài)，位相，顏色等）輸出：膜系，廣義的是可直接執(zhí)行的程序（RUNSHEET，包括控制方式及設(shè)置）驗(yàn)證：（間接）分光光度計(jì)。評(píng)價(jià)設(shè)計(jì)的標(biāo)準(zhǔn): (容限,材料的種類(lèi),工藝時(shí)間)第3頁(yè)/共24頁(yè)P(yáng)hotop Confidential第4頁(yè)/共24頁(yè)rrrrrrrrrrrrnnrrrrrrrNNpNsTENdNiiBCsinsincoscoscos21cossinsincos0011波波）波波（對(duì)對(duì)于于波波）波波

2、（對(duì)對(duì)于于其其中中：TM第5頁(yè)/共24頁(yè)CBCBCBCBR0000CBCBTn00014BCRTRAnRe1111反射率反射率透射率透射率吸收率吸收率 反射相移反射相移CCBBBCCBiarctg200第6頁(yè)/共24頁(yè)矢量法矢量法3212112423221iiierererrr如果忽略膜層內(nèi)的多次反射，如果忽略膜層內(nèi)的多次反射，則合成的振幅反射系數(shù)由每一則合成的振幅反射系數(shù)由每一界面的反射系數(shù)的矢量和確定界面的反射系數(shù)的矢量和確定。每個(gè)界面的反射系數(shù)都聯(lián)帶。每個(gè)界面的反射系數(shù)都聯(lián)帶著一個(gè)特定的相位滯后，它對(duì)著一個(gè)特定的相位滯后，它對(duì)應(yīng)于光波從入射表面進(jìn)至該界應(yīng)于光波從入射表面進(jìn)至該界面又回到入

3、射表面的過(guò)程面又回到入射表面的過(guò)程 第7頁(yè)/共24頁(yè)第8頁(yè)/共24頁(yè)第9頁(yè)/共24頁(yè)第10頁(yè)/共24頁(yè)第11頁(yè)/共24頁(yè)第12頁(yè)/共24頁(yè)第13頁(yè)/共24頁(yè)第14頁(yè)/共24頁(yè)第15頁(yè)/共24頁(yè)第16頁(yè)/共24頁(yè)第17頁(yè)/共24頁(yè)蒸發(fā)控制系統(tǒng)真空系統(tǒng)膜厚控制系統(tǒng)離子源輔助系統(tǒng)-離子源-溫控-工作氣體第18頁(yè)/共24頁(yè)靶材離子源待鍍基片輔助源靶材第19頁(yè)/共24頁(yè)靶材Nb氧離子發(fā)生器靶材Si氧離子發(fā)生器O+第20頁(yè)/共24頁(yè)種類(lèi) / 型號(hào)生產(chǎn)廠家優(yōu)點(diǎn)缺點(diǎn)IAD/ APS1104 APSpro1104 德國(guó) LEYBOLD技術(shù)成熟,性能穩(wěn)定設(shè)備成本高,運(yùn)行費(fèi)用高,IAD/OTFC1300日本OPTORUN技術(shù)基本成熟,性能穩(wěn)定,性?xún)r(jià)比較高長(zhǎng)期穩(wěn)定性?SPUTTER/VEECO SPECTOR美國(guó)VEECO公認(rèn)膜層質(zhì)量最高的機(jī)器, 穩(wěn)定性好可鍍的面積少,成本很高SPUTTER/RAS, MM日本SHINCRONULVAC產(chǎn)能大