一種基于襯底驅(qū)動(dòng)PMOS晶體管的低壓共源共柵電流鏡_第1頁
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文檔簡介

1、第12卷 第2期 電路與系統(tǒng)學(xué)報(bào) Vol.12 No.2 2007 年 4 月 JOURNAL OF CIRCUITS AND SYSTEMS April, 2007 文章編號(hào):1007-0249 (2007) 02-0030-04一種基于襯底驅(qū)動(dòng)PMOS晶體管的低壓共源共柵電流鏡朱樟明, 楊銀堂, 尹韜, 張海軍, 張寶君(西安電子科技大學(xué) 微電子研究所,陜西 西安 710071) *摘要:基于襯底驅(qū)動(dòng)PMOS晶體管設(shè)計(jì)了低壓PMOS襯底驅(qū)動(dòng)CMOS共源共柵電流鏡電路(BDCCM),并討論分析了其輸入阻抗、輸出阻抗和頻率特性。基于TSMC 0.25m 2P4M CMOS工藝的仿真和測(cè)試結(jié)果說

2、明,BDCCM的最低輸入壓降要求只有0.3V,但是其輸入輸出線性度和頻率帶寬要比傳統(tǒng)的共源共柵電流鏡低,是低頻低壓CMOS模擬集成電路設(shè)計(jì)的新型高性能共源共柵電流鏡。關(guān)鍵詞:襯底驅(qū)動(dòng);電流鏡;CMOS;低壓;低功耗中圖分類號(hào):TN402 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A1 引言隨著便攜式電子產(chǎn)品和深亞微米集成電路技術(shù)的不斷發(fā)展,集成電路的電源電壓越來越低。目前,1.8V(0.18µm)和1.5V(0.15µm)的電源電壓已開始被廣泛使用,而1.2V(0.13µm)和0.9V(90nm)的電源電壓也將被應(yīng)用于存儲(chǔ)器(Memory)及片上系統(tǒng)(SoC)設(shè)計(jì),所以研究基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝

3、的低壓CMOS模擬集成電路是十分必要的。電流鏡作為CMOS模擬集成電路的主要基本電路單元之一,廣泛應(yīng)用于各種模擬集成電路設(shè)計(jì)5。眾所周知,對(duì)于柵漏相連的柵驅(qū)動(dòng)電流鏡(GDCM),輸入電壓VIN至少比VT大250mV,以滿足MOS器件在飽和區(qū)內(nèi)工作,從而基于深亞微米CMOS工藝所實(shí)現(xiàn)的VIN很容易就達(dá)到0.9V1.0V;對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)柵驅(qū)動(dòng)共源共柵電流鏡(GDCCM),雖然增加了電流的匹配性能和增大輸出阻抗,但是為了要保證在MOS器件在飽和區(qū)內(nèi)工作,輸出電壓要求至少比VT大500mV,而輸入電壓VIN則至少比2VT大500mV,即在VT為0.6V時(shí),分別需要1.1V和1.7V。無論是GDCM,還是GD

4、CCM,都完全不能滿足低壓CMOS模擬電路的設(shè)計(jì)要求,所以必須設(shè)計(jì)新的電流鏡電路結(jié)構(gòu)來滿足低壓CMOS模擬集成電路的設(shè)計(jì)要求16。本文基于PMOS襯底驅(qū)動(dòng)技術(shù)設(shè)計(jì)了低壓PMOS襯底驅(qū)動(dòng)CMOS共源共柵電流鏡電路,討論分析了基本特性?;赥SMC 0.25µm 2P4M CMOS工藝的BSIM3V3模型,采用Hspice對(duì)低壓PMOS襯底驅(qū)動(dòng)CMOS共源共柵電流鏡進(jìn)行了仿真分析,其結(jié)果并與柵驅(qū)動(dòng)共源共柵電流鏡的特性進(jìn)行了比較分析。2 低壓CMOS襯底驅(qū)動(dòng)共源共柵電流鏡圖1為低壓PMOS襯底驅(qū)動(dòng)CMOS共源共柵電流鏡(BDCCM),能有NMOS襯底驅(qū)動(dòng)CMOS共源共柵電流鏡也可以同樣實(shí)現(xiàn)

5、。在圖效減小VIN和VOUT端的閾值電壓限制,1所示的低壓BDCCM,所有的PMOS管柵端都固定在VG(一般為Vss)來提供源漏間的導(dǎo)電溝道,而N阱端(即PMOS的B端)則用來作為偏置,通過阱源結(jié)的弱正偏來建立漏電流1。由圖1可以得到:VSD2=VSD1+VSB3-VSB4,VSG1=VSG2,VSB1=VSB2,而VSB1=VSD1,VSB3=VSD3。當(dāng)IIN>ISDS,MP1時(shí)VSB>0,此時(shí)MP1和MP2管的阱源結(jié)工作在弱正偏,如果MP3與MP1管匹配,即ISDS,MP3ISDS,MP1,而由于VSD1為正,VSD2會(huì)大于零(ISDS是在給定VGS偏壓,VBS0V時(shí)的飽和漏

6、電流)。這樣,VSD2+VSB4>0V,所* 收稿日期:2006-09-15 修訂日期:2006-11-20 ) )圖1 PMOS襯底驅(qū)動(dòng)共源共柵電流鏡第2期 朱樟明等:一種基于襯底驅(qū)動(dòng)PMOS晶體管的低壓共源共柵電流鏡 31 以MP2管開始導(dǎo)通。前面提到的情況,除了直流反饋之外,特別是VSD1+VSB3=VSD2+VSB4和器件的匹配,迫使IIN=IOUT。BDCCM的輸入壓降和輸出壓降可以描述為|(VDDVIN)|(min,BD)=VSB1+VSB3 (1) |(VDDVOUT)|(min,BD)=VSD,Sat(MP4)+VSD,Sat(MP2)2VSD,Sat (2)而對(duì)于柵驅(qū)動(dòng)

7、共源共柵電流鏡,最小輸入、輸出壓降為|(VDDVIN)|(min,GD)=|2VT|+|2Vov| (3) |(VDDVOUT)|(min,GD)=|VT|+|2Vov| (4) 其中,VSD,Sat對(duì)應(yīng)PMOS工作在飽和區(qū)時(shí)的最小源漏電壓,Vov為PMOS的過驅(qū)動(dòng)電壓。對(duì)比式(1)和式(3)可以發(fā)現(xiàn),由于源襯結(jié)的弱正偏,VSB可以很小,因此BDCCM的輸入壓降要遠(yuǎn)低于2|VT|(大約1.2V);而由式(2)和式(4),BDCCM的最小輸出電壓比GDCCM也有一定降低。決定PMOS襯底驅(qū)動(dòng)電流鏡輸入電阻的小信號(hào)電路如圖2所示,小信號(hào)輸入電阻為V1111+gm3+ rin=IN=g+gg+g (

8、5) g+gIINgg+ds1ds3ds1mb3ds3mb1mb3mb1可以簡化為:11 ringm3g+gg+g (6)ds1mb3ds3mb1其中,gds是MOS管輸出導(dǎo)納,為1/ro。由于晶體管MP1和MP3是襯底驅(qū)動(dòng)的,因此gmb1、gmb3<gm,這使得gds1和gds3和gmb1、gmb3可以相比。假設(shè)MP1和MP2完全匹配,gm3gmb,圖2 計(jì)算輸入電阻的小信號(hào)等效電路則公式(6)簡化為1191 rin=gm32g2g=4g=2.25(gm3) (7) mb3mb1m3GDCCM的輸入阻抗2(gm3)-1,從公式(7)可以看出BDCCM的輸入阻抗與柵驅(qū)動(dòng)可以相比。圖3為N

9、MOS襯底驅(qū)動(dòng) BDCCM的輸出阻抗小信號(hào)等效電路,輸出電阻可以表示為圖3 計(jì)算輸出電阻的小信號(hào)等效電路 rout=VOUT=rO2+rO4+rO2rO4(gmb4+gm4) (8) IOUT可以簡化為routrO2rO4(gmb4+gm4) (9)由式(8)和式(9)可得,BDCCM的輸出阻抗與柵驅(qū)動(dòng)的相同,由于rO2和rO4的乘積很大,輸出阻抗rout在幾十到幾百兆歐姆范圍,因此作為電流鏡或電流源有著非常好的性能。BDCCM的小信號(hào)頻率響應(yīng)為igmb2× outiinBDCbs1,2+Cbsub1,2+Cbd1+Cgs31s+Cbs1,2gmb1+gds1+Cbsub1,2+Cb

10、d1+Cgs3 (10)表明單主極點(diǎn)由MP1,MP2阱相連節(jié)點(diǎn)處的小信號(hào)阻抗所決定。作為比較,熟悉的GDCCM的頻率響應(yīng),其電流比為(用與BDCCM相同的器件名稱)32 電路與系統(tǒng)學(xué)報(bào) 第12卷 Vgs2Vgs1ioutgm2|GDgm2=gm2×iiniiniinCgs1+Cgs2+Cbd1s+1m1ds1Cgs1+Cgs2+Cbd1 (11)其中,由于電路工作時(shí)其兩端有較大的反偏電壓,因此忽略了Cbd3。式(10)形式上與式(11)相似,都有一個(gè)由共源器件耦合節(jié)點(diǎn)所決定的主極點(diǎn),但是由于主極點(diǎn)有關(guān)的寄生電容小于BDCCM的,且gm>gmb,因此柵驅(qū)動(dòng)共源共柵電流鏡有較大的帶

11、寬。然而BDCCM可以在1V電源電壓下工作,柵驅(qū)動(dòng)的卻不可以。3 襯底驅(qū)動(dòng)和柵驅(qū)動(dòng)共源共柵電流鏡的比較分析與討論襯底驅(qū)動(dòng)共源共柵電流鏡(BDCCM)在TSMC 0.25µm 2P4MCMOS工藝下的仿真結(jié)果如下,其中PMOS管的寬長比為400µm/4µm,典型閾值電壓為-0.6V,采用雙電源VDD=0.75V,VSS=-0.75V。為了對(duì)比性能,對(duì)傳統(tǒng)柵驅(qū)動(dòng)共源共柵電流鏡(GDCCM)也進(jìn)行了仿真,仿真電源電壓為VDD=1.5V,VSS=-1.5V。'圖4和5分別為BDCCM和GDCCM的仿真電流曲線,其中VIN圖4 BDCCM仿真電流圖5 GDCCM仿真

12、電流為轉(zhuǎn)換后的輸入壓降,由兩圖BDCCM與GDCCM相比輸入壓降要求由1V以上下降到了0.3V左右,可見電流鏡中使用襯底驅(qū)動(dòng)技術(shù)可以明顯的降低輸入電壓的要求。但是由圖4可以發(fā)現(xiàn),只有當(dāng)輸入電流大于30µA后,BDCCM的輸出與輸入電流才實(shí)現(xiàn)了良好的匹配,即正確實(shí)現(xiàn)電流鏡鏡像電流的功能。圖6為BDCCM與GDCCM的輸入特性,從中可以明顯的看出不同輸入電流下所需輸圖6 BDCCM與GDCCM的輸入特性圖7 BDCCM與GDCCM輸入輸出傳輸特性,兩者的差別入壓降的差別,在BDCCM正常工作后(IIN>30µA時(shí)),證明了PMOS襯底驅(qū)動(dòng)電流鏡電路的低接近1.7V(大于兩

13、個(gè)|VTP|)壓應(yīng)用優(yōu)勢(shì)。圖7為BDCCM與GDCCM的輸入輸出傳輸特性,在輸入電流小于30µA的條件下,BDCCM的線性度要比GDCCM差一些,但是在輸入電流大于30µA的條件下,BDCCM的線性度基本與GDCCM一致。BDCCM與GDCCM的頻率特性如圖8所示,可見BDCCM的帶寬要比GDCCM的小一些,如式(10)和(11)所示,GDCCM中與主極點(diǎn)有關(guān)的寄生電容小于BDCCM的寄生電容,而且gm>gmb,因此BDCCM也犧牲了一部分頻率特性。仿真結(jié)果表明,雖然PMOS襯底驅(qū)動(dòng)技術(shù)的引入使得電流鏡的線性度和頻率帶寬有所下降,但BDCCM卻解決了GDCCM對(duì)輸入壓

14、降的較高要求,把輸入壓降要求由1V以上降低至0.4V左右,可以實(shí)現(xiàn)亞1V低電源電壓下的正常工作,為低壓CMOS模擬集成電路設(shè)計(jì)提供了一種性能良好的新型共源共柵電流鏡。 圖8 BDCCM與GDCCM的頻率特性4 襯底驅(qū)動(dòng)共源共柵PMOS電流鏡的實(shí)驗(yàn) 圖9 BDCCM照片本文對(duì)圖1所示的BDCCM進(jìn)行了流片驗(yàn)證及測(cè)試,工藝為TSMC 0.25µm 2P4M CMOS工藝,圖9為BDCCM電路的物理照片。流片結(jié)果采用HP4156B半導(dǎo)體參數(shù)分析儀進(jìn)行測(cè)試分析,測(cè)試結(jié)果如第2期 朱樟明等:一種基于襯底驅(qū)動(dòng)PMOS晶體管的低壓共源共柵電流鏡 33'圖10所示,其中VDS=VIN(轉(zhuǎn)換后

15、的輸入壓降),輸入壓降的測(cè)試范圍為01.0V,可以得出BDCCM其最低輸入壓降要求為0.3V。圖10中不同的曲線表示不同的輸入?yún)⒖茧娏?,只有?dāng)輸入?yún)⒖茧娏鞔笥?0µA后,BDCCM的輸出與輸入電流才實(shí)現(xiàn)了良好的匹配,即正確實(shí)現(xiàn)電流鏡鏡像電流的功能。 圖10 BDCCM測(cè)試電流曲線(HP4156B)5 結(jié)論P(yáng)MOS襯底驅(qū)動(dòng)技術(shù)消除了信號(hào)通道上閾值電壓的限制,能有效降低CMOS模擬電路對(duì)電源電壓的要求,是基于標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝實(shí)現(xiàn)低壓模擬集成電路設(shè)計(jì)的一種重要方法。本文利用PMOS襯底驅(qū)動(dòng)技術(shù)設(shè)計(jì)了低壓PMOS襯底驅(qū)動(dòng)CMOS共源共柵電流鏡電路,其最低輸入壓降要求為0.3V,但是PMOS襯

16、底驅(qū)動(dòng)技術(shù)的引入使得BDCCM的線性度和頻率帶寬有所下降,所以BDCCM是可以應(yīng)用于低頻低壓CMOS模擬集成電路設(shè)計(jì)中的新型高性能共源共柵電流鏡。參考文獻(xiàn):1 Xuguang Zhang, Ezz I EI-Masry. A Regulated Body-Driven CMOS Current Mirror for Low Voltage Applications J. IEEE Trans. Circuitsand Systems-II: Express Briefs, 2004, 51(10): 571-577.2 Shouli Yan, Edgar Sanchez-Sinencio. L

17、ow Voltage Analog Circuit Design Techniques: A Tutoria J. IEICE Trans. Analog IntegratedCircuits and Systems, 2000, E00-A(2): 1-17.3456 S S Rajput, S S Jamuar. Low Voltage Analog Circuit Design Techniques J. IEEE Circuits and Systems Magazine, 2002, 2(1): 24-42. 尹韜, 朱樟明, 楊銀堂. 襯底驅(qū)動(dòng)MOSFET特性分析及超低壓運(yùn)算放大器

18、設(shè)計(jì)J. 半導(dǎo)體學(xué)報(bào), 2005, 26(1): 158-162. 朱樟明, 楊銀堂. 一種基于0.35µm CMOS工藝的14位100MS/s DAC設(shè)計(jì)J. 固體電子學(xué)研究與進(jìn)展, 2004, 24(2): 192-196. 張海軍, 楊銀堂, 朱樟明. 一種基于襯底偏置的超低壓CMOS運(yùn)算放大器J. 電路與系統(tǒng)學(xué)報(bào), 2006, 11(1): 12-15.,男,浙江嵊州人,西安電子科技大學(xué)微電子研究所博士、副教授,研究方向?yàn)楦咚俑咦髡吆喗椋褐煺撩鳎?978-)分辨率數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器、低壓低功耗模擬集成電路及高性能SoC及NOC體系結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì);楊銀堂(1962-),西安電子科技大學(xué)副校長、微電子研究所所長、教授、博士生導(dǎo)師,國家電子元器件專家組副組長,研究方向?yàn)閂LSI技術(shù)、深亞微米模擬集成電路設(shè)計(jì)、新型半導(dǎo)體器件和電路設(shè)計(jì)。A low voltage bulk-driving PMOS cascode current mirrorZHU Zhang-ming, YANG Yin-tang, YIN Tao, ZHANG Hai-jun, ZHANG Bao-jun( Microelectronics Institute, Xidian University, Xian 710071, China )

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