布魯克核磁培訓(xùn)電子版資料文檔

1、、核磁應(yīng)用培訓(xùn)筆記、一維H譜實(shí)驗(yàn)操作流程1、新建一個(gè)實(shí)驗(yàn)，可以直接輸入 New命令，name樣品名稱；PROCNO:處理 號；Solvent：不代表鎖場的溶劑，只影響最后打印譜圖參數(shù)中溶劑項(xiàng)的顯示；Expenriment Dirs：標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)，不代表脈沖系列；User下，可以建立自己的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)；H譜的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)名稱是：proton2、getprosol：把相關(guān)的脈沖參數(shù)保存在 Acqupars表中：Acqupars-PL13、鎖場，可以直接點(diǎn)擊Lock圖表選擇溶劑后鎖場，或者輸入命令 LOCK空格 溶劑名稱直接鎖場；鎖場的目的？4、atma： topshim5、NS輸入數(shù)值6、rga7、 za即z

2、ero go 的簡寫Notice：(1)調(diào)諧：做同一樣品的不同譜圖時(shí)需要重新做一次調(diào)諧。(2)當(dāng)?shù)谝淮蝿驁霾缓玫臅r(shí)候，可以輸入命令 topshim+空格+tunea進(jìn)行二次勻 場，若多次勻場后仍然不能達(dá)到好的狀態(tài)則需要做三維勻場。(3)同一溶劑的樣品，建議在同一時(shí)段做譜，有利于勻場。(4)勻場不好的原因有以下幾個(gè)方面：樣品中含有順磁性金屬離子高粘度 樣品溶液高度太低。8、部分參數(shù)的設(shè)置(1) eda采樣參數(shù)設(shè)置：可以輸入命令 ased進(jìn)入?yún)?shù)設(shè)置界面；PULPROG:脈沖系歹名稱，zg30:30度角激發(fā)，zg: 90度角激發(fā)；AQ-mod:采樣模式TD:采樣點(diǎn)數(shù)NS:采樣次數(shù)DS:空掃：真正開

3、始采樣前先采集的次數(shù)，做一維譜時(shí)可設(shè)為0,二維譜空掃的次數(shù)設(shè)置非常重要。TD0,真正采樣次數(shù)，NS*TD0 ,如TD0設(shè)為10, NS為1024,則總采樣次數(shù)為 1024*10 SW譜寬，用默認(rèn)的譜寬即可，其中 SW與AQ成反比O1P, O1,中心頻率，其中前者是以ppm為單位，后者是以HZ為單位。最右邊：譜寬/2+O1P（ 2）和脈沖系列有關(guān)的參數(shù)DE值，采樣結(jié)束后等待衰減的時(shí)間。做雜核時(shí)需要更改。D1:弛豫延遲，做定量H譜時(shí)需要更改 P1 激發(fā)脈寬；PL1（ dB） ：激發(fā)功率；9、譜圖處理（ 1） Procpars ：窗口函數(shù) efp ：指數(shù)函數(shù)，em、 ft 、 pk 三個(gè)命令的組合

4、gfp ：高窗函數(shù)：gm、 ft 、 pk 三個(gè)命令的組合apk:根據(jù)當(dāng)前的樣品來調(diào)PHC,PHC,1當(dāng)譜峰有很多鼓包時(shí)使用效果不好。Notice : LB值越大信噪比越好，分辨率越差，LB值越小，分辨率越好。LB0是相對于efp函數(shù)而言的，當(dāng)調(diào)節(jié)LB值為負(fù)，信噪比仍然不好時(shí)，可用gfp 函數(shù)，先更改GB值，再輸入GF項(xiàng)令沖零也可以提高分辨率。（ 2）定標(biāo)（ 3）直接輸入plot 命令，進(jìn)入打印界面。（ 4）如何創(chuàng)建模板？C:BrukerTopspinPlotLayouts, 先另取名字創(chuàng)建模板，再將模板文件夾下的默認(rèn)模板刪除，如H譜的默認(rèn)模板是：1D-Hxwp先刪除該模板，再將自己創(chuàng)建的模板

5、改為默認(rèn)模板的名字。二、如何做H 譜的定量？與標(biāo)準(zhǔn)一維氫譜相比，需要做一下變換1、將脈沖系列zg30 改為zg，2、找內(nèi)標(biāo)，兩個(gè)峰挨的很近且基線分離，一般很難找到合適的內(nèi)標(biāo)物。3、調(diào)整O1P,使彳導(dǎo)O1Pft兩個(gè)峰之間4、NS要足夠大，為了保證較好的信噪比，定量最起碼要做半個(gè)小時(shí)以上。5、D15T1,D1要大于5倍的T1,首先要找最大的T1, D1的時(shí)間要足夠長。三、碳譜：碳譜的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)為C13CPD2、 atma 3、采樣參數(shù)的設(shè)置：譜寬sw一般設(shè)置為250,O1P, NS TD0,4、 rga5、 zg6、 tr 命令：保存數(shù)據(jù)，繼續(xù)采樣；如tr4 ，保存最近4 次的 2 倍。7、 efp

6、 ： apk8、ppf :對碳譜的全譜進(jìn)行標(biāo)峰。9、Mi+數(shù)字+PPF表示強(qiáng)度低于該數(shù)值的不標(biāo)峰。10、 go 命令，樣品濃度太低的情況下，過夜采集仍然不能得到理想的譜圖，第二天白天需做其他譜圖，可在第二天晚上將前一天晚上采集的譜圖拖動到當(dāng)前窗口，重新放入樣品鎖場調(diào)節(jié)后可以輸入GO命令進(jìn)行累加采集。11、和脈沖相關(guān)的參數(shù)CPDPRG2通常情況下用 Waltz16,做氫譜、碳譜的90度脈沖沒有問題，做 雜核時(shí)需要更改。Notice ：看到碳譜有裂分，首先要考慮是否有同分異構(gòu)體，再考慮更改CPDPRG2選擇帶bi的參數(shù)。四、碳譜定量實(shí)驗(yàn)(實(shí)驗(yàn)時(shí)間相對很長，需要加弛豫試劑以減短實(shí)驗(yàn)時(shí)間。)1、標(biāo)準(zhǔn)實(shí)

7、驗(yàn)選擇 CBIG newok2、將zgig30 改為 zgig3、DS:0加弛豫試劑后會影響鎖場和勻場。五、DEPT柒(45、90、135 )1、NewC13DEPT900K2、 getprosol3、修改參數(shù)：(1)改動參數(shù)NS采樣次數(shù)是普通碳譜采樣次數(shù)的 1/4.(2)Pulseprog查看與脈沖相關(guān)的參數(shù)，其中 NS是4的倍數(shù)。(3)DS=8, NS=4 SW譜寬，O1P.4、 rga ： zgNotice ：(1) DEPT45只出現(xiàn)季碳；DEPT135只出現(xiàn)CH(2) HALT格數(shù)字(3) SR值，從校正后的普通碳譜的處理參數(shù)中 copy SR值，復(fù)制到DEPTf圖 中，可將DEPT

8、f圖中的化學(xué)位移與普通 C譜的化學(xué)位移對齊。六、如何將多種譜圖打印在同一張圖上？方法一：1、先將全譜圖調(diào)出并標(biāo)好化學(xué)位移。2、選擇 1D+1D+1DxwpXER模板3、在data中，點(diǎn)擊ADD選擇實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)現(xiàn)在的位置，將需要的數(shù)據(jù)拖入，點(diǎn)擊 Apply ,確定。此方法的優(yōu)點(diǎn)是可以對每一張譜圖進(jìn)行修改。、方法二：1、隨意拖入一張譜圖，輸入plot2、全選中，并刪除原有譜圖3、在 DATA1 面選譜圖，APPLYOK;4、在右側(cè)選擇多個(gè)譜圖疊加的圖標(biāo)，三條重疊的折線；5、在空白處拖動鼠標(biāo)，出現(xiàn)第一張譜圖6、右擊選擇Edit ，選擇 steaked ，輸入譜圖張數(shù)。Spectra ： 0*5,0 表示

9、左右偏移量，5 表示上下偏移量。此方法的缺點(diǎn)是不能單獨(dú)修改每一張譜圖。七、一些補(bǔ)充注意事項(xiàng)1、BBf,探頭。2、新安裝儀器可以做的核有 H、C、P、F、N,可以直接選擇標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)，直接調(diào)用標(biāo)準(zhǔn)模板。P31CPDr去偶，zgpg30; P31: zg。LOC后可以直接輸入一系列命令，點(diǎn)擊 ENTERS接完成。3、做雜核前要先確認(rèn)兩件事情：（ 1）有無脈寬和功率（2）有無標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)；4、P的化學(xué)位移的標(biāo)定：外標(biāo)法。把標(biāo)準(zhǔn)品（查找網(wǎng)上文獻(xiàn)）放到P 樣品中測定核磁，將標(biāo)準(zhǔn)品的化學(xué)位移定位為0后看SR值，再將SR值復(fù)制粘貼到后續(xù)做的P譜圖上，再標(biāo)定化學(xué)位移。標(biāo)準(zhǔn)品：85%磷酸溶液。不鎖場、不勻場，直接調(diào)諧、

10、prosol 。不鎖場實(shí)驗(yàn)：（1）打開BSMS1盤，將lock變成灰色。（2） sweep要變成灰色（即將（1） （2）的 ON-OFF1 B OFF掉）（3） atma； rga ; zg;八、對于沒有標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)、沒有脈寬和功率的雜核如何入手做？以B11 為例。1、首先查詢該雜核的旋磁比、天然豐度，對于天然豐度太低的要求濃度高些，或者很難做出來。Help - NMRGuid - eNMREncyclopedia - NMRApplication - NMRpenddic Table f點(diǎn)擊要做的元素查看旋磁比和天然豐度。2、先借用C譜的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)，新建一個(gè)實(shí)驗(yàn)，當(dāng)旋磁比為正時(shí)標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)選擇C13C

11、PD 當(dāng)旋磁比為負(fù)時(shí)標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)選擇 C131G點(diǎn)ok。3、更改參數(shù)查看Acqpar參數(shù)（都是C13的參數(shù)）-getprosol （讀取C的脈寬和功率）輸 入edsp命令-把F1維中的C13改為B11,F2維不變fDefault -Save再次回到 Acqupars參數(shù)中fNS（掃描次數(shù)）、SW借寬，盡量設(shè)寬些400）, O1P（先貝S予0） +-200位置找峰，D1 （經(jīng)驗(yàn)值）2S,對0也適合，（事先查D1值，太大可加弛豫 試劑）flock , topshim f輸入atmm（不能用atma,手動調(diào)諧，第一次做核時(shí)必 須用手動調(diào)諧。）-出現(xiàn)Tuning對話框，若點(diǎn)找不到會動的倒峰，則點(diǎn)擊 圖標(biāo)，

12、放大范圍，都調(diào)好后點(diǎn) FileSave positionExit f輸入atma； rga ; zg,彈出rga對話框，點(diǎn)OK輸入密碼Bruker,接著彈出zg警告fhalt8 , efp ; apkf輸入sref彈出警告，close （將O1P放在最佳位置）-edmac （宏命令）+ 空格+名稱（隨意命名）。校準(zhǔn)背景信號，第一段（第一行，absf1+ 空格 +最大值；第二行，absf2+ 空格 +次大值；第三行，absf）；第二段（第一行，absf1 +空格+最大值；第二行，absf2+ 空格 +次大值；第三行，absf） ； Notice ：下一段的開始是上一段的結(jié)束，進(jìn)入鼓包區(qū)域后區(qū)間要

13、變小，節(jié)點(diǎn)值不能正好落在峰的最高點(diǎn)，從最左端分多段編輯到最右端。編輯好后保存。f輸入 BL命令 4、如何創(chuàng)建標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)?zāi)０?？輸入wparf在user下，不能存在par上面-點(diǎn)擊write new輸入實(shí)驗(yàn)名稱， OQOKclose fnew不能getprosol （90%!水10%K疊代鈉標(biāo)樣，可以用來建 立O的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)，也可以用來建立Na的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)，需要做Pt的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室，可 打電話讓工程師過來設(shè)置，另外做其他雜核的定量需用到 C131G脈沖系列，需要 請工程師調(diào)90 度脈沖的脈寬和功率，請工程師來做核。）九、部分二維實(shí)驗(yàn)溫馨提示：二維譜實(shí)驗(yàn)最重要的就是控溫。（一） 、實(shí)驗(yàn)一1、New建立一個(gè)新

14、實(shí)驗(yàn)，標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)選擇 COSYGPMFSW梯度場進(jìn)行相關(guān)路徑的 選擇。其中GP表示梯度；MF表示多量子粒波，SW蒞示方波，標(biāo)準(zhǔn)波形。多量子 粒波的好處：可以從對角峰上看到單峰的性質(zhì)，簡化對角峰，易于解析。2、 lock3、 atma； topshim ； getprosol ，調(diào)諧的目的是為了接收線圈的頻率與中心頻率保持一致，提高靈敏度。DS空掃16次。Pulseprog :查看脈沖系列。TD,F2維 2000左右；F1維，大于256 （設(shè)高一點(diǎn)可以提高分辨率）。采采樣模式：QF與 采樣相關(guān)的參數(shù)：TDD NS DS SW O1P其中NS DS的設(shè)置可以參考限定值。輸入命令ased,可以查看與脈

15、沖系列相關(guān)的參數(shù)，基本不需要自行修改。4、 rga； zg5、譜圖處理（ 1）輸入命令xfb 進(jìn)行變換，其中xf 表示加窗函數(shù)，b 表示兩個(gè)維度。（ 2）調(diào)進(jìn)一維譜選中一維譜，右擊，選擇 display As 2D projection 。選F1+F2（ 3）點(diǎn)等高線調(diào)整圖標(biāo)（一個(gè)沒有底邊的三角弧形，中間幾條平行線穿過）進(jìn)行等高線調(diào)整。Level increment ： 1.2-1.3 即可； Number of levels （等高線數(shù)）：32; Fill -Apply-OK或者可以輸入命令clev+32可得到等高線數(shù)目。（ 4）校準(zhǔn)（即定標(biāo)）放大譜圖進(jìn)行定標(biāo)。（ 5） 去除噪音，選中噪音，

16、輸入命令proj ， 選擇 UPdata rows/cols from displayf okf再選擇最上面的calculate positive projection f輸入sub2 （對正峰和 負(fù)峰都去除噪音）（二） 、實(shí)驗(yàn)二1、New標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)選擇：MLEVPHSW,冊相位；MLEVg示自旋鎖定或自旋傳遞； SWI示方波，形狀脈沖SP;查看與脈沖系列相關(guān)的參數(shù)，其中NS=8*n,DS=16*n； TD（F2=2048 F1256）SW,O1PD9自旋鎖定時(shí)間，默認(rèn)值為0.08S,即混合時(shí)間（設(shè)短的話可能會無法調(diào)整相位）2、 lock3、 atma； topshim ； getprosol

17、；4、譜圖處理（ 1）輸入命令xfb 變換譜圖（ 2）調(diào)等高線（ 3）調(diào)相位，先調(diào)0 級相位，再調(diào)1 級相位。（ 4）校準(zhǔn)（三）實(shí)驗(yàn)三1、New NOESYPHSW用于大分子2、NS 8*N; DS:16*N;D8混合時(shí)間，空間 cosy45sw （先借用）2、 Pulprog ： jresqf （消除化學(xué)位移，保留耦合常數(shù)）3、 NS:4*N； DS： 16；4、F2維（化學(xué)位移）；F1維（耦合常數(shù)）SW=20, SWH=50HZO1P只針對F2設(shè)定值，F(xiàn)1不用設(shè)。5、 getprosol6、 lock7、 atma； topshim ； rga； zg；（六）實(shí)驗(yàn)六H-C相關(guān)的二維譜1、N

18、ew選擇標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)：HSQCETGPSISP,ET示采樣模式為回波反回波采樣；GP 梯度；SI靈敏度增強(qiáng)；SP形狀脈沖，讓激發(fā)更均勻。2、輸入命令eda,進(jìn)行采樣參數(shù)設(shè)置：NS=1*N,D竽16,TD,SW譜寬（F2為H譜譜 寬，F(xiàn)1為C譜譜寬）；輸入命令ased可進(jìn)行與脈沖系列有關(guān)的參數(shù)設(shè)置， CNST2單位為HZ,C 和H直接耦合常數(shù)的平均值。 GPZ2 C：20.1%, N15, 8.1%,若有些雜核沒有顯示，則改核后可以輸入命令gradratio 查看3、 lock4、 getprosol ； atma； topshim5、 rga； zg（七）實(shí)驗(yàn)七1、Ne*HMBCGPNDND表示在

19、采樣時(shí)間內(nèi)不進(jìn)行去耦。2、 （ 1）采樣參數(shù)設(shè)置NS=2， DS=16,O1P=?,SW=?（2）與脈沖系列相關(guān)的參數(shù)設(shè)置，CNST13遠(yuǎn)程耦合常數(shù)，系統(tǒng)默認(rèn)一般為 8HZ,可以適當(dāng)?shù)販p小，當(dāng)看不到交叉峰時(shí)，可能該值設(shè)大了，也可能是因?yàn)?二面角的原因。，通過耦合常數(shù)可以計(jì)算二面角的大小。3、 lock4、 atma； topshim ； rga； zgNotice : HMBCI圖中可能存在HSQC勺殘余峰。（八）實(shí)驗(yàn)八，在HMBCT維譜中去除HSQC勺殘余峰。1、newHMBCGPND,Ttitle J-Filter HMBC2、更改脈沖系列及參數(shù)將 Pulprog -HMBCGPL2ndq

20、f（1）輸入命令 eda,更改采樣參數(shù)，NS=2*N,DS=16 QF TD（分 F1, F2）, O1P（2）輸入命令 ased,更改與脈沖系列相關(guān)的參數(shù)，CNST6:120HZ;CNST7180HZ,在該區(qū)間內(nèi)HSQC!余峰去除。CNST13百分比根據(jù)右側(cè)提示填寫。3、 getprosol4、 lock5、 atma； topshim ； rga； zg十、完整的二維譜圖處理過程1 、輸入 xfb ，譜圖變換；2、調(diào)入一維譜，選擇F1+F2, fok3、 clev32 ，修改等高線。4、校正相位（NOESY ROESYTOCSY HSQCI要校正相位，其他的不需要）點(diǎn) 相位校正圖標(biāo)，選幾個(gè)

21、點(diǎn)，ADD先校正紅線所在的位置。5、定標(biāo)：先定好一維譜，讀出化學(xué)位移，再點(diǎn)擊定標(biāo)圖標(biāo)，找出中心位置進(jìn)行 定標(biāo)。6、去除噪音，（ T1 噪音的去處），左邊沒有信號的投影。Proj fedit -update-okf第一個(gè)正峰第二個(gè)負(fù)峰，輸入 sub2。7、可以通過選擇性預(yù)測提高 F1的分辨率，edp-procpars -founer fME_mod 選才? LPfr （LP表示線性預(yù)測，fr表示向前的）-NCOERHH相關(guān)選100, HC 相關(guān)選32） 。此處理的缺點(diǎn)是可能產(chǎn)生鬼峰。十一、核磁的維護(hù)（一）硬件維護(hù)1、機(jī)柜里面的濾網(wǎng)一般一年清洗一次2、建議每周重啟電腦一次3、打開機(jī)柜需要帶放靜電手

22、環(huán)4、每次嚴(yán)格開關(guān)機(jī)，關(guān)機(jī)開機(jī)后要做一次CF。5、 90 度脈沖校準(zhǔn)正常情況下半年做一次，對新儀器可能需要三個(gè)月做一次。6、 field 的校準(zhǔn)，正常情況下半年一次，對于新儀器三個(gè)月做一次。（二）磁體及軟件維護(hù)1、 1H 90 度脈沖的校準(zhǔn), 標(biāo)樣：0.1%EB in CDCL3（1） new/,建立實(shí)當(dāng)選擇 PROTON準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)，title : 1H90cal（ 2） lock（ 3） getprosol ； atma； topshim（ 4）更改參數(shù)輸入命令eda更改采樣參數(shù)，將 zg30fzg; NS=1, DS=0;O1P=2.6PPMf（3設(shè)定 在乙基的四重峰中央） 。輸入命令ased

23、 更改與脈沖系列相關(guān)的參數(shù)，D1=20S,RG=16;P1=10.60 記錄下來（脈沖作用時(shí)間） 改為2; PLW帆PL1保持不變。Notice :先把原來的P1值，再將P1賦予一個(gè)比較小的時(shí)間，eg, 1us先試做一 個(gè)譜看看。 5） 5） rga； zg 6） efp ； apk,處理譜圖，并找到四重峰，使當(dāng)前窗口只出現(xiàn)四重峰。（ 7）輸入命令dpl ，定義打印區(qū)間。（8）回到處理參數(shù)procpars ,將PH_mo沖的模式改為PK（9）輸入命令POPT脈沖的功率為脈寬的優(yōu)化模式。勾選第三個(gè)選項(xiàng)即perform automatic baseline（PARAMETER?上 P1, OPTM

24、UM選 zero , STARTVA吁始 值：比原有值的三倍大一些即大于 3*10.60 ; ENDVAL吉束化 比原來的四倍 大一些，即大于4*10.60+4; INC步長一般定為2, 36、38等等），填好以上 各參數(shù)后，點(diǎn)擊Staroptimlze fSaveokf開始做實(shí)驗(yàn)若出現(xiàn)負(fù)值的峰， 說明已經(jīng)越過180度得電，點(diǎn)擊skip current optim 停止實(shí)驗(yàn)。結(jié)果存在TITLE里面，不用記錄。在 Acquars中的P1 （us）得到值/4, 得到的值其實(shí)是零點(diǎn)的值，即360 度得值，除4 即可得到90 度的值。（10）更改prosol表，輸入命令edprosol ,將左右通道的

25、pulse值改過來fSavef select all relevantfokf輸入密碼okfyesfokfyesfok,關(guān)閉窗口。2、C13的90度脈沖，標(biāo)樣：ASTM （參考講義P48）（1） nesPROCNO（理號一定為1）-C13CP宏準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)名稱）（2） getprosol Tock 溶齊名稱atma； topshim（3）修改參數(shù)，輸入命令eda修改采樣參數(shù)：將zgpg30改為zgpg; NS=1;DS=0 O1P=6702P=3.5D輸入命令ased修改與脈沖系列相關(guān)的參數(shù)：RG=3M 64;D1（ S） =20； P1 先記錄下原始數(shù)值如8.8，先賦予小點(diǎn)的值如2us（ 4）輸入

26、zg 命令直接采樣（5） efp ; apk讓窗口只出C的信號，輸入dpl ,以下步驟與H的90度脈沖一致，可參考 H 的 90 度脈沖。Notice ：測完后要到prosol 表中進(jìn)行更新。3、如何計(jì)算當(dāng)前樣品的90 度脈沖值？（1） new/設(shè)定好參數(shù)之后做pulsecal（ 2） 輸入命令pulsecal ， enter 后可以計(jì)算當(dāng)前樣品的90 度脈寬， 測完后點(diǎn)擊close 。第一次做pulsecal 命令時(shí)會彈出對話框“該命令正在編譯”直接close 掉就可以了。4、3D勻場，標(biāo)樣：90%K+10燉水。（1） new/,建立一個(gè)一維 H譜實(shí)驗(yàn) 2） 2） lock H 20+D20

27、 3） atma； topshim gui （可以去除Y方向的勻場梯度） 4） 選 3A After : ZX-Y-XZ-YZ-Z （不做 Before ） -Starf結(jié)束后點(diǎn) close。 5） 選一個(gè)常做的樣品，做一個(gè)一維 H譜，lockfgetprosol ; atma； topshim 6） 輸入 wsh在filename中輸入文件夾名稱fwrite -closeNotice :怎樣判斷勻場好不好？看 DMSO甲醇、丙酮的多重峰看 TMS的衛(wèi) 星峰看溶劑本身的峰信號，越窄越好。5、 lock field 的校準(zhǔn)方法一：鎖場鎖氘信號，標(biāo)樣用10%的 EB in CDCl 3（ 1）進(jìn)樣

28、（ 2） lock CDCl 3（3）進(jìn)入 BSMS盤flocklevel ffield f讀取 field 值并記錄下來（6704.3） 點(diǎn)ON-OFF兌鎖-輸入命令lopo , enter進(jìn)行鎖場參數(shù)的優(yōu)化選溶劑，點(diǎn) ok -輸入6704.3 （鎖場后的值）。Notice ： 紅線和綠線的交叉點(diǎn)在鎖場的最中間，蝴蝶線完全對稱，通過更改phase值可以使其變得對稱，從交叉點(diǎn)出來的第一個(gè)峰都是向上的。(4)點(diǎn)擊stanby ,命令行中輸入edlock，點(diǎn)折線圖標(biāo)進(jìn)行保存。方法二：什么溶劑都鎖不上的情況下使用該方法(1)放H20+DO的標(biāo)樣進(jìn)去(2)將 sweep 的 ON-OF改掉(3)修改采

29、樣參數(shù)，建立一個(gè) H譜 zg30, NS=1, DS=0 O1P=4.7, SW=3040Ppm( 4) atma； rga； zg；( 5) efp ； apk(6)找到水峰，看水峰與4.7偏離了多少H乙在procpars中將PH_mo改為pk;(7)輸入命令gs,點(diǎn)實(shí)時(shí)變化譜圖，打開 BSMS盤，進(jìn)入locklevel里面， 調(diào)節(jié)filed 值，使水峰到達(dá)4.7的位置，到達(dá)4.7后點(diǎn)Standby,輸入命 令 edlock ，點(diǎn)折線圖標(biāo)，保存。(8)將GS界面stop掉(9)用CDC3樣品做校準(zhǔn)。十二、一維選擇性激發(fā)實(shí)驗(yàn)1、實(shí)驗(yàn)一：針對分的比較開的峰( 1)新建一個(gè)實(shí)驗(yàn)，做一個(gè)一維譜。(

30、2)點(diǎn)擊積分符號，在自己想要的信號上，對其進(jìn)行積分。( 3) “ Save as veg ”右擊保存圖標(biāo)，保存。(4)輸入 buttonnmr ,選擇 select (5)點(diǎn)擊set Gr ROESY-OQ輸入實(shí)驗(yàn)名稱后點(diǎn) OQOK不能再更改參數(shù)， 直接采樣；cancel只是建立實(shí)驗(yàn)，還可以修改參數(shù)。本例中選 cancel。( 6)修改 NS=8%，NDS=4*N( 7) rga； zg(8) ef-相位校正，一般會出現(xiàn)三種信號：相關(guān)信號、吸收型信號、色散信號。2、實(shí)驗(yàn)二：針對重疊比較嚴(yán)重的多重峰。CSSF:chemical shift 化學(xué)位移，selective filter 。( 1)進(jìn)

31、樣，采集一個(gè)一維譜( 2)找到重疊峰，拷貝其中的一個(gè)化學(xué)位移：所關(guān)心的峰的中間位置。(3)新建一個(gè)實(shí)驗(yàn)，修改 O1P為前一步驟的化學(xué)位移值。(4)更改脈沖系列(pulprog ),選擇 sel cssfzs.2-ok（5）查看參數(shù)，修改NS=2*N,DS=16 TD0=816部分參數(shù)根據(jù)右側(cè)提示修改。 CNST2=4（匕值取決于峰的重疊程度）（ 6） rga； zg3、實(shí)驗(yàn)三（ 1）在實(shí)驗(yàn)二的基礎(chǔ)上，輸入命令i ， I 命令表示做同樣的實(shí)驗(yàn)。（2）更改脈沖系列，將selcssfzs.2 - selecssfdizs.2（2表示第二個(gè)版本，為了選擇峰；帶zs 表示能量子激發(fā)；di 自旋鎖定，co

32、sy 峰為了找相關(guān)譜）（3）更改參數(shù)D9（混合時(shí)間）、NS DS TD0等參數(shù)。（ 4） rga； zgNotice : cosy、tocsy、 noesy、roesy 對角峰、交叉峰者B有； hsqc、 hmbc沒有對 角峰，只有交叉峰。十三、溶劑峰的壓制1、只壓制一個(gè)峰（ 1）做一個(gè)一維譜，找到要壓制的峰，復(fù)制化學(xué)位移。（2） nes標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)名稱為： WATERSUP,應(yīng)的脈沖系列為 NOESYGPPRHok（3）設(shè)置實(shí)驗(yàn)參數(shù)，D1:低功率、長時(shí)間的功率，關(guān)鍵設(shè)置參數(shù)D1和PL9。對于NS DS無嚴(yán)格要求；PL9=60dB （該值越大，實(shí)際功率越大）；D1=2s（時(shí) 間越長，頻率覆蓋范圍越

33、窄）；O1P的值直接粘貼步驟一復(fù)制的化學(xué)位移值， 譜寬要足夠大。（ 4） getprosol ；2、壓制兩個(gè)峰（1） edcf標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)名稱：LC1D12OK（2） O1P壓制峰1的中間位置的化學(xué)位移值（譜圖的中間）O2P ：壓制峰2 的中間位置的化學(xué)位移值。（ 3） getprosol（ 4） NS=8*N,DS=4,PL9=60（ 5） rga； zg3、如何壓制多個(gè)峰？（1） nes LC1DCWPS準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)名稱）（ 2）修改參數(shù)NS、 DS、 SW（ 3） getprosol（4）輸入命令L30（即壓制峰的個(gè)數(shù)，如N）（5）輸入命令xaua （自動采集一個(gè)一維譜），壓制N個(gè)最強(qiáng)的峰4、水峰

34、的壓制（與壓制一個(gè)峰的步驟是一樣的）（1） new/-WATERSUBJOESGPPRId（2） O1P的確定，NS DS D1、PL9（ 3） getprosol（ 4） lock（ 5） atma； topshim ；（ 6） RGA RG 記錄 RGfi rga ； zgffpfall fapk（ 7） O1值（9） rga； zg （多次循環(huán)，直到水峰的壓制達(dá)到好的狀態(tài)）5、實(shí)驗(yàn)五（1） edc （neW） - NOESYPR1D（準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)名稱）（2） D8=0.1S;NS、DS（根據(jù)提示確定）；O1（O1P=4.7）、D11=30ms=0.03s, D1=2S;PL9=5060Db（P

35、宜給太大的值）（ 3） getprosol（ 4） lock（ 5） atma； topshim ； rga； zg拓展實(shí)驗(yàn)：輸入I命令-NOESYGPPR 1d口梯度場實(shí)驗(yàn)），更改梯度參數(shù)。Notice ：加梯度場對鎖場相位要求比較高。十四、 Topspin 軟件介紹1、通過命令re 、 rep 、 rel 、 repl+ 空格+數(shù)字打開文件2、 rel ：打開最后一個(gè)實(shí)驗(yàn)名稱下的實(shí)驗(yàn)號。Repl ：實(shí)驗(yàn)號下面的某一處理號。3、命令expl ：按照 2.1 或者 3.0 版本的統(tǒng)一存放數(shù)據(jù)。4、命令.all5、E命令，選擇要看的區(qū)域6、批處理：processing -senal proces

36、sing -Find 找到實(shí)驗(yàn)名稱-next -LB0.3; efp ； apk； ppf （標(biāo)峰）（輸入一系列命令符）-excute fclose。Notice : LB增寬因子指數(shù)窗函數(shù)。7、批處理積分（intser批處理積分命令）（1）先對第一張譜圖進(jìn)行積分并保存（2）輸入命令intser（3）選擇第幾個(gè)實(shí)驗(yàn)一 next（4） options （calibrate : 選定某一個(gè)位置； Normalize sum of integrals 歸 一化法）一第幾個(gè)峰一定義幾個(gè)一 ok,歸一化值加和多少，可以自己增。8、增加一個(gè)處理號（wrp命令）Corl dram預(yù)測化學(xué)位移9、去卷積（去卷

37、積的峰保留在999的處理號上面）Analysis -Deconvolution -ok-options （用什么函數(shù)）（use lorent zian shape） 一選擇區(qū)域（閾值）一 ok10、進(jìn)入topspin用戶名和密碼的設(shè)置Set 命令-options fadmmistration flock topspin user interface11、電子簽名： Electromic signature creation ,輸入命令 esign12、audit跟蹤文檔，可以看到所有的操作13、更改layout的三種途徑輸入命令layoutcontrl+P處理參數(shù)中的Automation fl

38、ayout14、模板保存的路徑，C:BrukerTopspin3.0plotlayouts15、stack1d多個(gè)譜圖疊加16、parplot參數(shù)修改17、輸入命令almanao打印化學(xué)位移18、利用NMR Guide自學(xué)：NMR Guided俞入關(guān)鍵詞一搜索19、Help-manuals- 1D2D step-by-step basic多利用資源自學(xué)。十五、T1、T2的測定1、1H的T1的測定（做二維時(shí)也需要控溫）（1）做一個(gè)一維H譜（目的是看看勻場好不好有沒有合適的譜寬和O1PNew fgetprosol Tock fatma； topshim； NS=1;DS=0 rga; zgfefp

39、； apk（2）輸入命令I(lǐng)expno：完全拷貝當(dāng)前實(shí)驗(yàn)的所有參數(shù)，只是實(shí)驗(yàn)號加1,目的是為了譜寬和O1赭B不變。（3）進(jìn)入采樣參數(shù)欄，將zg30改為t1ir （實(shí)際是假二維）一點(diǎn)（12 J圖標(biāo)(目的是將其改為二維)，彈出對話框，點(diǎn)OQ到脈沖參數(shù)里面看采樣參數(shù)： NS=8*N(此參數(shù)設(shè)置是實(shí)驗(yàn)的關(guān)鍵)，DS=4, FnMOD跡undefined -TD (fl :變 換等待時(shí)間，一般給10即可；f265536), SW(F2:氫譜的譜寬，不變；F1不用 管)一點(diǎn)擊左側(cè)LIST,找到VDLIST,自己定義一個(gè)VDLIST,edit (填十個(gè)點(diǎn),這 是個(gè)點(diǎn)必須包含在弛豫時(shí)間內(nèi)，前面 的點(diǎn)密集些，后面

40、 的點(diǎn)系數(shù)些，如0.01,0.02,0.05 , 0.1,0.4,0.8,1,3,5,10)其中最大值的確定是關(guān)鍵， 要保證做出來的曲線變化要么是向上的一個(gè)平臺，要么是向下的一個(gè)平臺。設(shè)置好后保存一回到與脈沖相關(guān)的參數(shù)上，D1(S)=10, D1值必須要大于或者等于 VDLIST中設(shè) 置的最大值，設(shè)置好 VDLIST后一 rga； zg(4)數(shù)據(jù)處理更改處理參數(shù)(procpars ) SIF1的一定是偶數(shù)，如16,其中SI(F1) TD(F1); SI(F2) TD(F2); 一輸入命令xf2 (表示只對f2做傅里葉變換)一點(diǎn) 擊相位調(diào)節(jié)圖標(biāo)，將十字線放在最下方，點(diǎn)鼠標(biāo)右鍵選ADD(只需選一個(gè)

41、點(diǎn))一點(diǎn)R_圖標(biāo)：出現(xiàn)氫譜，只需調(diào)節(jié)好氫譜的相位一保存，退出一返回處理參數(shù) propars中，將F2維中的PH_mo改為PKH點(diǎn)Analysis中的“T1/T2”圖標(biāo)，進(jìn) 入右側(cè)界面一點(diǎn)第一個(gè)圖標(biāo)“折線 FID，彈出對話框，選spectrum,彈出下一 個(gè)對話框，slice , number=1, ok一點(diǎn)第二個(gè)圖標(biāo) peaks ranges :彈出對話框， 選manual integration ,彈出另一對話框，點(diǎn)ok,進(jìn)入積分模式，選擇峰并進(jìn) 行積分一積分后點(diǎn)擊“帶 A的保存”圖標(biāo)，選第三個(gè)選項(xiàng)Export regions torelaxation module and ret點(diǎn)第三個(gè)圖

42、標(biāo)：relaxtion , widows斤tingfuntion uxnmrt1 lisfile name: vdlist 點(diǎn)數(shù)是前面設(shè)置的點(diǎn)數(shù) 10,檢查以上三項(xiàng)無誤后輸入 ok,點(diǎn)擊“”圖標(biāo)，全部點(diǎn)擬合曲線一查看擬合曲線一 輸入plot命令一點(diǎn)擊T1/T2,拉動左鍵。2、1H的T2的測定(自選回波)(1)做一個(gè)一維H譜(目的是看看勻場好不好有沒有合適的譜寬和O1PNew fgetprosol Tock fatma； topshim； NS=1;DS=0 rga; zgfefp； apk(2)輸入命令I(lǐng)expno：完全拷貝小妹實(shí)驗(yàn)!呼有參數(shù)，只是實(shí)驗(yàn)號加1,目的是為了譜寬和O1赭B不變。(1

43、2 J )(3)修改脈沖程序，改為cpmg將一維模式改為二維模式。(4)在與脈沖相關(guān)的參數(shù)里面查看 NS DS Fnmode勺定義(5)修改 NS=8*N,DS=16,TD(F2=65536 F1=10), Fnmode:Nodefined, SWf變。(6 )在LIST中，編輯VIDLIST (表示的是循環(huán)次數(shù))表，如： 2,10,20,50,100,200,300,500,750, ?(最后一個(gè)值的確定根據(jù) D。來計(jì)算，是關(guān)鍵)，單個(gè)循環(huán)時(shí)間=2Rc+P18(H保存。(7)回到采樣參數(shù)中，查看和脈沖系列相關(guān)的參數(shù)，D2O稍微大于50*P2 (注意單位換算)，D1值的設(shè)定，表示弛豫的恢復(fù)時(shí)間

44、，與 T1有關(guān)，D15T1本 例中D1=10測T2實(shí)驗(yàn)中的關(guān)鍵參數(shù)有：DO NS DSDTDS1維VVLIST 的設(shè)定，最后一個(gè)循環(huán)次數(shù)由D2O決定。(8) rga； zg(9)譜圖處理(與T1的處理過程類似，唯一區(qū)別是擬合出來的是循環(huán)的次數(shù))更改處理參數(shù)(procpars ) SIF1的一定是偶數(shù)，如16,其中SI(F1) TD(F1); SI(F2) TD(F2); 一輸入命令xf2 (表示只對f2做傅里葉變換)一點(diǎn) 擊相位調(diào)節(jié)圖標(biāo)，將十字線放在最下方，點(diǎn)鼠標(biāo)右鍵選ADD(只需選一個(gè)點(diǎn))一點(diǎn)R_圖標(biāo)：出現(xiàn)氫譜，只需調(diào)節(jié)好氫譜的相位一保存，退出一返回處理參數(shù) propars中，將F2維中的P

45、H_mo改為PQ點(diǎn)Analysis中的“T1/T2”圖標(biāo)，進(jìn) 入右側(cè)界面一點(diǎn)第一個(gè)圖標(biāo)“折線FID，彈出對話框，選spectrum,彈出下一個(gè)對話框，slice , number=1, ok一點(diǎn)第二個(gè)圖標(biāo) peaks ranges :彈出對話框， 選manual integration ,彈出另一對話框，點(diǎn)ok,進(jìn)入積分模式，選擇峰并進(jìn) 行積分一積分后點(diǎn)擊“帶 A的保存”圖標(biāo)，選第三個(gè)選項(xiàng)Export regions torelaxation module and ret點(diǎn)第三個(gè)圖標(biāo)：relaxtion , widows斤tingfuntion uxnmrt1 lisfile name : v

46、clist 點(diǎn)數(shù)是前面設(shè)置的點(diǎn)數(shù) 10,檢查 以上三項(xiàng)無誤后輸入 ok,點(diǎn)擊“”圖標(biāo)，全部點(diǎn)擬合曲線一查看擬合曲線一 輸入plot命令一點(diǎn)擊T1/T2,拉動左鍵。Notice :此時(shí)得到的T2不是真正意義上的T2,而是循環(huán)次數(shù)，因此T2的 實(shí)際值計(jì)算公式為：如本例中得到的值為68.365,則T2的實(shí)際值=68.37*(2D+P180) =68.37* (2E2O+P2) =68.37* (2*0.00105+20.80*10 -6S) =151ms 注 意單位換算，P180即為P2。C的T1的測定：脈沖系列選擇tlirpg 。十六、如何設(shè)置命令的自動排列？(1) 輸入 set 命令- Adim

47、inistration , 勾上 Enable automatic command sppoling fok(2) set fmore preferences fstatus bar prefrencesfchange 勾選需要顯示的欄目 Apply -ok一最下方空白處右擊并將 Acquisition bar on/off 關(guān)掉狀態(tài)欄，關(guān)掉后再打開。十七、如何建立宏命令的圖標(biāo)？(1)輸入edmac命令，edmc編輯宏命令，edmac禰格+宏命令名稱一輸入efp apk.AllAbSN)ppf 一點(diǎn)file 工具欄保存一關(guān)閉(2)在菜單欄(目標(biāo)欄)點(diǎn)右鍵，選擇 Add user defined

48、 button一出現(xiàn)對話框Add/modify a button with text label(文本)Add/modify a button with an anicon(圖標(biāo))(3) Abs:自動積分；AbSn基線調(diào)整。十八、H-P相關(guān)譜(1) new -Acetone,標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)名稱：hmbcgpnd (nd表示在采樣過程中對 C13 不去偶)(2)更改參數(shù)：輸入命令 EDSP將13C改為314 Default - Save Close。3) getprosol（4）更改采樣參數(shù) sw （fl ） =400;ns=2*n, DS=16 NUC1 fl 改為 31P; O1P,O2P=-50

49、;更改與脈沖系列相關(guān)的參數(shù)：CNST13 8.0000（BC,關(guān)鍵參數(shù)）凡是帶梯度的實(shí)驗(yàn)，異核相關(guān)相關(guān)要設(shè)好核的梯度場，輸入gradratio （改核后再修改）-彈出對話框，顯示三個(gè)數(shù)值，依次填入梯度場中的參數(shù)設(shè)置中。（ 5） lock ： acetone（ 6） atma； topshim ； rga； zg（ 7）輸入xfb 處理， dev32（ 8）當(dāng)右側(cè)譜寬出現(xiàn)幾萬的值的時(shí)候，輸入sref ，回車， close ， close 。（ 9）定標(biāo)Notice : Nucleusl中的nucl的OFFfc為所要做的雜核。十九、變溫實(shí)驗(yàn)（ 1） 50以下，用塑料轉(zhuǎn)子即可，若大于50時(shí)，要用陶瓷轉(zhuǎn)子，做高溫變溫實(shí)驗(yàn)時(shí)， 氣流量要設(shè)置的大一些，并用惰性氣體保護(hù)線圈。氣流量要大陶瓷轉(zhuǎn)子用惰性氣體保護(hù)線圈。（若氣流量太小，會導(dǎo)致樣品管底部溫度與上部溫度不一致，導(dǎo)致梯度氣流量大，等待時(shí)間也短。）放樣品-先鎖場，鎖好場后調(diào)大氣流量，調(diào)到氣流量脫鎖時(shí)，再將氣流量調(diào)小到能鎖場即可。高溫實(shí)驗(yàn)：溫度不能達(dá)到或者超過溶劑的沸點(diǎn)，最高溫度要