基于matlab干涉系統(tǒng)仿真(共28頁(yè))

1、精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上成績(jī)： 工程光學(xué)綜合性練習(xí)一題目： 基于matlab的干涉系統(tǒng)仿真學(xué) 院 精密儀器與光電子工程學(xué)院 專 業(yè) 測(cè)控技術(shù)與儀器 年 級(jí) 20*級(jí) 班 級(jí) *班 姓 名 * 學(xué) 號(hào) 20*年*月綜合練習(xí)大作業(yè)一一、要求3-4人組成小組，對(duì)下面給出的各題目利用Matlab等工具進(jìn)行仿真。二、仿真題目1、對(duì)于楊氏雙縫干涉，改變雙縫的縫寬和縫間距，觀察干涉圖樣變化原理圖圖中參數(shù)光線波長(zhǎng)：lam=500納米；雙縫距離：d=0.1毫米；（可調(diào)）雙縫距接收屏距離：D=1米；接收屏范圍：xs：-0.0050.005 ys：-0.0050.005光源振幅：AI=A2=1;（單位振幅，可調(diào)）

2、matlab代碼：clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）d=0.5e-3; %設(shè)定兩縫之間距離d（0.5毫米）D=1; %雙縫到接收屏距離D（1米）A1=1; %初始兩光源均為單位振幅A2=1;xm=0.005;ym=xm; %接受屏的范圍ym，xm(0.01*0.01矩形)n=1001; xs=linspace(-xm,xm,n); %用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys%（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);L1=sqrt(xs-d/2).2+ys.2+D2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1L2=sqrt(xs+d/2).2+ys

3、.2+D2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源2距離r2E1=A1./sqrt(L1).*exp(1i*L1*2*pi/lam);%光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2./sqrt(L2).*exp(1i*L2*2*pi/lam);%光源2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加為合成振幅EI=abs(E).2; %和振幅光強(qiáng)nc=255; %灰度br=(I/4)*nc; %灰度強(qiáng)度image(xs,ys,br); %生成干涉圖樣colormap(gray(nc);初始干涉仿真圖樣改變參數(shù)后的仿真圖樣（縫寬即光振幅A1、A2，縫間距d）A1=1.2、A2=1 A1=1.5、A2=1（注

4、：改變雙縫寬度，等效為改變光源強(qiáng)度。如寬度增加一倍，光強(qiáng)增加兩倍）d=0.8毫米 d=1.2毫米變化分析及曲線：改變雙縫寬度：此處仿真忽視衍射影響，改變雙縫寬度簡(jiǎn)單等效為改變光源光強(qiáng)。由上述仿真圖片可以看出，當(dāng)增加其中一個(gè)縫寬即增加一個(gè)光源光強(qiáng)時(shí)，亮條紋寬度明顯增加，但條紋間距不改變。通過(guò)仿真發(fā)現(xiàn)，當(dāng)一光源為另一光源2.9倍左右強(qiáng)度時(shí)，接收屏上將出現(xiàn)一片亮，即暗條紋消失。改變雙縫間距：根據(jù)楊氏雙縫干涉相關(guān)結(jié)論，改變雙縫間距，將改變條紋之間間距e，趨勢(shì)為隨著雙縫間距增加，條紋間距逐漸減小。具體數(shù)學(xué)關(guān)系為：e=lam*D/d；曲線表示為：2、對(duì)于楊氏雙孔干涉，改變雙孔的直徑和孔間距，觀察干涉圖樣變

5、化原理圖圖中參數(shù):光線波長(zhǎng):lam=500納米；雙孔距離：d=0.5毫米（可調(diào)）；雙縫距接收屏的距離：D=1(米)；接收屏的范圍：xs：-0.0050.005 ys：-0.0050.005；光源振幅：AI=A2=1;（單位振幅，可調(diào)）matlab代碼：clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)為500納米d=0.5e-3; %雙孔的距離為0.5毫米D=1; %雙孔到接收屏的距離為1米A1=1; A2=1;%光源振幅A1=A2=1；xm=0.005;ym=xm; %接收屏的范圍是0.005；n=1001; xs=linspace(-xm,xm,n); ys=linspace(-ym,ym,n

6、); %用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys%（n為總點(diǎn)數(shù)）r1=sqrt(xs-d/2).2+ys.2+D2);% 光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1r2=sqrt(xs+d/2).2+ys.2+D2);% 光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源2距離r2E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam);% 光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2./r2.*exp(1i*r2*2*pi/lam);% 光源2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %¸復(fù)振幅疊加為合成振幅EI=abs(E).2; %和振幅光強(qiáng)nc=255; %灰度br=(I/4)*nc; %灰度強(qiáng)度image(x

7、s,ys,br); %生成干涉圖樣colormap(gray(nc);初始干涉仿真圖樣改變參數(shù)后的仿真圖樣（孔直徑即光振幅A1、A2，縫間距d）A1=1.8、A2=1 A1=2.3、A2=1（注：改變孔直徑，等效為改變光源強(qiáng)度。如直徑增加一倍，光強(qiáng)增加四倍）空間距離d=0.8毫米 空間距離d=1.2毫米變化分析及曲線： 改變孔直徑：基本規(guī)律同楊氏雙孔干涉，唯一區(qū)別是當(dāng)雙孔直徑增加一倍時(shí)，等效為光源光強(qiáng)增加四倍。 改變雙縫間距：根據(jù)楊氏雙孔干涉相關(guān)結(jié)論，改變雙孔間距，將改變條紋之間間距e，趨勢(shì)為隨著雙縫間距增加，條紋間距逐漸減小。具體數(shù)學(xué)關(guān)系為：e=lam*D/d；曲線表示為：3、改變下列光波場(chǎng)

8、分布，觀察干涉圖樣變化（1）如左圖所示，兩平面光波疊加，改變光波振幅比a、兩光波夾角theta，觀察在接收屏上的干涉圖樣變化；圖中參數(shù)：光線波長(zhǎng):lam=500納米；雙縫距接收屏的距離：D=1(米)；接收屏的范圍：xs：-0.0. ys：-0.0.；兩光波夾角：theta=90度（可調(diào)）光源振幅：AI=1;A2=a*A1;（a為光波振幅比，初始為1，可調(diào)）matlab代碼：clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）theta=pi/2; %設(shè)定兩平面波夾角theta（90度） A1=1; %光源均為單位幅度a=1; %a為振幅比A2=a*A1; %a=A2/A1 xm=

9、0.;ym=xm; %接受屏的范圍xm，ym(0.*0.矩形)n=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);xs, ys = meshgrid(xs, ys);%生成網(wǎng)格采樣點(diǎn) n*n矩陣E1=A1.*exp(-1i*xs*cos(theta/2)*2*pi/lam);%平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2.*exp(1i*xs*cos(theta/2)*2*pi/lam);%平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs

10、, ys, I); %生成干涉圖樣shading flat;colormap gray初始干涉仿真圖樣：改變參數(shù)后的仿真圖樣（光波振幅比a、兩光波夾角theta）a=1.6 a=2.1theta=60° theta=120° 變化分析： 改變光波振幅比a：改變光波振幅比a即為改變光源光強(qiáng)。由上述仿真圖片可以看出，當(dāng)增大光波增幅比a時(shí)，亮條紋寬度明顯增加，但條紋間距不改變。通過(guò)仿真發(fā)現(xiàn)，當(dāng)a增加到2.9左右時(shí)，接收屏上將出現(xiàn)一片亮，即暗條紋消失。改變兩光波夾角theta：根據(jù)仿真圖樣可以得知，兩光波夾角theta越大，出現(xiàn)的干涉條紋間距約大。（2）如右圖所示，兩點(diǎn)光源前后放置

11、，改變其間距，觀察在接收屏上的干涉圖樣變化；圖中參數(shù)：光線波長(zhǎng):lam=500納米；兩點(diǎn)光源間距：d=0.002米；(可調(diào))點(diǎn)光源S2到接收屏距離：Z=0.02米接收屏的范圍：xs：-xsxs； ys：-ysys；matlab代碼clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）d=2e-3; %設(shè)定之間兩點(diǎn)光源間距離d（0.002米）Z=2e-2; %點(diǎn)光源S2到接收屏距離ZA1=1; %兩光源均為單位幅度A2=A1;xm=2e-3;ym=xm; %接受屏的范圍xm，ymn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組ys=linspa

12、ce(-ym,ym,n);%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）xs, ys = meshgrid(xs, ys); %生成網(wǎng)格采樣點(diǎn) n*n矩陣r1=sqrt(xs.2+ys.2+(Z+d)2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1r2=sqrt(xs.2+ys.2+Z2); %光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源2距離r2E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam);%點(diǎn)光源S1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2./r2.*exp(1i*r2*2*pi/lam);%點(diǎn)光源S2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs, ys, I); %

13、生成干涉圖樣shading flat;colormap gray初始干涉仿真圖樣：改變參數(shù)后的仿真圖樣（光源間距d）d=0.003 d=0.001變化分析及曲線： 改變光源間距d：由仿真圖樣可以得知，改變光源間距，將改變同心圓環(huán)的分布。具體為，d越大，同心圓環(huán)半徑減小，表現(xiàn)為向圓心聚攏，條紋更加密集。（3）如右圖所示，兩點(diǎn)光源并排放置，改變其聚散性（會(huì)聚球面波、發(fā)散球面波）和間距，觀察在接收屏上的干涉圖樣變化。圖中參數(shù)：圖中參數(shù)：光線波長(zhǎng):lam=500納米；兩點(diǎn)光源間距：d=0.002米；(可調(diào))接收屏的范圍：xs：-xsxs； ys：-ysys；matlab代碼:clear;lam=500

14、e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）d=2e-3; %設(shè)定兩點(diǎn)光源之間距離d（0.002米）D=d/2; %雙點(diǎn)光源到接收屏距離（接受屏垂直于兩點(diǎn)光%源連線）A1=1; %兩光源均為單位幅度A2=A1;xm=0.00008;ym=xm; %接受屏的范圍ym，xmn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n); %用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組ys=linspace(-ym,ym,n); %xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）xs, ys = meshgrid(xs, ys);%生成網(wǎng)格采樣點(diǎn) n*n矩陣r1=sqrt(xs.2+ys.2+D2); %光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1r2=

15、sqrt(xs.2+ys.2+D2); %光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源2距離r2E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam);%點(diǎn)光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2./r2.*exp(-1i*r2*2*pi/lam);%點(diǎn)光源2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs, ys, I); shading flat;colormap gray初始干涉圖樣：兩光源聚散性相反 兩光源聚散性相同改變參數(shù)后的仿真圖樣：d=0.001 d=0.003變化分析及曲線： 改變聚散性：當(dāng)兩點(diǎn)光源聚散性相反時(shí)，將形成同心圓環(huán)；聚散相同時(shí)，將

16、形成一亮斑； 改變光源間距d：由仿真圖樣可以得知，改變光源間距，將改變同心圓環(huán)的分布。具體為：d越小，同心圓環(huán)半徑減小，表現(xiàn)為向圓心聚攏，條紋更加密集。（與上一模型正好相反）4、如圖4-6所示，改變平面光波場(chǎng)分布，觀察干涉圖樣變化1）垂直入射 原理圖圖中參數(shù)：光線波長(zhǎng)：lam=500nm；點(diǎn)光源到接收屏距離：D=1m； 接收屏范圍：xs：-0.0020.002 ys：-0.0020.002 光源振幅：A1=A2=1；（可調(diào)）matlab代碼：clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）D=1000e-3; %點(diǎn)光源孔到接收屏距離A1=1; %兩光源均為單位幅度A2=A1;

17、xm=0.002;ym=xm; %接受屏的范圍ym，xmn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n); %用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);xs, ys = meshgrid(xs, ys); %生成網(wǎng)格采樣點(diǎn) n*n矩陣r1=sqrt(xs.2+ys.2+D2); %光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam);%點(diǎn)光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2; %平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs,

18、ys, I); %生成干涉圖樣shading flat;colormap gray 干涉仿真圖樣：2）斜入射（與接收屏法線方向60°） 模型參數(shù)：光線波長(zhǎng)：lam=500nm；點(diǎn)光源到接收屏距離：D=1mm；接收屏范圍：xs：- 0.000510.00051 ys：- 0.000510.00051 光源振幅：A1=A2=1；（可調(diào)）matlab代碼：clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）D=10e-3; %點(diǎn)光源孔到接收屏距離A1=1; %兩光源均為單位幅度A2=A1;xm=0.00051;ym=xm; %接受屏的范圍ym，xmn=1001;xs=lins

19、pace(-xm,xm,n); %用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);xs, ys = meshgrid(xs, ys); %生成網(wǎng)格采樣點(diǎn) n*n矩陣r1=sqrt(xs.2+ys.2+D2); %光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam); %點(diǎn)光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2*exp(-1i*xs*cos(pi/3)*2*pi/lam); %平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs, ys, I); %

20、生成干涉圖樣shading flat;colormap gray干涉仿真圖樣：改變平面光波入射方向：5、用平行光（點(diǎn)光源+準(zhǔn)直鏡）照射如圖7所示不同形狀楔板，觀察干涉圖樣 不同形狀楔板1） 斜面楔板當(dāng)薄膜為空氣時(shí)，其折射率n=1，而且上下表面BB與AA之間的夾角又很小，使光線幾乎垂直入射，則C在BB表面上，光線11'和22'的光程差為：=2d+2 （1） 式中，2 是因?yàn)楣饩€由光疏媒質(zhì)入射到光密媒質(zhì)在AA界面上反射時(shí)，發(fā)生的半波損失引起的光程差。式（1）只與薄膜的厚度d和光波波長(zhǎng)有關(guān)。 當(dāng)光程差：=2d+2=(2k+1)2（k=1,2,3）即：d=12k 時(shí)產(chǎn)生暗條紋；當(dāng)光程差

21、：=2d+2=2k2 （k=1,2,3）即：d=(k-12)2 時(shí)產(chǎn)生亮條紋。 從以上亮紋或暗紋公式易導(dǎo)出，從一個(gè)條紋過(guò)渡到另一個(gè)條紋，平板的厚度變化為h=/2n。對(duì)應(yīng)光程差變化為，楔板的楔角=/(2ne)。e為條紋間距，且eh 又2nh= 所以e2n。matlab代碼：clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）A1=1; %兩光源均為單位幅度A2=A1; %默認(rèn)為相等theta=pi/90; %楔板傾角thetan=1; %楔板折射率nxm=10e-5;ym=xm; %接受屏的范圍xm，ymn=1001;xs=linspace(0,xm,n); %用線性采樣法生成兩個(gè)

22、一維數(shù)組%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(0,ym,n);xs, ys = meshgrid(xs, ys);deta=2*n*xs*tan(theta); %光程差phi=2*pi*deta/lam; %相位差E1=A1; %平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2.*exp(-1i*phi); %平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs, ys, I); %生成干涉圖樣 shading flat;colormap gray 干涉圖樣2） 圓柱形楔板（以下分析簡(jiǎn)單為楔板頂端緊貼下平板， matlab程序中完善為之

23、間存在間距h）由圖中幾何關(guān)系可知，干涉環(huán)半徑r處薄膜的厚度d與圓柱的曲率半徑R之間有如下關(guān)系：R=r2+(R-d)2，因?yàn)镽d，上式刻化簡(jiǎn)為：d=r22R （1）將式（1）代入光程差公式，并認(rèn)為空氣的折射率n=1，則：r2=kRmatlab代碼： clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）A1=1; %兩光源均為單位幅度A2=A1; %默認(rèn)為相等h=0.001; %柱面透鏡頂端距離接收屏距離hR=0.1; %柱面透鏡半徑Rn=1; %楔板折射率nxm=10e-4;ym=xm; %接受屏的范圍xm，ymn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線性采樣

24、法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);xs, ys = meshgrid(xs, ys);deta=h+R-sqrt(R2-xs.2)+lam/2; %光程差phi=2*pi*deta/lam; %相位差E1=A1; %平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2.*exp(-1i*phi); %平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs, ys, I); %生成干涉圖樣shading flat;colormap gray 干涉圖樣：3）球形楔板（牛頓環(huán)干涉系統(tǒng)）（牛頓環(huán)系統(tǒng)與2）中圓柱系

25、統(tǒng)相似，僅將二維推廣到三維，故省略系統(tǒng)分析部分） matlab代碼： clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）A1=1; %兩光源均為單位幅度A2=A1; %默認(rèn)為相等h=0.001; %凸透鏡頂端距離接收屏距離hR=0.1; %凸透鏡半徑Rn=1; %楔板折射率nxm=5e-4;ym=xm; %接受屏的范圍xm，ymn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);xs, ys = meshgrid(xs, ys);deta=h+R-sqrt(R2-xs.2-y

26、s.2)+lam/2;%光程差phi=2*pi*deta/lam; %相位差E1=A1; %平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2.*exp(-1i*phi); %平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs, ys, I); %生成干涉圖樣shading flat;colormap gray 干涉圖樣：4）不規(guī)則楔板（不規(guī)則楔板即楔板平面距不規(guī)則面的距離為不規(guī)則變化，matlab程序中選用一函數(shù)表示該變化） matlab代碼： clear;lam=500e-9; %設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）A1=1; %兩光源均為單位幅度A2=

27、A1; %默認(rèn)為相等h=0.001; %凸透鏡頂端距離接收屏距離hR=0.1; %凸透鏡半徑Rn=1; %楔板折射率nxm=50e-5;ym=xm; %接受屏的范圍xm，ymn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);xs, ys = meshgrid(xs, ys);deta=h+R-sqrt(R2-(3*xs+0.0005).2+(2*ys+0.0003).2)+lam/2;%光程差phi=2*pi*deta/lam; %相位差E1=A1; %平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=

28、A2.*exp(-1i*phi); %平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2; %復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs, ys, I); %生成干涉圖樣shading flat;colormap gray干涉圖樣：6、改變平行平板折射率，觀察干涉圖樣原理圖：圖中參數(shù)：光線波長(zhǎng):lam=500納米；薄板的折射率：n=1.1（空氣折射率為1）（可調(diào)）薄板的厚度：h=0.01凸透鏡的焦距f=0.3入射角范圍：5*pi/180;接收屏的范圍：xs：-0.0010.001 ys：-0.0010.001；光源振幅： A1=A2=1；matlab代碼：clear;lam=500e-

29、9; %波長(zhǎng)為500納米A1=1; A2=A1; %光源振幅A1=A2=1；h=0.01; %薄板的厚度：h=0.01n=1.1; %薄板的折射率：n=1.1（空氣折射率為1）f=0.3; %凸透鏡的焦距f=0.3xm=10e-3;ym=xm; %接收屏的范圍：xs：-0.0010.001 ys：-0.0010.001；tm=5*pi/180; %入射角范圍N=1001;xs=linspace(-xm,xm,N); ys=linspace(-ym,ym,N); %用線性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys%（n為總點(diǎn)數(shù)）ts1=linspace(-tm,tm,N);% 入射角xs, ys = me

30、shgrid(xs, ys);ts1=atan(sqrt(xs.2+ys.2)/f);ts2=asin(sin(ts1)/n); % 入射角deta=2*n*h*cos(ts2)+lam/2; %光程差phi=2*pi*deta/lam; %相位差E1=A1;E2=A2.*exp(-1i*phi); %光源在接受屏上復(fù)振幅E=E1+E2; %¸復(fù)振幅疊加I=abs(E).2; %光強(qiáng)pcolor(xs, ys, I);shading flat;colormap gray 初始干涉圖樣 改變參數(shù)后的仿真圖樣（改變薄板折射率n）n=1.5n=1.9 變化分析及曲線：觀察三組仿真圖樣可以看出，改變平行平板的折射率，將改變干涉圓環(huán)的半徑大小。具體規(guī)律為，增加折射率n，干涉圓環(huán)半徑將隨之增加。三、收獲與感想經(jīng)過(guò)這次工光大作業(yè)，我從以前對(duì)Matlab一無(wú)所知，到對(duì)其掌握初步應(yīng)用，并對(duì)Matlab在工程光學(xué)方面仿真應(yīng)用有了初步的了解，也對(duì)課本上干涉方面的內(nèi)容理解程度進(jìn)一步加深。為今后的學(xué)習(xí)打下一個(gè)很好的基礎(chǔ)。同時(shí)在做大作業(yè)過(guò)程中，也暴露了我以前學(xué)習(xí)內(nèi)容的某些不足，對(duì)一些知識(shí)