光刻工藝問答

1、PHOTO 流程? 答：上光阻曝光顯影顯影後檢查CD量測(cè)Overlay量測(cè) 何為光阻？其功能為何？其分為哪兩種？ 答：Photoresist(光阻).是一種感光的物質(zhì)，其作用是將Pattern從光罩(Reticle)上傳遞到Wafer上的一種介質(zhì)。其分為正光阻和負(fù)光阻。 何為正光阻? 答：正光阻，是光阻的一種，這種光阻的特性是將其曝光之后，感光部分的性質(zhì)會(huì)改變，并在之后的顯影過程中被曝光的部分被去除。 何為負(fù)光阻? 答：負(fù)光阻也是光阻的一種類型，將其曝光之后，感光部分的性質(zhì)被改變，但是這種光阻的特性與正光阻的特性剛好相反，其

2、感光部分在將來的顯影過程中會(huì)被留下，而沒有被感光的部分則被顯影過程去除。 什幺是曝光？什幺是顯影？ 答：曝光就是通過光照射光阻，使其感光；顯影就是將曝光完成后的圖形處理，以將圖形清晰的顯現(xiàn)出來的過程。何謂 Photo? 答：Photo=Photolithgraphy,光刻，將圖形從光罩上成象到光阻上的過程。 Photo主要流程為何? 答：Photo的流程分為前處理，上光阻，Soft Bake, 曝光，PEB，顯影，Hard Bake等。 何謂PHOTO區(qū)之前處理? 答：在Wafer上涂布光阻之前，需要先對(duì)Wafer表面進(jìn)行一

3、系列的處理工作，以使光阻能在后面的涂布過程中能夠被更可靠的涂布。前處理主要包括Bake，HDMS等過程。其中通過Bake將Wafer表面吸收的水分去除，然后進(jìn)行HDMS工作，以使Wafer表面更容易與光阻結(jié)合。 何謂上光阻? 答：上光阻是為了在Wafer表面得到厚度均勻的光阻薄膜。光阻通過噴嘴（Nozzle）被噴涂在高速旋轉(zhuǎn)的Wafer表面，并在離心力的作用下被均勻的涂布在Wafer的表面。 何謂Soft Bake? 答：上完光阻之后，要進(jìn)行Soft Bake，其主要目的是通過Soft Bake將光阻中的溶劑蒸發(fā)，并控制光阻的敏感度和將來的線寬，同時(shí)也將

4、光阻中的殘余內(nèi)應(yīng)力釋放。 何謂曝光? 答：曝光是將涂布在Wafer表面的光阻感光的過程，同時(shí)將光罩上的圖形傳遞到Wafer上的過程。 何謂PEB(Post Exposure Bake)? 答：PEB是在曝光結(jié)束后對(duì)光阻進(jìn)行控制精密的Bake的過程。其目的在于使被曝光的光阻進(jìn)行充分的化學(xué)反應(yīng)，以使被曝光的圖形均勻化。 何謂顯影? 答：顯影類似于洗照片，是將曝光完成的Wafer進(jìn)行成象的過程，通過這個(gè)過程，成象在光阻上的圖形被顯現(xiàn)出來。 何謂Hard Bake? 答：Hard Bake是通過烘烤使顯影完成后殘留在Waf

5、er上的顯影液蒸發(fā)，并且固化顯影完成之后的光阻的圖形的過程。 何為BARC?何為TARC?它們分別的作用是什幺？ 答：BARC=Bottom Anti Reflective Coating, TARC=Top Anti Reflective Coating. BARC是被涂布在光阻下面的一層減少光的反射的物質(zhì)，TARC則是被涂布在光阻上表面的一層減少光的反射的物質(zhì)。他們的作用分別是減少曝光過程中光在光阻的上下表面的反射，以使曝光的大部分能量都被光阻吸收。 何謂 Iline？ 答：曝光過程中用到的光，由Mercury Lamp(汞燈)產(chǎn)生，其波長(zhǎng)為365n

6、m，其波長(zhǎng)較長(zhǎng)，因此曝光完成后圖形的分辨率較差，可應(yīng)用在次重要的層次。 何謂 DUV？ 答：曝光過程中用到的光，其波長(zhǎng)為248nm，其波長(zhǎng)較短，因此曝光完成后的圖形分辨率較好，用于較為重要的制程中。 I-line與DUV主要不同處為何? 答：光源不同，波長(zhǎng)不同，因此應(yīng)用的場(chǎng)合也不同。I-Line主要用在較落后的制程（0.35微米以上）或者較先進(jìn)制程（0.35微米以下）的Non-Critical layer。DUV則用在先進(jìn)制程的Critical layer上。 何為Exposure Field? 答：曝光區(qū)域，一次曝光所能覆蓋的區(qū)域&

7、#160;何謂 Stepper? 其功能為何? 答：一種曝光機(jī)，其曝光動(dòng)作為Step by step形式,一次曝整個(gè)exposure field,一個(gè)一個(gè)曝過去 何謂 Scanner? 其功能為何? 答：一種曝光機(jī)，其曝光動(dòng)作為Scanning and step形式, 在一個(gè)exposure field曝光時(shí), 先Scan完整個(gè)field, Scan完後再移到下一個(gè)field. 何為象差？ 答：代表透鏡成象的能力,越小越好. Scanner比Stepper優(yōu)點(diǎn)為何？ 答：Exposure Field大，象差較小 曝

8、光最重要的兩個(gè)參數(shù)是什幺？ 答：Energy(曝光量), Focus(焦距)。如果能量和焦距調(diào)整的不好，就不能得到要求的分辨率和要求大小的圖形，主要表現(xiàn)在圖形的CD值超出要求的范圍。因此要求在生產(chǎn)時(shí)要時(shí)刻維持最佳的能量和焦距，這兩個(gè)參數(shù)對(duì)于不同的產(chǎn)品會(huì)有不同。 何為Reticle? 答：Reticle也稱為Mask，翻譯做光掩模板或者光罩，曝光過程中的原始圖形的載體，通過曝光過程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上。 何為Pellicle? 答：Pellicle是Reticle上為了防止灰塵(dust)或者微塵粒子(Particle)落在光罩的圖形

9、面上的一層保護(hù)膜。 何為OPC光罩？ 答：OPC (Optical Proximity Correction)為了增加曝光圖案的真實(shí)性，做了一些修正的光罩，例如，0.18微米以下的Poly, Metal layer就是OPC光罩。 何為PSM光罩？ 答：PSM (Phase Shift Mask)不同于Cr mask, 利用相位干涉原理成象，目前大都應(yīng)用在contact layer以及較小CD的Critical layer（如AA，POLY，METAL1）以增加圖形的分辨率。 何為CR Mask？ 答：傳統(tǒng)的鉻膜光罩,只是利用光訊0與

10、1干涉成像,主要應(yīng)用在較不Critical 的layer 光罩編號(hào)各位代碼都代表什幺？ 答：例如003700-156AA-1DA, 0037代表產(chǎn)品號(hào)，00代表Special code,156代表layer,A代表客戶版本，后一個(gè)A代表SMIC版本，1代表FAB1，D代表DUV(如果是J,則代表I-line),A代表ASML機(jī)臺(tái)（如果是C，則代表Canon機(jī)臺(tái)） 光罩室同時(shí)不能超過多少人在其中？ 答：2人，為了避免產(chǎn)生更多的Particle和靜電而損壞光罩。 存取光罩的基本原則是什幺？ 答：(1) 光罩盒打開的情況下，不準(zhǔn)進(jìn)出Mask

11、 Room,最多只準(zhǔn)保持2個(gè)人(2) 戴上手套(3) 輕拿輕放 如何避免靜電破壞Mask？ 答：光罩夾子上連一導(dǎo)線到金屬桌面，可以將產(chǎn)生的靜電導(dǎo)出。 光罩POD和FOUP能放在一起嗎？它們之間至少應(yīng)該保持多遠(yuǎn)距離？ 答：不能放在一起，之間至少要有30公分的距離，防止搬動(dòng)FOUP時(shí)碰撞光罩Pod而損壞光罩。 何謂 Track? 答：Photo制程中一系列步驟的組合，其包括：Wafer的前、后處理，Coating(上光阻)，和Develop(顯影)等過程。In-line Track機(jī)臺(tái)有幾個(gè)Coater槽，幾個(gè)Developer槽？

12、60;答：均為4個(gè) 機(jī)臺(tái)上亮紅燈的處理流程？ 答：機(jī)臺(tái)上紅燈亮起的時(shí)候表明機(jī)臺(tái)處于異常狀態(tài)，此時(shí)已經(jīng)不能RUN貨，因此應(yīng)該及時(shí)Call E.E進(jìn)行處理。若EE現(xiàn)在無法立即解決，則將機(jī)臺(tái)掛DOWN。 何謂 WEE? 其功能為何? 答：Wafer Edge Exposure。由于Wafer邊緣的光阻通常會(huì)涂布的不均勻，因此一般不能得到較好的圖形，而且有時(shí)還會(huì)因此造成光阻peeling而影響其它部分的圖形，因此 將Wafer Edge的光阻曝光，進(jìn)而在顯影的時(shí)候?qū)⑵淙コ?，這樣便可以消除影響。 何為PEB？其功能為何？ 答：Post Expo

13、sure Bake，其功能在于可以得到質(zhì)量較好的圖形。（消除standing waves） PHOTO POLYIMIDE所用的光阻是正光阻還是負(fù)光阻 答：目前正負(fù)光阻都有，SMIC FAB內(nèi)用的為負(fù)光阻。 RUN貨結(jié)束后如何判斷是否有wafer被reject？ 答：查看RUN之前l(fā)ot里有多少Wafer,再看Run之后lot里的WAFER是否有少掉，如果有少，則進(jìn)一步查看機(jī)臺(tái)是否有Reject記錄。 何謂 Overlay? 其功能為何? 答：迭對(duì)測(cè)量?jī)x。由于集成電路是由很多層電路重迭組成的，因此必須保證每一層與前面或者后面的層的對(duì)準(zhǔn)

14、精度，如果對(duì)準(zhǔn)精度超出要求范圍內(nèi)，則可能造成整個(gè)電路不能完成設(shè)計(jì)的工作。因此在每一層的制作的過程中，要對(duì)其與前層的對(duì)準(zhǔn)精度進(jìn)行測(cè)量，如果測(cè)量值超出要求，則必須采取相應(yīng)措施調(diào)整process condition. 何謂 ADI CD? 答：Critical Dimension，光罩圖案中最小的線寬。曝光過后，它的圖形也被復(fù)制在Wafer上，通常如果這些最小的線寬能夠成功的成象，同時(shí)曝光的其它的圖形也能夠成功的成象。因此通常測(cè)量CD的值來確定process的條件是否合適。 何謂 CD-SEM? 其功能為何? 答：掃描電子顯微鏡。是一種測(cè)量用的儀器，通?？梢杂?/p>

15、于測(cè)量CD以及觀察圖案。 PRS的制程目的為何？ 答：PRS (Process Release Standard)通過選擇不同的條件（能量和焦距）對(duì)Wafer曝光，以選擇最佳的process condition。 何為ADI？ADI需檢查的項(xiàng)目有哪些？ 答：After Develop Inspection，曝光和顯影完成之后，通過ADI機(jī)臺(tái)對(duì)所產(chǎn)生的圖形的定性檢查，看其是否正常，其檢查項(xiàng)目包括：Layer ID,Locking Corner,Vernier,Photo Macro Defect 何為OOC, OOS，OCAP？ 答：O

16、OC=out of control,OOS=Out of Spec,OCAP=out of control action plan 當(dāng)需要追貨的時(shí)候，是否需要將ETCH沒有下機(jī)臺(tái)的貨追回來？ 答：需要。因?yàn)橥ǔＪ莗rocess出現(xiàn)了異常，而且影響到了一些貨，因此為了減少損失，必須把還沒有ETCH的貨追回來，否則ETCH之后就無法挽回?fù)p失。 PHOTO ADI檢查的SITE是每片幾個(gè)點(diǎn)？ 答：5點(diǎn)，Wafer中間一點(diǎn)，周圍四點(diǎn)。 PHOTO OVERLAY檢查的SITE是每片幾個(gè)點(diǎn)？ 答：20 PHOTO ADI檢查的片數(shù)一般

17、是哪幾片？ 答：#1，#6，#15，#24; 統(tǒng)計(jì)隨機(jī)的考量 何謂RTMS，其主要功能是什幺？ 答：RTMS (Reticle Management System) 光罩管理系統(tǒng)用于trace光罩的History,Status,Location,and Information以便于光罩管理 PHOTO區(qū)的主機(jī)臺(tái)進(jìn)行PM的周期？ 答：一周一次 PHOTO區(qū)的控片主要有幾種類型 答：(1) Particle :作為Particle monitor用的芯片,使用前測(cè)前需小於10顆(2) Chuck Particle :作為Scan

18、ner測(cè)試Chuck平坦度的專用芯片,其平坦度要求非常高(3) Focus :作為Scanner Daily monitor best 的wafer(4) CD :做為photo區(qū)daily monitor CD穩(wěn)定度的wafer(5) PR thickness :做為光阻厚度測(cè)量的wafer(6) PDM :做為photo defect monitor的wafer 當(dāng)TRACK剛顯示光阻用完時(shí)，其實(shí)機(jī)臺(tái)中還有光阻嗎？ 答：有少量光阻 當(dāng)TRACK剛顯示光阻用完時(shí)，其實(shí)機(jī)臺(tái)中還有光阻嗎？ 答：有少量光阻 WAFER SORTER有讀WAFER刻

19、號(hào)的功能嗎？ 答：有 光刻部的主要機(jī)臺(tái)是什幺? 它們的作用是什幺? 答：光刻部的主要機(jī)臺(tái)是: TRACK(涂膠顯影機(jī)), Sanner(掃描曝光機(jī)) 為什幺說光刻技術(shù)最象日常生活中的照相技術(shù) 答：Track 把光刻膠涂附到芯片上就等同于底片,而曝光機(jī)就是一臺(tái)最高級(jí)的照相機(jī). 光罩上的電路圖形就是"人物". 通過對(duì)準(zhǔn),對(duì)焦,打開快門, 讓一定量的光照過光罩, 其圖像呈現(xiàn)在芯片的光刻膠上, 曝光后的芯片被送回Track 的顯影槽, 被顯影液浸泡, 曝光的光刻膠被洗掉, 圖形就顯現(xiàn)出來了. 光刻技術(shù)的英文是什幺 

20、;答：Photo Lithography 常聽說的.18 或點(diǎn)13 技術(shù)是指什幺? 答：它是指某個(gè)產(chǎn)品,它的最小"CD" 的大小為0.18um or 0.13um. 越小集成度可以越高, 每個(gè)芯片上可做的芯片數(shù)量越多, 難度也越大.它是代表工藝水平的重要參數(shù). 從點(diǎn)18工藝到點(diǎn)13 工藝到點(diǎn)零9. 難度在哪里? 答：難度在光刻部, 因?yàn)閳D形越來越小, 曝光機(jī)分辨率有限. 曝光機(jī)的NA 是什幺? 答：NA是曝光機(jī)的透鏡的數(shù)值孔徑;是光罩對(duì)透鏡張開的角度的正玹值. 最大是1; 先進(jìn)的曝光機(jī)的NA 在0.5 -0.85之

21、間. 曝光機(jī)分辨率是由哪些參數(shù)決定的? 答：分辨率=k1*Lamda/NA. Lamda是用于曝光的光波長(zhǎng);NA是曝光機(jī)的透鏡的數(shù)值孔徑; k1是標(biāo)志工藝水準(zhǔn)的參數(shù), 通常在0.4-0.7之間. 如何提高曝光機(jī)的分辨率呢? 答：減短曝光的光波長(zhǎng), 選擇新的光源; 把透鏡做大,提高NA. 現(xiàn)在的生產(chǎn)線上, 曝光機(jī)的光源有幾種, 波長(zhǎng)多少? 答：有三種: 高壓汞燈光譜中的365nm 譜線, 我們也稱其為I-line; KrF 激光器, 產(chǎn)生248 nm 的光; ArF 激光器, 產(chǎn)生193 nm 的光; 下一代曝光機(jī)光源是什幺?

22、 答：F2 激光器. 波長(zhǎng)157nm 我們可否一直把波長(zhǎng)縮短,以提高分辨率? 困難在哪里? 答：不可以. 困難在透鏡材料. 能透過157nm 的材料是CaF2, 其晶體很難生長(zhǎng). 還未發(fā)現(xiàn)能透過更短波長(zhǎng)的材料. 為什幺光刻區(qū)采用黃光照明？ 答：因?yàn)榘坠庵邪?65nm成份會(huì)使光阻曝光,所以采用黃光; 就象洗像的暗房采用暗紅光照明. 什幺是SEM 答：掃描電子顯微鏡(Scan Electronic Microscope)光刻部常用的也稱道CD SEM. 用它來測(cè)量CD 如何做Overlay 測(cè)量呢? 答：芯

23、片(Wafer)被送進(jìn)Overlay 機(jī)臺(tái)中. 先確定Wafer的位置從而找到Overlay MARK. 這個(gè)MARK 是一個(gè)方塊 IN 方塊的結(jié)構(gòu).大方塊是前層, 小方塊是當(dāng)層;通過小方塊是否在大方塊中心來確定Overlay的好壞. 生產(chǎn)線上最貴的機(jī)器是什幺 答：曝光機(jī);5-15 百萬美金/臺(tái) 曝光機(jī)貴在哪里? 答：曝光機(jī)貴在它的光學(xué)成像系統(tǒng) (它的成像系統(tǒng)由15 到20 個(gè)直徑在200 300MM 的透鏡組成.波面相位差只有最好象機(jī)的5%. 它有精密的定位系統(tǒng)(使用激光工作臺(tái)) 激光工作臺(tái)的定位精度有多高? 答：現(xiàn)用的曝光機(jī)的激光

24、工作臺(tái)定位的重復(fù)精度小于10nm 曝光機(jī)是如何保證Overlay<50nm 答：曝光機(jī)要保證每層的圖形之間對(duì)準(zhǔn)精度<50nm. 它首先要有一個(gè)精準(zhǔn)的激光工作臺(tái), 它把wafer移動(dòng)到準(zhǔn)確的位置. 再就是成像系統(tǒng),它帶來的圖像變形<35nm. 在WAFER 上, 什幺叫一個(gè)Field? 答：光罩上圖形成象在WAFER上, 最大只有26X33mm一塊(這一塊就叫一個(gè)Field),激光工作臺(tái)把WAFER 移動(dòng)一個(gè)Field的位置，再曝一次光，再移動(dòng)再曝光。 直到覆蓋整片WAFER。 所以，一片WAFER 上有約100左右Field. 

25、;什幺叫一個(gè)Die? 答：一個(gè)Die也叫一個(gè)Chip;它是一個(gè)功能完整的芯片。 一個(gè)Field可包含多個(gè)Die; 為什幺曝光機(jī)的綽號(hào)是“印鈔機(jī)” 答：曝光機(jī) 很貴；一天的折舊有3萬-9萬人民幣之多;所以必須充份利用它的產(chǎn)能,它一天可產(chǎn)出1600片WAFER。 Track和Scanner內(nèi)主要使用什幺手段傳遞Wafer： 答：機(jī)器人手臂(robot), Scanner 的ROBOT 有真空(VACCUM)來吸住WAFER. TRACK的ROBOT 設(shè)計(jì)獨(dú)特, 用邊緣HOLD WAFER. 可否用肉眼直接觀察測(cè)量Scanner曝光光源輸出

26、的光 答：絕對(duì)禁止;強(qiáng)光對(duì)眼睛會(huì)有傷害 為什幺黃光區(qū)內(nèi)只有Scanner應(yīng)用Foundation(底座) 答：Scanner曝光對(duì)穩(wěn)定性有極高要求(減震) 近代光刻技術(shù)分哪幾個(gè)階段? 答：從80S 至今可分4階段:它是由曝光光源波長(zhǎng)劃分的;高壓水銀燈的G-line(438nm), I-line(365nm); excimer laser KrF(248nm), ArF laser(193nm) I-line scanner 的工作范圍是多少? 答：CD >0.35um 以上的圖層(LAYER) KrF sca

27、nner 的工作范圍是多少? 答：CD >0.13um 以上的圖層(LAYER) ArF scanner 的工作范圍是多少? 答：CD >0.08um 以上的圖層(LAYER) 什幺是DUV SCANNER 答：DUV SCANNER是 指所用光源為eep Ultra Voliet, 超紫外線即現(xiàn)用的248nm,193nm Scanner Scanner在曝光中可以達(dá)到精確度宏觀理解： 答：Scanner 是一個(gè)集機(jī)，光，電為一體的高精密機(jī)器；為控制iverlay<40nm,在曝光過程中，光罩和Wafer的

28、運(yùn)動(dòng)要保持很高的同步性在250nm/秒的掃描曝光時(shí)，兩者同步位置<10nm相當(dāng)于兩架時(shí)速1000公里小時(shí)的波音747飛機(jī)前后飛行，相距小于10微米 光罩的結(jié)構(gòu)如何？ 答：光罩是一塊石英玻璃，它的一面鍍有一層鉻膜（不透光）在制造光罩時(shí)，用電子束或激光在鉻膜上寫上電路圖形（把部分鉻膜刻掉，透光）在距鉻膜5mm 的地方覆蓋一極薄的透明膜（叫pellicle），保護(hù)鉻膜不受外界污染. 在超凈室（cleanroom）為什幺不能攜帶普通紙 答：普通紙張是由大量短纖維壓制而成，磨擦或撕割都會(huì)產(chǎn)生大量微小塵埃（particle）進(jìn)cleanroom 要帶專用的Cl

29、eanroom Paper. 如何做CD 測(cè)量呢? 答：芯片(Wafer)被送進(jìn)CD SEM 中. 電子束掃過光阻圖形(Pattern).有光阻的地方和無光阻的地方產(chǎn)生的二次電子數(shù)量不同; 處理此信號(hào)可的圖像.對(duì)圖像進(jìn)行測(cè)量得CD. 什幺是DOF 答：DOF 也叫Depth Of Focus, 與照相中所說的景深相似. 光罩上圖形會(huì)在透鏡的另一側(cè)的某個(gè)平面成像, 我們稱之為像平面(Image Plan), 只有將像平面與光阻平面重合(In Focus)才能印出清晰圖形. 當(dāng)離開一段距離后, 圖像模糊. 這一可清晰成像的距離叫DOF 曝光顯影后產(chǎn)

30、生的光阻圖形（Pattern）的作用是什幺？ 答：曝光顯影后產(chǎn)生的光阻圖形有兩個(gè)作用：一是作刻蝕的模板，未蓋有光阻的地方與刻蝕氣體反應(yīng)，被吃掉去除光阻后，就會(huì)有電路圖形留在芯片上另一作用是充當(dāng)例子注入的模板 光阻種類有多少？ 答：光阻種類有很多可根據(jù)它所適用的曝光波長(zhǎng)分為I-line光阻,KrF光阻和ArF光阻 光阻層的厚度大約為多少？ 答：光阻層的厚度與光阻種類有關(guān)I-line光阻最厚，0.7um to 3um. KrF光阻0.4-0.9um. ArF光阻0.2-0.5um. 哪些因素影響光阻厚度？ 答：光阻厚度與芯片（）

31、的旋轉(zhuǎn)速度有關(guān)，越快越薄，與光阻粘稠度有關(guān) 哪些因素影響光阻厚度的均勻度？ 答：光阻厚度均勻度與芯片（）的旋轉(zhuǎn)加速度有關(guān)，越快越均勻，與旋轉(zhuǎn)加減速的時(shí)間點(diǎn)有關(guān) 當(dāng)顯影液或光阻不慎濺入眼睛中如何處理 答：大量清水沖洗眼睛，并查閱顯影液的（Chemical Safety Data Sheet）,把它提供給醫(yī)生，以協(xié)助治療 FAC 根據(jù)工藝需求排氣分幾個(gè)系統(tǒng)? 答：分為一般排氣（General）、酸性排氣（Scrubbers）、堿性排氣（Ammonia）和有機(jī)排氣（Solvent） 四個(gè)系統(tǒng)。 高架 地板分有孔和無孔作用

32、? 答：使循環(huán)空氣能流通 ，不起塵，保證潔凈房?jī)?nèi)的潔凈度; 防靜電；便于HOOK-UP。 離子發(fā)射系統(tǒng)作用 答：離子發(fā)射系統(tǒng)，防止靜電 SMIC潔凈等級(jí)區(qū)域劃分 答：Mask Shop class 1 & 100Fab1 & Fab2 Photo and process area: Class 100Cu-line Al-Line OS1 L3 OS1 L4 testing Class 1000 什幺是制程工藝真空系統(tǒng)(PV) 答：是提供廠區(qū)無塵室生產(chǎn)及測(cè)試機(jī)臺(tái)在制造過程中所需的工藝真空;如真空吸筆、光阻液涂

33、布、吸芯片用真空源等。該系統(tǒng)提供一定的真空壓力(真空度大于 80 kpa)和流量，每天24小時(shí)運(yùn)行 什幺是MAU(Make Up Air Unit),新風(fēng)空調(diào)機(jī)組作用 答：提供潔凈室所需之新風(fēng)，對(duì)新風(fēng)濕度，溫度，及潔凈度進(jìn)行控制，維持潔凈室正壓和濕度要求。 House Vacuum System 作用 答：HV(House Vacuum)系統(tǒng)提供潔凈室制程區(qū)及回風(fēng)區(qū)清潔吸取微塵粒子之真空源，其真空度較低。使用方法為利用軟管連接事先已安裝在高架地板下或柱子內(nèi)的真空吸孔，打開運(yùn)轉(zhuǎn)電源。此系統(tǒng)之運(yùn)用可減低清潔時(shí)的污染。 Filter Fan Unit

34、 System(FFU)作用 答：FFU系統(tǒng)保證潔凈室內(nèi)一定的風(fēng)速和潔凈度，由Fan和Filter(ULPA)組成。 什幺是Clean Room 潔凈室系統(tǒng) 答：潔凈室系統(tǒng)供應(yīng)給制程及機(jī)臺(tái)設(shè)備所需之潔凈度、溫度、濕度、正壓、氣流條件等環(huán)境要求。 Clean room spec:標(biāo)準(zhǔn) 答：Temperature 23 °C ± 1°C(Photo:23 °C ± 0.5°C)Humidity 45%± 5%(Photo:45%± 3% )Class 100Overpr

35、essure +15paAir velocity 0.4m/s ± 0.08m/s Fab 內(nèi)的safety shower的日常維護(hù)及使用監(jiān)督由誰來負(fù)責(zé) 答：Fab 內(nèi)的 Area Owner（若出現(xiàn)無水或大量漏水等可請(qǐng)廠務(wù)水課（19105）協(xié)助） 工程師在正常跑貨用純水做rinse或做機(jī)臺(tái)維護(hù)時(shí)，要注意不能有酸或有機(jī)溶劑（如IPA等）進(jìn)入純水回收系統(tǒng)中，這是因?yàn)椋?#160;答：酸會(huì)導(dǎo)致conductivity(導(dǎo)電率)升高，有機(jī)溶劑會(huì)導(dǎo)致TOC升高。兩者均會(huì)影響并降低純水回收率。 若在Fab 內(nèi)發(fā)現(xiàn)地面有水滴或殘留水等，應(yīng)如何處理或通報(bào)&#

36、160;答：先檢查是否為機(jī)臺(tái)漏水或做PM所致，若為廠務(wù)系統(tǒng)則通知廠務(wù)中控室（12222） 機(jī)臺(tái)若因做PM或其它異常，而要大量排放廢溶劑或廢酸等應(yīng)首先如何通報(bào) 答：通知廠務(wù)主系統(tǒng)水課的值班（19105） 廢水排放管路中酸堿廢水/濃硫酸/廢溶劑等使用何種材質(zhì)的管路? 答：酸堿廢水/高密度聚乙烯(HDPE)濃硫酸/鋼管內(nèi)襯鐵福龍(CS-PTFE)廢溶劑/不琇鋼管(SUS) 若機(jī)臺(tái)內(nèi)的drain管有接錯(cuò)或排放成分分類有誤，將會(huì)導(dǎo)致后端的主系統(tǒng)出現(xiàn)什幺問題? 答：將會(huì)導(dǎo)致后端處理的主系統(tǒng)相關(guān)指標(biāo)處理不合格，從而可能導(dǎo)致公司排放口超標(biāo)排放的事故。

37、 公司做水回收的意義如何? 答：(1) 節(jié)約用水，降低成本。重在環(huán)保。 (2) 符合ISO可持續(xù)發(fā)展的精神和公司環(huán)境保護(hù)暨安全衛(wèi)生政策。 何種氣體歸類為特氣(Specialty Gas)? 答：SiH2Cl2 何種氣體由VMB Stick點(diǎn)供到機(jī)臺(tái)? 答：H2 何種氣體有自燃性? 答：SiH4 何種氣體具有腐蝕性? 答：ClF3 當(dāng)機(jī)臺(tái)用到何種氣體時(shí)，須安裝氣體偵測(cè)器? 答：PH3 名詞解釋 GC, VMB, VMP 答：GC- Gas Cabinet 氣

38、瓶柜VMB- Valve Manifold Box 閥箱，適用于危險(xiǎn)性氣體。VMP- Valve Manifold Panel 閥件盤面，適用于惰性氣體。 標(biāo)準(zhǔn)大氣環(huán)境中氧氣濃度為多少？工作環(huán)靜氧氣濃度低于多少時(shí)人體會(huì)感覺不適？ 答：21% 什幺是氣體的 LEL? H2的LEL 為多少？ 答：LEL- Low Explosive Level 氣體爆炸下限H2 LEL- 4%. 當(dāng)FAB內(nèi)氣體發(fā)生泄漏二級(jí)警報(bào)（既Leak HiHi），氣體警報(bào)燈（LAU）會(huì)如何動(dòng)作？FAB內(nèi)工作人員應(yīng)如何應(yīng)變？ 答：LAU紅、黃燈閃爍、蜂鳴器叫聽從ERC

39、廣播命令，立刻疏散。 化學(xué)供應(yīng)系統(tǒng)中的化學(xué)物質(zhì)特性為何? 答：(1) Acid/Caustic 酸性/腐蝕性(2) Solvent有機(jī)溶劑(3) Slurry研磨液 有機(jī)溶劑柜的安用保護(hù)裝置為何? 答：(1) Gas/Temp. detector;氣體/溫度偵測(cè)器(2) CO2 extinguisher;二氧化碳滅火器 中芯有那幾類研磨液(slurry)系統(tǒng)? 答：(1) Oxide (SiO2) (2) Tungsten (W)鵭 設(shè)備機(jī)臺(tái)總電源是幾伏特? 答：208V OR 380V 欲從事生產(chǎn)/測(cè)試

40、/維護(hù)時(shí),如無法就近取得電源供給,可以無限制使用延長(zhǎng)線嗎? 答：不可以 如何選用電器器材? 答：使用電器器材需采用通過認(rèn)證之正規(guī)品牌 機(jī)臺(tái)開關(guān)可以任意分/合嗎? 答：未經(jīng)確認(rèn)不可隨意分/合任何機(jī)臺(tái)開關(guān),以免造成生產(chǎn)損失及人員傷害. 欲從事生產(chǎn)/測(cè)試/維護(hù)時(shí),如無法就近取得電源供給,也不能無限制使用延長(zhǎng)線,對(duì)嗎? 答：對(duì) 假設(shè)斷路器啟斷容量為16安培導(dǎo)線線徑2.5mm2,電源供應(yīng)電壓?jiǎn)蜗?20伏特,若使用單相5000W電器設(shè)備會(huì)產(chǎn)生何種情況? 答：斷路器跳閘 當(dāng)供電局供電中斷時(shí),人員仍可安心待在F

41、AB中嗎? 答：當(dāng)供電局供電中斷時(shí),本廠因有緊急發(fā)電機(jī)設(shè)備,配合各相關(guān)監(jiān)視系統(tǒng),仍然能保持FAB之Safety,所以人員仍可安心待在FAB中. ETCH 何謂蝕刻(Etch)? 答：將形成在晶圓表面上的薄膜全部，或特定處所去除至必要厚度的制程。 蝕刻種類: 答：(1) 干蝕刻(2) 濕蝕刻 蝕刻對(duì)象依薄膜種類可分為: 答：poly,oxide, metal 半導(dǎo)體中一般金屬導(dǎo)線材質(zhì)為何? 答：鵭線(W)/鋁線(Al)/銅線(Cu) 何謂 dielectric 蝕刻(介電質(zhì)蝕刻)?

42、60;答：Oxide etch and nitride etch 半導(dǎo)體中一般介電質(zhì)材質(zhì)為何? 答：氧化硅/氮化硅 何謂濕式蝕刻 答：利用液相的酸液或溶劑;將不要的薄膜去除 何謂電漿 Plasma? 答：電漿是物質(zhì)的第四狀態(tài).帶有正,負(fù)電荷及中性粒子之總和;其中包含電子,正離子,負(fù)離子,中性分子,活性基及發(fā)散光子等,產(chǎn)生電漿的方法可使用高溫或高電壓. 何謂干式蝕刻? 答：利用plasma將不要的薄膜去除 何謂Under-etching(蝕刻不足)? 答：系指被蝕刻材料，在被蝕刻途中停止造成應(yīng)被去

43、除的薄膜仍有殘留 何謂Over-etching(過蝕刻 ) 答：蝕刻過多造成底層被破壞 何謂Etch rate(蝕刻速率) 答：?jiǎn)挝粫r(shí)間內(nèi)可去除的蝕刻材料厚度或深度 何謂Seasoning(陳化處理) 答：是在蝕刻室的清凈或更換零件后，為要穩(wěn)定制程條件，使用仿真（dummy） 晶圓進(jìn)行數(shù)次的蝕刻循環(huán)。 Asher的主要用途: 答：光阻去除 Wet bench dryer 功用為何? 答：將晶圓表面的水份去除 列舉目前Wet bench dry方法: 答：(1) Spin Dr

44、yer (2) Marangoni dry (3) IPA Vapor Dry 何謂 Spin Dryer 答：利用離心力將晶圓表面的水份去除 何謂 Maragoni Dryer 答：利用表面張力將晶圓表面的水份去除 何謂 IPA Vapor Dryer 答：利用IPA(異丙醇)和水共溶原理將晶圓表面的水份去除 測(cè)Particle時(shí),使用何種測(cè)量?jī)x器? 答：Tencor Surfscan 測(cè)蝕刻速率時(shí),使用何者量測(cè)儀器? 答：膜厚計(jì),測(cè)量膜厚差值 何謂 AEI 答：After

45、 Etching Inspection 蝕刻后的檢查 AEI目檢Wafer須檢查哪些項(xiàng)目: 答：(1) 正面顏色是否異常及刮傷 (2) 有無缺角及Particle (3)刻號(hào)是否正確 金屬蝕刻機(jī)臺(tái)轉(zhuǎn)非金屬蝕刻機(jī)臺(tái)時(shí)應(yīng)如何處理? 答：清機(jī)防止金屬污染問題 金屬蝕刻機(jī)臺(tái)asher的功用為何? 答：去光阻及防止腐蝕 金屬蝕刻后為何不可使用一般硫酸槽進(jìn)行清洗? 答：因?yàn)榻饘倬€會(huì)溶于硫酸中 "Hot Plate"機(jī)臺(tái)是什幺用途? 答：烘烤 Hot Plate 烘烤溫度為何?&

46、#160;答：90120 度C 何種氣體為Poly ETCH主要使用氣體? 答：Cl2, HBr, HCl 用于Al 金屬蝕刻的主要?dú)怏w為 答：Cl2, BCl3 用于W金屬蝕刻的主要?dú)怏w為 答：SF6 何種氣體為oxide vai/contact ETCH主要使用氣體? 答：C4F8, C5F8, C4F6 硫酸槽的化學(xué)成份為: 答：H2SO4/H2O2 AMP槽的化學(xué)成份為: 答：NH4OH/H2O2/H2O UV curing 是什幺用途? 答：利用UV光對(duì)光阻進(jìn)行預(yù)處理以加強(qiáng)光阻的強(qiáng)度 "UV curing"用于何種層次? 答：金屬層