二楊氏雙縫干涉1裝置與圖象課件_第1頁(yè)
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二.楊氏雙縫干涉 1.裝置 與圖象：x干涉屏幕上某處： E1= E cos（t1+） E2 = E cos（t2+） E = E1 + E2當(dāng)位相差 =（t2 +）-（t1 +）= （t2 - t1）=2（r2 - r1）/ c =2/（r2 r1）= E 為最大與最小，上公式稱(chēng)為干涉的明暗條件。2.明暗條件 見(jiàn)圖：r1r2上式中：r = r 2 r1稱(chēng)為光波在真空中的波程差，明暗條件可寫(xiě)為： 設(shè)雙縫間距為d，縫與屏距離為L(zhǎng)，干涉位置為x，則有：r = d sind Lsinx/L明紋位置：暗紋位置：三.洛埃鏡(Lloyods mirror)1.裝置 見(jiàn)圖S為虛光源，實(shí)質(zhì)是入射光與反射光的干涉。平面反射鏡干涉條紋與楊氏雙縫相同，但只有上半部分。O2.半波損失：將屏幕移向平面鏡，在O點(diǎn)為暗條紋。說(shuō)明什么？反射時(shí)振動(dòng)方向出現(xiàn)突變，位相變化，相當(dāng)于多走半個(gè)波長(zhǎng)。稱(chēng)為反射時(shí)的半波損失(half wave loss)。何時(shí)出現(xiàn)半波損失？ 光從光疏介質(zhì)(optically thinner medium)射到光密介質(zhì)(optically denser medium)時(shí)，反射光才有半波損失

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