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1大學(xué)物理規(guī)范作業(yè)上冊(cè)總(10)雙縫薄膜劈尖干涉第1頁一、選擇題1.在雙縫干涉試驗(yàn)中,為使屏上干涉條紋間距變大,能夠采取方法是(A)使屏靠近雙縫(B)使兩縫間距變小(C)把兩個(gè)縫寬度稍微調(diào)窄(D)改用波長(zhǎng)較小單色光源
分析:條紋間距要使干涉條紋間距變大,D變大,變大或d變小?!綛】第2頁2.折射率為n2、厚度為e透明介質(zhì)薄膜上方和下方透明介質(zhì)折射率分別為n1和n3,已知n1<n2<n3,若用波長(zhǎng)為λ單色平行光垂直入射到該薄膜上,則從薄膜上、下兩表面反射光束(1)與(2)光程差是A、2n2eB、2n2e-λC、2n2e-λD、2n2e-λ/2n2分析:因?yàn)閚1<n2<n3,可知該入射光在薄膜上、下表面反射時(shí)均存在半波損失。兩反射光光程差為【A】第3頁3.如圖所表示,兩個(gè)直徑有微小差異彼此平行滾柱之間距離為L(zhǎng),夾在兩塊平面晶體中間,形成空氣劈形膜,當(dāng)單色光垂直入射時(shí),產(chǎn)生等厚干涉條紋,假如滾柱之間距離L變小,則在L范圍內(nèi)干涉條紋(A)數(shù)目減小,間距變大(B)數(shù)目減小,間距不變(C)數(shù)目不變,間距變?。―)數(shù)目增加,間距變小L分析:反射光光程為設(shè)e1、e2分別為兩滾柱直徑,反射光中明紋條件明紋數(shù)目為條紋數(shù)目與L無關(guān)。L變小,條紋數(shù)目不變,所以間距變小?!綾】第4頁二、填空題1.雙縫干涉試驗(yàn)中,光波長(zhǎng)為600nm,雙縫間距為2mm,雙縫與屏間距為3m,則在屏上形成干涉圖樣明紋間距為
;當(dāng)另一波長(zhǎng)為400nm光與前一光混合入射時(shí),在距中央亮紋O點(diǎn)為
處,兩組干涉條紋亮紋發(fā)生第一次重合。
分析:條紋間距依據(jù)雙縫干涉明紋條件當(dāng)兩組干涉條紋重合時(shí),這兩組干涉條紋位置重合即0.9mm1.8mm第5頁2、兩塊長(zhǎng)度10cm平玻璃片,一端相互接觸,另一端用厚度為0.004mm紙片隔開,形成空氣劈形膜。以波長(zhǎng)為500nm平行光垂直照射,觀察反射光等厚干涉條紋,在全部10cm長(zhǎng)度內(nèi)展現(xiàn)
條明紋。分析:設(shè)空氣最大厚度為e,依據(jù)明紋條件所以明紋數(shù)目為16。16第6頁3.在制作珠寶時(shí),為了使人造水晶(n3=1.5)含有強(qiáng)反射效果,就在其表面上鍍一層一氧化硅(n2=2.0)。要使波長(zhǎng)為560nm光強(qiáng)烈反射,這鍍層厚度最少為
。分析:因?yàn)閚1<n2>n3(n1為空氣折射率),可知該入射光在薄膜上表面反射時(shí)存在半波損失,而在薄膜下表面反射時(shí)無半波損失。明紋條件鍍層厚度70nm第7頁三、計(jì)算題1.在雙縫干涉試驗(yàn)中,波長(zhǎng)=600nm單色平行光垂直入射到縫間距d=2×10-4m雙縫上,屏到雙縫距離D=2m。求:(1)中央明紋兩側(cè)兩條第10級(jí)明紋中心間距;(2)用一厚度為e=9.6×10-6m、折射率為n=1.50玻璃片覆蓋上縫后,零級(jí)明紋將移到原來第幾級(jí)明紋處?(2)覆蓋玻璃后,零級(jí)明紋應(yīng)滿足:r2-(r1-e+ne)=0設(shè)不蓋玻璃片時(shí),此點(diǎn)為第k級(jí)明紋,則應(yīng)有:
r2-r1=k
解:(1)x=20D/a=0.12m所以:(n-1)e=k,
k=(n-1)e/=8零級(jí)明紋移到原第8級(jí)明紋處。第8頁2.集成光學(xué)中楔形薄膜耦合器原理如圖所表示。沉積在玻璃襯底上是氧化鉭(Ta2O5)薄膜,其楔形端從A到B厚度逐步減小為零。為測(cè)定薄膜厚度,用波長(zhǎng)=632.8nmHe-Ne激光垂直照射,觀察到薄膜楔形端共出現(xiàn)11條暗紋,且A處對(duì)應(yīng)一條暗紋,試求氧化鉭薄膜厚度(Ta2O5對(duì)632.8nm激光折射率為2.21,玻璃中折射率為1.46)。AB解:光在
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