專利基礎(chǔ)知識(shí)講課

專利基礎(chǔ)知識(shí)講課目錄1、專利的種類2、創(chuàng)造、實(shí)用新型專利的申請(qǐng)策略3、申請(qǐng)專利需要考慮的方面4、技術(shù)人員對(duì)已公開專利技術(shù)的使用5、如何開掘企業(yè)專利6、技術(shù)交底書的提供6.1、電學(xué)角度6.2、計(jì)算機(jī)軟件的角度6.3、機(jī)械構(gòu)造角度1、專利的種類1.1中國專利的分類：?創(chuàng)造：創(chuàng)造是指對(duì)產(chǎn)品、方法或者其改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案。?實(shí)用新型：實(shí)用新型是指對(duì)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。?外觀：外觀設(shè)計(jì)是指對(duì)產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結(jié)合以及色彩與形狀、圖案的結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)應(yīng)用的新設(shè)計(jì)。保護(hù)期限創(chuàng)造專利：自申請(qǐng)之日起20年實(shí)用新型專利和外觀專利：自申請(qǐng)之日起10年。審批、授權(quán)☆創(chuàng)造：初審+實(shí)審?初審：3~6個(gè)月☆實(shí)用新型：形式審查?形式審查：4~6個(gè)月☆外觀專利：形式審查?形式審查：4~6個(gè)月授權(quán)條件授予專利權(quán)的創(chuàng)造和實(shí)用新型，應(yīng)當(dāng)具備新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性。新穎性，是指該創(chuàng)造或者實(shí)用新型不屬于現(xiàn)有技術(shù)；也沒有任何單位或者個(gè)人就同樣的創(chuàng)造或者實(shí)用新型在申請(qǐng)日以前向國務(wù)院專利行政部門提出過申請(qǐng)，并記載在申請(qǐng)日以后公布的專利申請(qǐng)文件或者公告的專利文件中。創(chuàng)造性，是指與現(xiàn)有技術(shù)相比，該創(chuàng)造具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步，該實(shí)用新型具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和進(jìn)步。實(shí)用性，是指該創(chuàng)造或者實(shí)用新型能夠制造或者使用，并且能夠產(chǎn)生積極效果。本法所稱現(xiàn)有技術(shù)，是指申請(qǐng)日以前在國內(nèi)外為公眾所知的技術(shù)。專利法不授予專利權(quán)的客體1、科學(xué)發(fā)現(xiàn)；如科學(xué)原理、定理、數(shù)學(xué)發(fā)現(xiàn)；2、智力活動(dòng)的規(guī)那么和方法；

上述規(guī)那么和方法包括：

組織、生產(chǎn)、商業(yè)實(shí)施和經(jīng)濟(jì)管理的方法及制度；

交通行車規(guī)那么、時(shí)間調(diào)度表、比賽規(guī)那么；

演繹、推理和運(yùn)籌的方法；

圖書分類規(guī)那么、字典的編排方法、情報(bào)檢索方法、專利分類法；

日歷的編排規(guī)那么和方法；

儀器和設(shè)備的操作說明；

各種語言的語法、漢字編碼方法；

計(jì)算機(jī)的語言及計(jì)算規(guī)那么……專利法不授予專利權(quán)的客體二3、疾病的診斷和治療方法；4、動(dòng)物和植物品種；5、用原子核變換方法獲得的物質(zhì)：如輻射育種等；

第四款所列產(chǎn)品的生產(chǎn)方法可以獲得專利權(quán)，如用生物工程方法。2、創(chuàng)造、實(shí)用新型專利的申請(qǐng)策略★創(chuàng)造優(yōu)點(diǎn)：1、保護(hù)時(shí)間長2、專利穩(wěn)定性好，不易被無效3、可直接用于起訴☆創(chuàng)造缺點(diǎn)：1、授權(quán)時(shí)間長2、授權(quán)存在風(fēng)險(xiǎn)★實(shí)用新型優(yōu)點(diǎn)：1、授權(quán)時(shí)間短2、授權(quán)幾率大☆實(shí)用新型缺點(diǎn)：1、保護(hù)時(shí)間短2、專利穩(wěn)定性難以保證3、起訴時(shí)須出具專利評(píng)價(jià)報(bào)告申請(qǐng)策略：?軟件改進(jìn)創(chuàng)造：只能申請(qǐng)創(chuàng)造專利；?硬件改進(jìn)創(chuàng)造：可申請(qǐng)創(chuàng)造，也可申請(qǐng)實(shí)用新型；?一案兩申請(qǐng)：同一技術(shù)同一日同時(shí)申請(qǐng)一個(gè)創(chuàng)造和一個(gè)實(shí)用新型專利對(duì)一個(gè)企業(yè)的作用1、專利=市場(chǎng)2、專利=自我保護(hù)3、專利=企業(yè)形象+廣告效應(yīng)4、專利=其他3、申請(qǐng)專利需要考慮的方面、技術(shù)的創(chuàng)新點(diǎn)、技術(shù)的更新周期、技術(shù)的市場(chǎng)前景4、技術(shù)人員對(duì)已公開專利技術(shù)的使用、地域性、外國專利有無在中國申請(qǐng)、外國專利有無在產(chǎn)品進(jìn)口及銷售國申請(qǐng)、時(shí)間性、專利技術(shù)是否因保護(hù)期限屆滿已過期、專利技術(shù)是否因其他原因已失效4.3、合理利用4.3.1、未在中國申請(qǐng)4.3.2、專利權(quán)已喪失4.4、專利技術(shù)檢索4.4.1：中國專利局4.4.2：PCT4.4.3：歐洲專利局://ep.espacenet/5、如何開掘企業(yè)專利、專利頭上的光環(huán)專利實(shí)際上并不那么神秘、專利的實(shí)質(zhì)揭開專利的面紗，專利的實(shí)質(zhì)是技術(shù)的創(chuàng)新開掘?qū)＠姆ㄩT反向挖掘?qū)＠慕坏讜峤粫r(shí)的三要素突出一個(gè)重點(diǎn)：指出關(guān)鍵點(diǎn)或者需要保護(hù)的點(diǎn),即本創(chuàng)造與現(xiàn)有技術(shù)的最大區(qū)別之處，能夠解決現(xiàn)有技術(shù)的根本問題，能夠突出表達(dá)本創(chuàng)造的效果，離開了該點(diǎn)本創(chuàng)造就無法實(shí)施。把握一條主線：現(xiàn)有技術(shù)存在怎樣的技術(shù)問題——本創(chuàng)造如何解決——進(jìn)而到達(dá)怎樣的效果。堅(jiān)持一個(gè)原那么：論證原那么：從論證的角度描述存在的技術(shù)問題、本創(chuàng)造的效果，說明“為什么〞。5.3、專利的挖掘點(diǎn)〔躲避設(shè)計(jì)的運(yùn)用〕躲避設(shè)計(jì)(DesignAroundorInventAround)–競(jìng)爭相對(duì)人以技術(shù)或研發(fā)避開專利保護(hù)范圍，而產(chǎn)出具有一樣功能與結(jié)果的技術(shù)手段消極：防止侵權(quán)訴訟，降低法律風(fēng)險(xiǎn)積極：運(yùn)用專利分析，強(qiáng)化產(chǎn)品競(jìng)爭※可產(chǎn)出創(chuàng)造構(gòu)思※有利于消費(fèi)公眾與整個(gè)社會(huì)進(jìn)步※促進(jìn)整個(gè)產(chǎn)業(yè)的開展※合法競(jìng)爭行為※防止成心侵權(quán)的嫌疑5.4、專利躲避設(shè)計(jì)的特點(diǎn)：5.5、躲避設(shè)計(jì)需要具備專利侵權(quán)判斷知識(shí)

※什么是權(quán)利要求的保護(hù)范圍、必要技術(shù)特征、最正確實(shí)施例※什么是功能限定方式(Means-Plus-Function)※權(quán)利要求書的撰寫形式：劃界、開放式與封閉式寫法等※什么是中心限定原那么、周邊限定原那么※什么是字面侵權(quán)，全面覆蓋原那么，等同原那么，制止反悔原那么※現(xiàn)有技術(shù)抗辯※什么是等同判斷的三步驟〔Function/Way/Result)6、技術(shù)交底書〔如何必要的說明〕※申請(qǐng)主題的鎖定(單一創(chuàng)造原那么)※附圖〔總體構(gòu)造圖與部件圖〕※針對(duì)附圖進(jìn)展詳細(xì)的說明，舉更多的實(shí)施例※技術(shù)背景的重要性〔現(xiàn)有技術(shù)與本案比較〕※權(quán)利要求保護(hù)范圍的表述〔研發(fā)者與代理人思維的差異〕技術(shù)交底書內(nèi)容、技術(shù)領(lǐng)域?寫明要求保護(hù)的技術(shù)方案所屬的技術(shù)領(lǐng)域。?便于審查員對(duì)專利技術(shù)的分類，給出導(dǎo)向作用。6.2、背景技術(shù)?請(qǐng)說明本創(chuàng)造的背景，描述據(jù)申請(qǐng)人所知的本創(chuàng)造的最接近的現(xiàn)有技術(shù)，并描述現(xiàn)有技術(shù)有何優(yōu)缺點(diǎn)，對(duì)其存在的問題或缺乏客觀地進(jìn)展評(píng)述。?只有此局部的精準(zhǔn)描述，才能更加準(zhǔn)確的提煉出創(chuàng)造點(diǎn)所在。6.3、創(chuàng)造內(nèi)容?本專利針對(duì)背景技術(shù)〔或稱現(xiàn)有技術(shù)〕中的缺點(diǎn)做出了那些改進(jìn)？?換言之，就是本專利的閃光點(diǎn)也稱創(chuàng)造點(diǎn)所在。、有益效果?客觀本專利技術(shù)帶來的直接的好處。?有益效果可以由產(chǎn)率、質(zhì)量、精度和效率的提高，能耗、原材料、工序的節(jié)省，加工、操作、控制、使用的簡便，環(huán)境污染的治理或者根治，以及有用性能的出現(xiàn)等方面反映出來。6.5、具體實(shí)施方式?詳細(xì)表達(dá)本專利的實(shí)現(xiàn)過程。?包括各組件之間的連接關(guān)系、信號(hào)走向等，著重表達(dá)創(chuàng)造點(diǎn)所在的技術(shù)方案局部。6.5.1、電子類與附圖對(duì)應(yīng)，描述本創(chuàng)造的每個(gè)功能模塊的作用，這些功能模塊的連接關(guān)系，并描述本創(chuàng)造的工作原理。假設(shè)還有功能模塊的電路原理圖的話，那么要描述構(gòu)成該電路所必需的元器件、部件，這些元器件、部件之間的連接關(guān)系，這些元器件、部件在電路產(chǎn)品中的功能。6.5.2、通信或軟件?與附圖對(duì)應(yīng)，描述本創(chuàng)造的系統(tǒng)組成設(shè)備的作用，這些設(shè)備的連接關(guān)系，并描述本創(chuàng)造的工作原理。假設(shè)其中某一設(shè)備不是現(xiàn)在公知的設(shè)備，那么再參照電子類的提供。?與附圖對(duì)應(yīng)，描述方法或軟件的操作步驟和順序，尤其是表達(dá)創(chuàng)造點(diǎn)的局部，需明確表達(dá)為什么能通過此局部表達(dá)出創(chuàng)造點(diǎn)所實(shí)現(xiàn)的好處。6.5.3、機(jī)械構(gòu)造類?與附圖對(duì)應(yīng)，描述本構(gòu)造的組成、各組成部件之間的連接關(guān)系以及設(shè)計(jì)的巧妙性。?與附圖對(duì)應(yīng)，描述該構(gòu)造，尤其是表達(dá)創(chuàng)造點(diǎn)的局部，需明確表達(dá)為什么能通過此局部表達(dá)出創(chuàng)造點(diǎn)所實(shí)現(xiàn)的好處。6.6、欲保護(hù)點(diǎn)?本專利欲保護(hù)的技術(shù)。?供代理人參考，可能具體的申請(qǐng)文件會(huì)和此局部不一樣。6.7、替代方案?與專利技術(shù)可到達(dá)一樣目的的替代方案，盡可能多的將替代方案列舉出來，才能得到最大范圍上的保護(hù)。?試舉兩例進(jìn)展說明：〔1〕電子硬件方面：如創(chuàng)造點(diǎn)為采用一個(gè)RC濾波器實(shí)現(xiàn)濾波，替代方案：可否用LC濾波器實(shí)現(xiàn)？〔2〕軟件方面：如創(chuàng)造點(diǎn)為一個(gè)“冒泡法〞實(shí)現(xiàn)數(shù)組排列，替代方案：可否用“比較法〞實(shí)現(xiàn)？6.8、附圖：?電學(xué)方面，創(chuàng)造點(diǎn)〔或稱創(chuàng)新點(diǎn)〕在電路方面?電路原理圖，針對(duì)電路原理圖說明創(chuàng)造點(diǎn)所在?電路方框圖?電路原理圖中的芯片名稱和作用?計(jì)算機(jī)軟件方面?軟件流程圖?針對(duì)流程圖說明創(chuàng)造的創(chuàng)新性所在?機(jī)械構(gòu)造方面，創(chuàng)造點(diǎn)〔或稱創(chuàng)新點(diǎn)〕在于產(chǎn)品的構(gòu)造方面?該構(gòu)造的立體圖、剖面