標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 14863-2013 用柵控和非柵控二極管的電壓電容關(guān)系測(cè)定硅外延層中凈載流子濃度的方法》相比于其前版《GB/T 14863-1993 用柵控和非柵控二極管的電壓-電容關(guān)系測(cè)定硅外延層中凈載流子濃度的標(biāo)準(zhǔn)方法》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了更新與調(diào)整:
-
技術(shù)內(nèi)容的更新:2013版標(biāo)準(zhǔn)對(duì)測(cè)量原理、測(cè)試設(shè)備、樣品制備、測(cè)試步驟及數(shù)據(jù)分析方法等方面的技術(shù)描述進(jìn)行了修訂和完善,以反映近年來該領(lǐng)域技術(shù)的發(fā)展和進(jìn)步。例如,可能包含了更精確的測(cè)量技術(shù)和數(shù)據(jù)處理算法,以提高測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和重復(fù)性。
-
標(biāo)準(zhǔn)適用范圍的明確:新版標(biāo)準(zhǔn)可能對(duì)適用的樣品類型、外延層厚度、以及測(cè)量條件等給出了更為具體或擴(kuò)展的界定,確保標(biāo)準(zhǔn)的適用性和實(shí)用性得到增強(qiáng)。
-
術(shù)語和定義的規(guī)范:隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步,相關(guān)專業(yè)術(shù)語可能有所變化或新增。2013版標(biāo)準(zhǔn)對(duì)涉及的專業(yè)術(shù)語進(jìn)行了更新和規(guī)范,以保持與國際標(biāo)準(zhǔn)的一致性,并便于讀者理解和應(yīng)用。
-
測(cè)量精度與誤差分析的改進(jìn):新標(biāo)準(zhǔn)可能引入了更嚴(yán)格的數(shù)據(jù)處理規(guī)則和誤差分析方法,包括對(duì)測(cè)量不確定度的評(píng)估指南,以幫助用戶更好地理解并控制實(shí)驗(yàn)中的誤差來源。
-
參考文獻(xiàn)和案例研究的更新:為保證標(biāo)準(zhǔn)的先進(jìn)性和實(shí)用性,2013版標(biāo)準(zhǔn)引用了最新的科研成果和實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),可能增加了新的參考文獻(xiàn),提供更豐富的案例分析或比較研究,以指導(dǎo)實(shí)際操作。
-
格式與表述的優(yōu)化:遵循國家標(biāo)準(zhǔn)的最新編寫規(guī)則,2013版在文檔結(jié)構(gòu)、圖表設(shè)計(jì)、語言表述等方面進(jìn)行了優(yōu)化,提高了標(biāo)準(zhǔn)的可讀性和易用性。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 廢止
- 已被廢除、停止使用,并不再更新
- 2013-12-31 頒布
- 2014-08-15 實(shí)施
下載本文檔
GB/T 14863-2013用柵控和非柵控二極管的電壓電容關(guān)系測(cè)定硅外延層中凈載流子濃度的方法-免費(fèi)下載試讀頁文檔簡(jiǎn)介
ICS29045
H80.
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T14863—2013
代替
GB/T14863—1993
用柵控和非柵控二極管的電壓電容關(guān)系
測(cè)定硅外延層中凈載流子濃度的方法
Methodfornetcarrierdensityinsiliconepitaxiallayersbyvoltage-capacitance
ofgatedandungateddiodes
2013-12-31發(fā)布2014-08-15實(shí)施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T14863—2013
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)代替用柵控和非柵控二極管的電壓電容關(guān)系測(cè)定硅外延層中凈載流
GB/T14863—1993《-
子濃度的標(biāo)準(zhǔn)方法
》。
本標(biāo)準(zhǔn)與相比主要有下列變化
GB/T14863—1993,:
增加了標(biāo)準(zhǔn)的前言
———“”;
調(diào)整并增加了引用標(biāo)準(zhǔn)
———;
對(duì)試驗(yàn)條件試驗(yàn)方法進(jìn)行了簡(jiǎn)化和調(diào)整
———、;
對(duì)附錄進(jìn)行了調(diào)整
———。
本標(biāo)準(zhǔn)由中華人民共和國工業(yè)和信息化部提出
。
本標(biāo)準(zhǔn)由中國電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院歸口
。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位信息產(chǎn)業(yè)部專用材料質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心中國電子科技集團(tuán)公司第四十六研究
:、
所中國電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院
、。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人何秀坤董顏輝周智慧段曙光劉筠
:、、、、。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為
:
———GB/T14863—1993。
Ⅰ
GB/T14863—2013
用柵控和非柵控二極管的電壓電容關(guān)系
測(cè)定硅外延層中凈載流子濃度的方法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用柵控和非柵控二極管的電壓電容關(guān)系測(cè)定硅外延層中凈載流子濃度的測(cè)試方法
。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于外延層厚度不小于某一最小厚度值見附錄相同或相反導(dǎo)電類型襯底上的型或
(A)n
型外延層的凈載流子濃度測(cè)量本標(biāo)準(zhǔn)也適用于硅拋光片的凈載流子濃度測(cè)量
p。。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
硅外延層擴(kuò)散層和離子注入層薄層電阻的測(cè)定直排四探針法
GB/T14141、
硅外延層載流子濃度測(cè)定汞探針電容電壓法
GB/T14146-
重?fù)诫s襯底上輕摻雜硅外延厚度的紅外反射測(cè)量方法
GB/T14847
用磨角和染色技術(shù)測(cè)定硅外延或擴(kuò)散層厚度的試驗(yàn)方法
SEMIMF110-1105
3術(shù)語和定義
下列術(shù)語和定義適用于本文件
。
31
.
擊穿電壓breakdownvoltage
被測(cè)二極管出現(xiàn)漏電電流時(shí)的反向偏壓
10μA。
4方法原理
測(cè)量柵控或非柵控結(jié)或肖特基二極管的小訊號(hào)高頻電容與反向偏壓的函數(shù)關(guān)系由所測(cè)電容
p-n,
和反向偏壓值確定凈載流子濃度與深度的函數(shù)關(guān)系對(duì)于柵控二極管的測(cè)量柵極加一恒定偏壓
。,。
5測(cè)量儀器
51電容電橋或電容計(jì)
.
量程滿刻度為以倍增大或減小測(cè)量頻率范圍為每個(gè)
1pF~1000pF,10。0.09MHz~1.1MHz,
量程準(zhǔn)確度優(yōu)于滿刻度的重復(fù)性優(yōu)于滿刻度的儀器應(yīng)能承受或絕對(duì)值更高的外
1.0%,0.25%。200V
加直流偏壓能補(bǔ)償不低于的外部探針架的雜散電容內(nèi)部交流測(cè)量訊號(hào)不大于
,5pF,0.05V(r.m.s)。
52數(shù)字電壓表或電位計(jì)
.
其靈敏度優(yōu)于
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