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/M82200-3/UM型PECVD設備PECVD簡介PECVD即等離子體增強化學氣相淀積設備,是利用高頻電源輝光放電產(chǎn)生等離子體對化學氣相沉積過程施加影響的技術.電子和離子的密度達109~1012個/cm3,平均電子能量可達1~10ev。由于等離子體存在,促進氣體分子的分解、化合、激發(fā)和電離,促進反應活性基團的生成,從而降低沉積溫度.PECVD在200℃~500℃范圍內(nèi)成膜,遠小于其它CVD在700℃~950℃范圍內(nèi)成膜。由于在氨氣條件下,提高了活性基因的擴散能力,從而提高薄膜的生長速度和均勻性。在沉積過程中,由于大量的氫存在,起到表面鈍化作用。目前在太陽電池行業(yè)主要用PECVD設備來淀積氮化硅減反射鈍化膜。氮化硅膜不僅僅有優(yōu)良的光學性能如折射率接近太陽電池所需的最佳折射率,且有良好的絕緣性、致密性、穩(wěn)定性和對雜質(zhì)離子的掩蔽能力。二、M82200-3/UM型的主要性能1成膜種類SixNy2裝片數(shù)量168片/批口125x125方片144片/批口156x156方片3成膜均勻性片內(nèi)≤±5%,片間≤±6%,批間≤±7%(膜厚1um之內(nèi))4使用溫度350~500℃5恒溫區(qū)長度1200mm,±2℃/1200mm,(500℃時)6恒溫區(qū)溫度穩(wěn)定性〈±2℃/24h(350~500℃)7系統(tǒng)真空極限≤5Pa8工作壓力范圍50Pa~300Pa9壓力控制閉環(huán)自動控制10真空恢復時間AP→10Pa〈10min11系統(tǒng)漏氣率停泵關閥后壓升率〈3Pa/min12工藝控制方式由計算機控制自動完成整個工藝流程,有在線修改工藝參數(shù)功能,故障診斷和保護功能.三、M82200—3/UM型的主要配置(以1管為例)系統(tǒng)名稱名稱數(shù)量產(chǎn)地氣路系統(tǒng)氣路管路采用VCR焊接4路進口質(zhì)量流量控制器4個進口氣動閥11個進口單向閥1個進口過濾器3個進口手動閥5個進口減壓閥5個進口/國產(chǎn)真空系統(tǒng)羅茨泵機組1套國產(chǎn)真空氣動閥2個國產(chǎn)電子執(zhí)行器1個國產(chǎn)氣動真空蝶閥1個國產(chǎn)電接點壓力表1個國產(chǎn)薄膜壓力規(guī)1個國產(chǎn)各種法蘭、真空管道、配件1套國產(chǎn)大小波紋管1套國產(chǎn)爐體架系統(tǒng)爐體1臺國產(chǎn)變壓器1臺國產(chǎn)可控硅等1套國產(chǎn)推舟系統(tǒng)導軌、絲桿1套合資步進電機1套合資步進驅(qū)動器1套合資控制系統(tǒng)溫控儀1套進口壓力儀1臺國產(chǎn)計算機系統(tǒng)1套合資熱偶、補償線等1套國產(chǎn)控制柜1套國產(chǎn)放電系統(tǒng)高頻電源1套國產(chǎn)石墨舟1套進口材料石英管1支進口材料四、主要部件的功能及其工作原理4。1?電熱爐(工藝管)?電熱爐是特制的高可靠性的發(fā)熱體,是經(jīng)過特殊工藝制成,它對恒溫區(qū)的長度、精度以及穩(wěn)定度提供了基礎,是影響成膜速率和均勻性的必要條件之一。工藝管是引進美國的產(chǎn)品,具有口徑大、壁厚均勻無氣泡的優(yōu)良性,它水平置于爐體的中央,兩端配有密封法蘭,同時經(jīng)特殊磨口為真空密封提供可靠保證。4。2 推舟系統(tǒng)?推舟系統(tǒng)采用雙滑軌方式絲桿帶動,目的是穩(wěn)定性好,載重負荷大,保證滿足生產(chǎn)工藝的要求。載片舟是經(jīng)特殊設計,在X軸、Y軸、Z軸三個方向可微調(diào),再精加工而成.它直接影響到電場的分布、等離子的產(chǎn)生、氣流的走向、膜的品質(zhì)。成膜壓力甚至氣體的流量都與此結構有關。所以是本設備的核心部件。4.3氣路單元?氣路單元是一個獨立體,所有使用元器件都是進口產(chǎn)品,具有控制精確、動作可靠,布局合理,為安全生產(chǎn)提供一個先決條件.4.4射頻系統(tǒng)射頻系統(tǒng)直接影響成膜的性能,本臺設備將射頻通過最短的路徑通入反應系統(tǒng),減少了干擾和功率損耗。4.5電氣總控及計算機控制 本臺設備計算機自動控制。裝片取片由人工操作。同時有多種報警系統(tǒng),如超溫報警、停水報警、斷偶報警等.4.6真空系統(tǒng)?真空系統(tǒng)是本臺設備的關鍵之一,它是由羅茨泵機組、電動調(diào)節(jié)閥、電磁擋板閥、壓力傳感器、真空管道等組成.五、外圍要求5。1環(huán)境溫度 〈25℃;5.2相對濕度? <75%;5.3凈化等級? 1000級~10000級;5。4電源?? 三相五線,380V/50HZ,50KW/管;5.5冷卻水 水壓0.2Mpa~0。4Mpa;5.6供氣SiH4,NH3,N2,O2,CF4五路氣體,氣壓0.2Mpa~0.45Mpa,純度99.999%以上;5。7配排風排毒裝置;5。8配高頻電源專用線。六、實際消耗(每管)6。1冷卻水:<1m3/hour;6。2電:全速升溫時:<35KW,正常(恒溫)時:<17KW;6.3氣:SiH4:4L/hour;NH3:50L/h

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