半導(dǎo)體清洗工藝課件

半導(dǎo)體清洗工藝超聲波清洗

超聲波清洗工藝超聲波清洗技術(shù)以其清洗潔凈、清洗快速，并節(jié)省大量人力、物力而得到廣泛應(yīng)用?，F(xiàn)從超聲波的清洗原理、超聲波清洗工藝、清洗劑的配制等幾個(gè)方面提供意見，以供參考。

一、超聲波清洗原理

超聲波清洗機(jī)理極為復(fù)雜，到目前為止，還有許多問題有待研究人員論證，目前，相關(guān)人員對(duì)以下提法形成了共識(shí)，利用超聲場所產(chǎn)生強(qiáng)大的作用力，以促使物質(zhì)發(fā)生一系列物理、化學(xué)變化而達(dá)到清洗目的。具體來說：當(dāng)超聲波的高頻(20-50KHZ)機(jī)械振動(dòng)傳給清洗液介質(zhì)以后，液體介質(zhì)在這種高頻波振動(dòng)下將會(huì)產(chǎn)生近真空的“空腔泡”，“空腔泡”對(duì)清洗對(duì)象的強(qiáng)烈的作用稱為“空化作用”。

二、清洗劑的配制

在討論清洗劑的配制時(shí)，首先要想到清洗劑對(duì)污物的清洗原理及清洗過程。洗滌歷史雖然已久，但因洗滌過程及體系的高度復(fù)雜，至今理論界對(duì)之仍只具備理論上研究而對(duì)洗滌過程難以達(dá)到數(shù)據(jù)控制。這是因?yàn)槿芤后w系是多相分散體系。分散介質(zhì)又是含有各式各樣組分的復(fù)雜溶液：體系中涉及的表面和界面，及污垢的性質(zhì)都極為復(fù)雜。具體到光學(xué)鏡片鍍膜前的清洗，簡言之：由于清洗液的存在，使水的表面張力得到極大程度的降低，并使固液面發(fā)生極大程度的潤濕、滲透、乳化等一系列的化學(xué)作用，從而使污物脫離固體表面而使鏡片表面干凈、無塵。

超聲波清洗工藝光學(xué)鏡片加工中不同的工序應(yīng)有不同的清洗工藝，從整體流程看，可分為四道工序：洗滌、漂洗、脫水、干燥。洗滌主要利用有機(jī)溶劑如三氯乙烯對(duì)上盤膠、蠟、防霉劑等的高度溶解而達(dá)預(yù)洗目的，然后利用洗滌劑對(duì)鏡片表面的濕潤、滲透、乳化而綜合成的去污作用。漂洗，通過清水對(duì)鏡片表面的沖洗及超聲作用，使洗滌后松散于鏡片表面的洗滌劑脫離鏡片表面。

脫水：經(jīng)漂洗后的鏡片表面含有大量水分，進(jìn)入脫水劑中進(jìn)行脫水，脫水劑多為有機(jī)溶劑，和水能充分混溶。

干燥：干燥劑應(yīng)和脫水劑沸點(diǎn)相近，互溶性好。

華林科納簡介

CSEBriefIntroduction蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司由中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所合資成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、太陽能光伏設(shè)備、液晶濕制程設(shè)備、真空設(shè)備的研發(fā)、技術(shù)推廣和生產(chǎn)銷售。

SuzhouCSESemiconductorEquipmentTechnologyCo.,Ltd.,isajoint-stockenterpriseinvestedbyCASSuzhouInstituteofNano-techandNano-bionicsandBeijingHLCo.,whichwassetupinMar.2008anditsregisteredcapitalis45millionRMB.TheCompany’smajorproductsaresemiconductorequipments,solarphotovoltaicequipments,LCDcleaningfacilities,vacuumequipmentsandetc.清洗設(shè)備資料上料機(jī)械手下料背部上下位移邊路控制水平傳動(dòng)槽體全自動(dòng)硅料清洗設(shè)備

1.全自動(dòng)硅料清洗設(shè)備主要參數(shù)設(shè)備名稱：全自動(dòng)硅料清洗機(jī)設(shè)備型號(hào)：CSE-DLR-09XX清洗工件：破碎后6~150mm的不規(guī)則硅塊設(shè)備外形尺寸：LxWxH=9000x2250x2300mm；最大產(chǎn)量：1300噸/年節(jié)拍：450秒/批處理量：30kg/批處理最大重量：45Kg2.華林科納全自動(dòng)硅料清洗機(jī)特點(diǎn)PLC控制工藝全過程，10.4英寸大型觸摸屏（彩色）人機(jī)界面顯示。設(shè)備由職業(yè)設(shè)計(jì)師設(shè)計(jì)，采用人性化的設(shè)計(jì)理念，專業(yè)的行業(yè)特用材料定制而成，是設(shè)備實(shí)現(xiàn)性價(jià)比最佳配合的同時(shí)兼顧設(shè)備的美觀大方。設(shè)備為自動(dòng)智能全封閉的清洗設(shè)備，由PLC控制機(jī)械手根據(jù)設(shè)定的工藝程序，自動(dòng)將實(shí)現(xiàn)對(duì)工件的去酸洗、漂洗、超聲、干燥等工藝處理。避免人工操作不確定性和污染，確保產(chǎn)品性能的一致性。合理的潔凈單元及排風(fēng)系統(tǒng)設(shè)置，確保清洗環(huán)境的高潔凈度。優(yōu)異的工藝配置確保產(chǎn)品的質(zhì)量的同時(shí)，提供多種循環(huán)利用功能，為您節(jié)省消耗成本。設(shè)備采用不間斷流程節(jié)拍，可以很好的結(jié)合工廠生產(chǎn)需要，配有手動(dòng)、自動(dòng)相互轉(zhuǎn)換功能。采用單臂式機(jī)械臂，由進(jìn)口伺服馬達(dá)控制，定位精度≤0.3mm，可靠性高；升降及懸臂部分均用PP包覆，使用壽命長；加減速運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)，沖擊??；單獨(dú)的機(jī)械臂急停開關(guān)和過載保護(hù)等多重保護(hù)，確保操作安全。精巧周到的細(xì)節(jié)設(shè)計(jì)，使給你意想不到的回報(bào)；

設(shè)備構(gòu)成

面向設(shè)備，左端上料，右端下料，觸摸屏于左前端。設(shè)備由本體、進(jìn)料工位、超聲槽（個(gè)）、酸洗槽（1個(gè)）、三階溢流槽（1套）、氮?dú)馇兴郏?個(gè)）、真空烘干槽（3個(gè)）、出料工位、電氣控制部分等組成。聯(lián)系我們蘇州華林科納半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司地址：蘇州工業(yè)園區(qū)獨(dú)墅湖高等教育區(qū)若水路398號(hào)聯(lián)系人：王麗娟電話箱：網(wǎng)址：SuzhouCSESemiconductorEquipmentTechnology