鍍膜員工試題庫填空題

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1.關(guān)機時,關(guān)掉擴散泵加熱，需要冷卻60分種以上時間才可以關(guān)掉總電源2.我們正常鍍膜過程中鏡片需要鍍膜的一面應(yīng)當向下放置。3、寫出+XP的意思向正方向調(diào)X方向位置

4.新科隆機SID1100中生產(chǎn)IRCUT濾色片,每層開鍍時,TiO2材料的起始光控曲線方向向上,SiO2材料的光控曲線方向向下。

5.新科隆機SID1100中的離子源,有3片柵極,從上到下依次為TOP,MID,BOT;柵極間總共有12片陶瓷片絕緣.

6.現(xiàn)在我們使用的鍍膜機光學控制方式有反射式和透射式兩種,昭和機屬于透射式新科隆機屬于反射式，光馳機屬于反射式。

7.一致蒸發(fā)條件下，餅料的SIO2，和顆粒狀的SIO2，餅料的SiO2所需的蒸發(fā)功率要高。

8.比較以下膜料正常蒸發(fā)功率，由大到小排列：MgF2H4SiO2H4>SiO2>MgF29.選擇以下光學原理：a、光的反射原理b、光的折射原理c、光的干擾原理d、光的投射原理（1）看到水中筷子是彎曲的,利用光的b（2）看到鏡子里自已像，利用光的a（3）光學薄膜利用光的c

1０.真空可以大致分為四段，分別為初真空、低真空、高真空、超高真空

1１.在真空的定義范圍內(nèi)，高真空度范圍是10-1-10-6Pa

1２.電子槍分為180°槍和270°槍，而目前韓一機器的電子槍180度，光馳機器的電子槍180度，昭和機器的電子槍270度，新柯隆機器的電子槍180度，

1３.鏡片放到鍍膜機后，關(guān)門加熱抽真空，等到真空度和溫度到達，兩者都滿足設(shè)定要求后，機器才能開始鍍膜。

1４．目前我們鍍膜機有兩種厚度控制方法：晶振控制和光控控制、1５．昭和機器在沒有放光控監(jiān)控片下鍍膜時，光控曲線直線形狀16、報警程序中PFC報警，其中PFC含義：POLYCOLD

17、當擴散泵指示燈閃爍時說明擴散泵還在加熱中，還不能開啟高閥。

18、當擴散泵指示燈不閃爍時說明擴散泵已加熱完成，可以正常工作。19、寫出-YS的意思減少Y方向電子槍光斑大小

20、目前我們鍍膜機抽真空系統(tǒng)由機械泵、羅茨泵、擴散泵組成21、鍍膜機中,膜層厚度的記錄單位是:埃（A）,與米(m)的換算關(guān)系是:10-10,速率的單位是:A/S.

22、保持鍍膜機開門時間盡可能的短，是為了防止真空室內(nèi)部的護板吸附空氣中的水汽，使鍍膜機的抽速變慢，影響產(chǎn)品的品質(zhì)。

23、薄膜微觀結(jié)構(gòu)是柱狀結(jié)構(gòu)，為了改善膜層結(jié)構(gòu)，提高聚集密度，分別出現(xiàn)了三種成膜工藝離子輔助、反應(yīng)離子鍍、濺射

24光學鍍膜機真空排氣系統(tǒng)中，機械泵排氣原理：機械壓縮排除氣體擴散泵排氣原理：靠蒸汽射流攜帶排除氣體

25、POLYCOLD工作原理：利用低溫表面對氣體進行物理吸附排氣

26、寫出以下薄膜種類符號：（1）減反膜（2）、分束膜（3）內(nèi)反射（4）偏振膜

27、寫出以下真空度轉(zhuǎn)換關(guān)系：1Pa=10-2Mbar=0.75E-2Torr1Torr=133Pa=1.33Mbar

28、鍍單層MgF2,目前鍍的是500nm，晶振厚度是1000A，而現(xiàn)在需要鍍550nm，那么輸入晶振厚度約為1100A

29、該層晶振厚度是800A，現(xiàn)已鍍了150A，由于某種原因充氣而需要加鍍，那么加鍍晶振厚度是650A

30、寫出鍍膜機各控制閥門的中文名稱：MV高閥DP擴散泵RV粗抽閥SLV細充氣閥FV輔助閥

31、光學玻璃BK7折射率為1.517,則該玻璃表面單面反射率是4.219%。32、真空規(guī)管測量原理通過氣體放電方式產(chǎn)生電子，通過磁場使電子獲得能量將氣體分子電離

33、石英晶體控制原理主要是利用了石英晶體的兩個效應(yīng)，即壓電效應(yīng)和質(zhì)量負荷效應(yīng)。

34、長波通膜系基本結(jié)構(gòu)公式A/(0.5HL0.5H)^p/G短波通膜系基本結(jié)構(gòu)公式A/(0.5LH0.5L)^p/G

35、現(xiàn)配有2把電子槍，面向機器左邊為EB1,右邊為EB2.36、正常新晶振的頻率為6MHz左右.

37、一般狀況下,真空達到7.0Pa以上,高閥才會自動開啟,5E-3Pa時,可以預(yù)熔膜料.

38、開機時,擴散泵中的油溫需加熱到250℃左右,擴散泵才能抽真空39、氧氣瓶中氧氣的壓力須大于3KG.

40、若一個膜系40層,每個光控片控制2層膜,再備2片余量,總共需要放22片光控片.

41、鍍膜機開機前必需檢查冷卻水,壓縮空氣,電是否正常,是否穩(wěn)定供應(yīng).42、晶振冷卻水的進水溫度要求是：18~25℃

43、寫出以下膜料分子式：二氧化硅SiO2氟化鎂MgF2二氧化鈦TiO2氧化鋁AL2O3

44、寫出以下膜料分子式的名稱：Ta2O5五氧化二鉭Nb2O5五氧化二釹SiO一氧化硅MgO氧化鎂

45、韓一鍍膜機有2個晶振頭，外邊為1號，里邊為2號。46、在點檢機械泵、羅茨泵部件，必需查看油位是否滿足標準要求47、開啟鍍膜機時，必需給擴散泵預(yù)加熱60分鐘后才能用擴散泵抽真空48、清冼電子槍、規(guī)管或離子源等部件，必需戴手套進行操作

49、利用光控控制鍍膜機，一般在每爐擺放監(jiān)控片數(shù)量必需多于程序中設(shè)定數(shù)量2片才可以關(guān)門。

50、在取放昭和機器光控片時，每個光控套筒里擺放1片清白、無傷痕監(jiān)控片。51、鍍膜人員在機器罩子上取放鏡片時，一定要戴口罩。

52、晶振片和鍍膜材料應(yīng)放在枯燥器中的目的是：防止在空氣中受潮。53、有2塊修正板的鍍膜機，面向機器左邊為MASK1,右邊為MASK2。54、寫出以下中、英名稱：晶振crystalCoating鍍膜真空vacuumOptical光學

55、開鍍膜機之前，先需檢查壓縮空氣壓力在_5-8____公斤56、開啟穩(wěn)壓電源，穩(wěn)壓電壓值應(yīng)為___380___V左右。57、開鍍膜機之前，檢查水壓3-5公斤.

58、光控控制的鍍膜機蒸鍍過程中光控曲線方向為：反射式控制的高折射率材料蒸鍍方向向上；

59、機器大清洗后應(yīng)進行抽真空和加熱處理，才能正常生產(chǎn)。60、我們現(xiàn)在的鍍膜方式屬于熱蒸發(fā)方式。

二、選擇題(不定項選擇題)

1.在鍍膜過程中,石英晶振可以顯示以下哪些因素?(AD)A、蒸發(fā)速率B、蒸發(fā)溫度C、真空度D、膜層厚度

2．材料蒸發(fā)時，充氧的主要目的有哪些？（AB）A、補充材料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜層吸收B、使每次鍍膜時，真空室內(nèi)的真空狀態(tài)相接近C、使蒸發(fā)更穩(wěn)定D、使控制更確切。

3．鍍膜機罩子或放扇形板的轉(zhuǎn)動架須高速轉(zhuǎn)動的目的是（ABCD）A、使同圈的膜層厚度分布均勻B、使內(nèi)外排膜層厚度分布均勻C、使同圈溫度分布均勻D、使內(nèi)外排溫度分布均勻

4、現(xiàn)在我們生產(chǎn)Ir-cut平板濾色片，從反射看平板的顏色是（A）A、紅色B、綠色C、藍色D、沒有規(guī)律

5、油擴散泵上面加冷阱,其作用是(AD).A.防止擴散油分子回流到真空室B.加快排氣速度.C.防止雜物掉入擴散泵.D、提高膜層附著力

6、為使蒸發(fā)材料分子從蒸發(fā)源到達基板時基本不和剩余氣體分子發(fā)生碰撞，故真空室內(nèi)真空度要到達10-3Pa以下,以滿足(B)條件A、氣體分子平均自由程小于蒸發(fā)距離.B、氣體分子平均自由程遠大于蒸發(fā)距離C、氣體分子平均自由程等于蒸發(fā)距離。D、氣體分子平均自由程的平方大于蒸發(fā)距離。

7、對鍍膜材料進行預(yù)熔的目的是（AC）A、去除材料內(nèi)部的雜質(zhì)B、改變材料的表面形狀C、減少材料的放氣D、提高材料的溫度

8、真空鍍膜時真空度范圍應(yīng)在（C）A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空

9、電子槍“FIL〞燈變紅，故障原因是（C）A、電子槍高壓線路故障B、真空室底下門沒有關(guān)好C、電子槍燈絲有問題D、電子槍電流回路故障。10、提高膜層聚集密度工藝有（AD）A、提高離子源功率B、降低溫度C、降低真空度D、提高溫度

11、黃色互補色是（B）A、綠色B、藍色C、紅色D、紫紅色

12、加強膜層和鏡片附著強度，以下那些因素有關(guān)（ABCD）A、鏡片表面清潔度B、鏡片表面溫度C、真空室內(nèi)清潔度D、膜層材料

13、鍍650±10IR-CUT濾色片，請問鍍出在哪個波長范圍內(nèi)合格（B）A、640~660nmB、640~655nmC、630-660nmD、635-660nm

14、在可見光光譜中，綠色波長范圍是（D）A、600-570B、500-450C、630-600D、570-500

15、SID1100的離子源中和器正常工作時,需要以下哪些氣體?(AC)冷卻時需要什么氣體?(C)A、氧氣(O2)B、氮氣(N2)C、氬氣(Ar)D、氦氣(He)16、鍍膜鏡片表面產(chǎn)生雜質(zhì)，以下哪些是可能原因？（ABCD）A、材料本身不純，有雜質(zhì)B、預(yù)熔時沒熔透，鍍膜時有飛濺C、光斑打到邊緣或外邊，將其它物質(zhì)鍍到鏡片上D、坩堝蓋板太臟，預(yù)熔時有膜料殘渣掉進坩堝

17、鍍膜機抽速慢，以下哪些可能會引起？（ABCD）A、各類泵油使用時間太長，已變質(zhì)B、POLYCOLD有問題C、真空室的清潔不到位D、機器有漏氣18、真空室內(nèi)部清掃不清白，可能會導致以下哪些結(jié)果？（ABCD）A、機器抽速慢B、零件表面灰塵C、機器效率降低D、分光特性不重復(fù)

19、以下哪些因素影響內(nèi)外排的均勻性?(ABD)A、電子槍光斑的位置B、電子槍光斑的形狀、大小C、真空度不穩(wěn)定D、修正板的形狀和上升高度.20、正常狀況下,真空室內(nèi)部清洗清白后,機器的抽氣速度將(B)A、變慢B、變快C、不變D、無法判斷。

21、電子槍燈絲變形，可能有以下哪些結(jié)果？（ABCD）A、電子槍光斑變形，位置打偏B、內(nèi)外排分布不均勻C、分光特性不良D、產(chǎn)生雜質(zhì)

23、在一致光斑大小和蒸發(fā)速率的狀況下，AL2O3電子槍功率（A）SiO2電子槍功率A、大于B、小于C、等于D、不知道

24、以下屬于鍍膜機粗抽閥門符號是（C）A、LVB、SLVC、RVD、SRV

三、簡答題。

1．簡述在鍍膜過程中產(chǎn)生雜質(zhì)的原因和對策？

答：原因?qū)Σ?.電子槍周邊沒有清潔清白用吸塵器、百潔布等清冼電子槍部件2坩鍋沒有清冼清白坩鍋邊緣用百潔布、酒精、紗布清冼清白3鍍膜時電子槍光斑不在中間而打到邊緣鍍膜時必需把電子槍光斑打到中間而不能打偏4預(yù)熔材料不透徹把膜料充分地預(yù)熔透徹5預(yù)熔膜料電流加得太快加電流要緩慢，不要加的太快6.電子槍檔板不清白每罩要更換電子槍檔板，以及電子槍檔板要清冼清白7.膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法8.膜料本身不純更換其它品種膜料

2．從操作角度來看，如何操作和保養(yǎng)才能讓一臺鍍膜機的膜系穩(wěn)定？答：此題是員工自由發(fā)揮題目，沒有明確答案，可以從以下三個方面考慮：1、如何依照作業(yè)指導書進行操作？2、如何維護設(shè)備日常保養(yǎng)？3、在鍍膜時出現(xiàn)問題時，怎樣去解決這些問題？3．簡述一下鍍金屬膜本卷須知？答：高的真空度、低基板溫度、快蒸4、在使用擴散泵應(yīng)注意那些事項？

答1、冷卻水不足，必需關(guān)閉擴散泵，否則輕則會造成返油，重則會使擴散泵過熱造成擴散泵油燒焦。（機器若有自動保護裝置，會自動中止擴散泵加熱，并報警）2、擴散泵必需在低真空閥關(guān)閉，預(yù)抽閥開啟，且系統(tǒng)真空高于真空室真空時才能開啟，否則會造成真空室返油

5、光控控制的機器在鍍TIO2，光控程序設(shè)定為START90PERK1STOP10,而現(xiàn)在的光控曲線鍍到80時突然報警，而必需退出程序重新加鍍，請問如何設(shè)置程序進行加鍍？

答：首先把START值從90改到80，然后重新加鍍這一層，讀出極值點數(shù)值，這時過振量應(yīng)當這樣計算STOP值=（終止值-PERK值）/（90-PERK值）*1006、為什么要在高真空下鍍膜？

答：1、真空狀態(tài)下，膜料的熔點溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對高熔點的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點要低得多。也就簡單到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。2、真空狀態(tài)下，真空室中空氣極少，膜料分子從蒸發(fā)源到達基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即分子自由程長。膜料簡單沉積在基片上。3、由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子等化

學活潑分子也少，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會與之發(fā)生化學變化，從而保證膜層的膜料純度。

7、晶振水堵塞后你怎么進行疏通?

答：把晶振冷卻水管進口、出口從連接處斷開，并把閥門關(guān)上，用壓縮空氣氣槍從進口處吹入壓縮空氣，看出口處是否有異物流出？

8、鍍膜機在自動鍍膜時發(fā)生報警，而作為一名操作員工應(yīng)如何處理報警？答：首先按報警暫停按紐，查看報警內(nèi)容，看自已是否知道？能否自已解決？如不能自已解決，查看作業(yè)指導書是否有，如沒有向線長匯報，由線長再向技術(shù)人員詢問如何解決，直到報警內(nèi)容消除后才能按繼續(xù)鍍膜的鍵。

9、利用光控控制，上一罩鍍出IR-CUT，測試曲線波長最長672nm、最短是666nm,而現(xiàn)在要鍍650±10IR-CUT濾色片，請問如何更改參數(shù)？答：=所有光控控制波長×650/67210．根據(jù)你的工作經(jīng)驗，從外表看，如何區(qū)分AL2O3和MGF2材料？答：從形狀來看：AL2O3顆料比較有梭角，MGF2膜料更碎；從顏色來看：AL2O3的顏色要暗一些，MGF2的顏色要亮一些。

11．作為一名交班者，你個人認為應(yīng)當讓接班者明白哪些事情,同時作為一個接班者你個人認為應(yīng)當從前一班中明白哪些事情？

答：此題是員工發(fā)揮題，可以從以下幾個方面答題1、本班在上班時，生產(chǎn)那些產(chǎn)品，以及用的什么膜系來鍍膜的？2、在本班期間出現(xiàn)了那些問題，用什么方法來解決的？以及要注意那些問題，這些都要交給下個班，也需要下個班來詢問這些問題。3、上個班有那些試制需要下個班來完成，把被交待狀況詳細交給下過班。

12．簡述一下鍍膜機的開機及關(guān)機過程。

答：開機冷卻水和壓縮空氣檢查開穩(wěn)壓電源開機器總電源加熱擴散泵開電子槍電源開啟光控電源開記錄儀開關(guān)開晶振開關(guān)開啟電腦關(guān)機：清潔機器抽真空關(guān)擴散泵關(guān)電子槍電源關(guān)光控電源關(guān)記錄儀開關(guān)關(guān)晶振開關(guān)關(guān)電腦關(guān)總電源

13．在鍍膜之前為什么要預(yù)熔材料？

答：在鍍膜之前要把材料預(yù)熔透徹，主要是為了材料進行放氣，消除材料中其它成份，保持鍍膜不產(chǎn)生飛濺和保持真空度穩(wěn)定。14、在鍍膜上傘鏡片之前，我們應(yīng)注意和確認那些項目？

答：1票物相符2可否同罩3是否是被鍍膜面4膜料與程序里的坩堝號是否對應(yīng)5檔板的平穩(wěn)，有無松動6晶片的壽命及活性值。7電子槍壽命及有無異物8光控片是否夠用