第四節(jié)射線衍射方法演示文稿

第四節(jié)射線衍射方法演示文稿現(xiàn)在是1頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四優(yōu)選第四節(jié)射線衍射方法現(xiàn)在是2頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四

依據(jù)：凡是與反射球面相交的倒易結(jié)點(diǎn)都滿足衍射條件而產(chǎn)生衍射。反射球面與倒易結(jié)點(diǎn)相交產(chǎn)生衍射的實(shí)驗(yàn)條件：

1、單色的X射線照射轉(zhuǎn)動(dòng)的晶體

2、多色的X射線照射固定的單晶

3、單色的X射線照射多晶——多晶就其不同位向 而言，相當(dāng)于單晶轉(zhuǎn)動(dòng)?，F(xiàn)在是3頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四反射球2現(xiàn)在是4頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四粉末法現(xiàn)在是5頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四勞埃法現(xiàn)在是6頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四旋轉(zhuǎn)單晶法現(xiàn)在是7頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四按獲取物質(zhì)衍射圖樣的方法：照相法和衍射儀法粉末照相法粉末法:是用單色X射線照射多晶粉末試樣并使之衍射，用照相底片記錄衍射花樣的方法。又稱(chēng)之為粉末照相法或粉末法。按底片與樣品的相對(duì)位置，照相法分為：

a、德拜-謝樂(lè)法b、聚焦照相法c、針孔法（平板照相法）§4.1粉末多晶體衍射法

現(xiàn)在是8頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四德拜-謝樂(lè)法現(xiàn)在是9頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是10頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四聚焦照相法現(xiàn)在是11頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四針孔法（平板照相法）現(xiàn)在是12頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是13頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四一、粉晶法成像原理與衍射花樣特征1、成像原理因組成粉晶樣品的微小晶粒取向無(wú)規(guī)，故各晶粒中同名（HKL）晶面的倒易點(diǎn)集合成以倒易矢量長(zhǎng)度(r*=1／d(HKL)為半徑的倒易球面?，F(xiàn)在是14頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四根據(jù)厄瓦爾德圖解原理，反射球與倒易球相交時(shí)，滿足衍射條件時(shí)，其交線為一系列垂直于入射線的圓環(huán)。從反射球中心(O)向這些圓周環(huán)連線就組成稱(chēng)之為衍射圓錐，衍射圓錐所對(duì)應(yīng)的2即為衍射角?，F(xiàn)在是15頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四OO’100200220倒易球反射球入射線

多晶的厄瓦爾德圖解OO’=s0/衍射圓錐現(xiàn)在是16頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四2、衍射花樣若以平板底片記錄衍射信息(針孔法)，則獲得的衍射花樣是一些同心的衍射圓環(huán)——各(HKL)衍射圓錐與平板底片的交線．若以卷成圓柱狀底片記錄衍射信息（德拜法），則獲得的衍射花樣是一些衍射弧(對(duì))——各(HKL)衍射圓錐與底片的交線。多晶體試樣衍射花樣的形成現(xiàn)在是17頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四二、德拜法及德拜相機(jī)1、德拜法：用單色X射線照射試樣，底片卷成圓環(huán)狀，試樣位于中心，獲得的衍射花樣是一些衍射弧(對(duì))——各(HKL)衍射圓錐與底片的交線?，F(xiàn)在是18頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四2、德拜相機(jī)得拜相機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖德拜相機(jī)外形圖現(xiàn)在是19頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四1）圓桶形暗盒2）樣品軸3）光欄4）熒光屏得拜相機(jī)主要由下列幾部分構(gòu)成：得拜相機(jī)為方便衍射數(shù)據(jù)的測(cè)量，其暗盒內(nèi)直徑一般選定為57.3mm或114.6mm，這樣，得拜相片上1mm長(zhǎng)度，正好分別對(duì)應(yīng)于2度或1度的圓心角。現(xiàn)在是20頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四三、實(shí)驗(yàn)方法1、試樣的制備

1）試樣形狀：將粉末試樣制成直徑為0.3mm～0.6mm，長(zhǎng)度為1cm的細(xì)圓柱狀粉末集合體、金屬絲、纖維；

2）粉末顆粒：通常要求m數(shù)量級(jí)；(過(guò)250目～300目篩)；

3）脆性試樣粉碎、韌性試樣銼削或碾磨再真空退火。現(xiàn)在是21頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四顆粒適中： 顆粒過(guò)大，則可能由于參加衍射的晶粒數(shù)目太少而影響衍射線的強(qiáng)度；顆粒度過(guò)小，則可能因晶粒結(jié)構(gòu)周期性的破壞而使衍射線發(fā)生彌散增寬。真實(shí)性： 要求在試樣制備過(guò)程中不該變?cè)锵嘟M分及原物相成分，以保證測(cè)試結(jié)果的真實(shí)性。4）要求：現(xiàn)在是22頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四2、底片的安裝（根據(jù)底片圓孔位置和開(kāi)口位置的不同）現(xiàn)在是23頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四3、靶材的選擇 基本要求：靶材產(chǎn)生的特征X射線(常用Kα射線)盡可能少地激發(fā)樣品的熒光輻射，以降低衍射花樣背底，使圖像清晰。X射線的吸收試驗(yàn)表明，質(zhì)量吸收系數(shù)m與入射線波長(zhǎng)和原子序數(shù)Z存在如下關(guān)系：m

=K3Z3這表明，入射X射線的波長(zhǎng)越長(zhǎng)，越容易被吸收，樣品的原子序數(shù)越高，X射線越容易被吸收?，F(xiàn)在是24頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四當(dāng)波長(zhǎng)減小到某幾個(gè)值時(shí)，m會(huì)突然增加，于是出現(xiàn)若干個(gè)跳躍臺(tái)階。原因：在這個(gè)特定波長(zhǎng)時(shí)產(chǎn)生了熒光效應(yīng)，使X射線被大量吸收，這個(gè)相應(yīng)的波長(zhǎng)稱(chēng)為吸收限K。利用這一原理，可以合理地選用靶材。現(xiàn)在是25頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四靶材的選擇（其實(shí)就是選擇入射線波長(zhǎng)）

1）按樣品化學(xué)成分選靶從前面分析可知：要盡量避免激發(fā)樣品熒光輻射，就必須使λKα靶＜＜λK吸收限或λKα靶稍長(zhǎng)于λK吸收限。

故靶的選擇：Z靶＞＞Z樣

Z靶≤Z樣+1現(xiàn)在是26頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四按與關(guān)系選靶，以避免激發(fā)樣品熒光輻射稱(chēng)之為按樣品化學(xué)成分選靶。當(dāng)樣品中含有多種元素時(shí)，一般按含量較多的幾種元素中Z最小的元素選靶。

現(xiàn)在是27頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四2）入射線波長(zhǎng)對(duì)衍射線條多少的影響由布拉格方程知：d≥λ/2，λ越大，則可能衍射線條越少，故入射線波長(zhǎng)不易太大。4、濾波K系特征輻射包括K與K射線，因二者波長(zhǎng)不同，故使樣品產(chǎn)生兩套方位不同的衍射花樣，使衍射分析工作復(fù)雜化?，F(xiàn)在是28頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四為吸收Kβ射線，保證Kα的純度，消除Kβ射線衍射的影響，濾波片的K吸收限波長(zhǎng)應(yīng)滿足：λKβ靶＜λK濾＜λKα靶，

滿足此條件的濾波片原子序數(shù)選擇為：

Z靶＜40時(shí)，Z片＝Z靶－1

Z靶≥40時(shí)，Z片＝Z靶－25、管電壓管電流的選擇電壓：V=（3～5）VK

（激發(fā)電壓），電流：I＜WK/V6、曝光時(shí)間根據(jù)試樣的反射能力與入射束功率從30min到數(shù)小時(shí)不等?，F(xiàn)在是29頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四7、衍射花樣的測(cè)量和計(jì)算目的：通過(guò)測(cè)量底片上衍射線條的相對(duì)位置計(jì)算θ角，并確定各衍射線條的相對(duì)強(qiáng)度；1)對(duì)前反射區(qū)（2θ＜90°）2)對(duì)背反射區(qū)（2θ＞90°）現(xiàn)在是30頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四影響及修正

計(jì)算θ時(shí)，θ值受相機(jī)半徑誤差和底片收縮誤差等的影響。用沖洗干燥后的底片（園）周長(zhǎng)S替換θ，用不對(duì)稱(chēng)裝片法測(cè)量S。（2θ＜90°）（2θ＞90°）ABCD現(xiàn)在是31頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四四、衍射花樣的指數(shù)化指數(shù)化——是確定衍射花樣中線條（弧對(duì)）所對(duì)應(yīng)晶面的干涉指數(shù)。1.立方晶系衍射晶面指數(shù)標(biāo)定 將立方晶系晶面間距公式：代入布拉格公式得：

設(shè)H2+K2+L2=N則有：

Sin2θ1：sin2θ2：sin2θ3：…

＝N1:N2:N3：…

現(xiàn)在是32頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四簡(jiǎn)單體心面心HKLN123456891011121314161718100110111200210211220300,221310311222320321400410,322411,330N=H2+K2+L23種點(diǎn)陣的消光規(guī)律現(xiàn)在是33頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四序號(hào)簡(jiǎn)單立方體心立方面心立方金剛石立方HKLNNi/N1HKLNNi/N1HKLNNi/N1HKLNNi/N1123456789101001101112002102112203003103111234568910111234568910111102002112203102223214004114202468101214161820123456789101112002203112224003314204223333481112161920242711.332.663.6745.336.336.678911122031140033142233344053162038111619242732354012.663.675.336.338910.6711.6713.33表6-2衍射線的干涉指數(shù)現(xiàn)在是34頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四sin2θ的連比特征反映了晶體系統(tǒng)消光的規(guī)律，即反映了晶體結(jié)構(gòu)特征。不同結(jié)構(gòu)類(lèi)型，其產(chǎn)生衍射各晶面的指數(shù)平方和（N）順序比也各不相同。在進(jìn)行指數(shù)化時(shí)，只要先算出sin2θ的順序比，然后與表進(jìn)行對(duì)照，便可確定晶體的結(jié)構(gòu)類(lèi)型及其衍射線條的指數(shù)。面心立方的順序比=3：4：8：11：12：16：19：20：24：27體心立方：1：2：3：4：5：6：7：8：9：10：11：12：13簡(jiǎn)單立方：1：2：3：4：5：6：8：9：10：11：12：13：14現(xiàn)在是35頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四對(duì)未濾波的射線，由于只需標(biāo)定Kα衍射線，故須識(shí)別Kα和Kβ。識(shí)別Kα和Kβ衍射線的依據(jù)為：五、相機(jī)的分辨本領(lǐng)

分辨本領(lǐng)：表示晶面間距變化時(shí)引起衍射線位置相對(duì)改變的靈敏度，既相鄰兩條衍射線分開(kāi)的程度。設(shè)相機(jī)的分辨本領(lǐng)為φ，則有：或因?yàn)樗裕?-6）（6-7）現(xiàn)在是36頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四由上式可看出：相機(jī)半徑R越大，分辨本領(lǐng)越高；θ越大，分辨本領(lǐng)越高；X射線波長(zhǎng)越長(zhǎng)，分辨本領(lǐng)越高；面間距越大，分辨本領(lǐng)越低；所以大晶胞試樣，應(yīng)選用長(zhǎng)波長(zhǎng)X射線。引入晶面間距d：（6-8）現(xiàn)在是37頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四五、聚焦法簡(jiǎn)介為了在不增大相機(jī)半徑前提下提高粉末晶體衍射相片的分辨率，同時(shí)縮短底片曝光時(shí)間，人們?cè)O(shè)計(jì)了的一種相機(jī)。多晶試樣中一組（hkl）晶面族所產(chǎn)生的衍射束在照相底片上能聚焦成一點(diǎn)或一條細(xì)線。現(xiàn)在是38頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四§4.2x射線衍射儀一、衍射儀的構(gòu)造及幾何光學(xué)X射線（多晶體）衍射儀是以待征X射線照射多晶體樣品，并以輻射探測(cè)器記錄衍射信息的衍射實(shí)驗(yàn)裝置。

X射線衍射儀是以布拉格實(shí)驗(yàn)裝置為原型。衍射儀由X射線發(fā)生器、X射線測(cè)角儀、輻射探測(cè)器和輻射探測(cè)電路4個(gè)基本部分組成，現(xiàn)代x衍射衍射儀還包括控制操作和運(yùn)行軟件的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)。現(xiàn)在是39頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四X射線衍射儀成像原理（厄瓦爾德圖解）與照相法相同，但記錄方式及相應(yīng)獲得的衍射花樣不同。衍射儀采用的具有一定發(fā)散度的入射線，也因“同一圓周上的同弧圓周角相等”而聚焦，與聚焦（照相）法不同的是，其聚焦圓半徑隨變化而變化.X射線衍射儀法以其方便、快速、準(zhǔn)確和可以自動(dòng)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理等特點(diǎn)在許多領(lǐng)域中取代了照相法，已成為晶體結(jié)構(gòu)分析等工作中的主要方法?！，F(xiàn)在是40頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是41頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是42頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是43頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四高分辨衍射儀（D8-Discovre型Bruker公司1999年產(chǎn)品）現(xiàn)在是44頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四圖4－8X射線粉末衍射儀原理示意圖現(xiàn)在是45頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四測(cè)角儀是X射線衍射儀的核心組成部分試樣臺(tái)位于測(cè)角儀中心，試樣臺(tái)的中心軸ON與測(cè)角儀的中心軸(垂直圖面)O垂直。試樣臺(tái)既可以繞測(cè)角儀中心軸轉(zhuǎn)動(dòng)，又可以繞自身中心軸轉(zhuǎn)動(dòng)。測(cè)角儀的構(gòu)造

5.測(cè)角儀簡(jiǎn)介圖6-10粉末衍射儀測(cè)角儀示意圖和立式測(cè)角儀現(xiàn)在是46頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四粉末衍射儀測(cè)角儀示意圖和立式測(cè)角儀現(xiàn)在是47頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是48頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是49頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是50頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四1、樣品臺(tái)2、測(cè)角儀圓3、入射光欄梭拉狹縫(S1)

發(fā)散狹縫（H）4、接受光欄梭拉狹縫(S2)防發(fā)散狹縫（M）5、計(jì)數(shù)管(D)梭拉狹縫:控制垂直發(fā)散度發(fā)散狹縫與防發(fā)散狹縫：控制水平發(fā)散度測(cè)角儀示意圖測(cè)角儀的構(gòu)造現(xiàn)在是51頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四測(cè)角儀的光學(xué)布置測(cè)角儀的光學(xué)布置S1-羧形光闌G、M、H－狹縫光闌現(xiàn)在是52頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四測(cè)角儀的光學(xué)布置采用狹縫光闌和梭拉光闌組成的聯(lián)合光闌，控制水平和垂直方向的發(fā)散度測(cè)角儀要求與Ｘ射線管的線焦斑連接使用，線焦斑的長(zhǎng)邊與測(cè)角儀中心軸平行梭拉光闌由一組互相平行、間隔很密的重金屬(Ta或Mo)薄片組成。（代表性尺寸為：長(zhǎng)32mm，薄片厚0.05mm，薄片間距0.43mm。安裝時(shí)，要使薄片與測(cè)角儀平面平形。）現(xiàn)在是53頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四θ-2θ聯(lián)動(dòng)實(shí)驗(yàn)時(shí)，樣品臺(tái)上的樣品與計(jì)數(shù)管以1：2的角速度關(guān)系聯(lián)合轉(zhuǎn)動(dòng)，以保證入射角等于衍射角，也稱(chēng)為計(jì)數(shù)管與樣品聯(lián)動(dòng)掃描。目的：計(jì)數(shù)器始終處在反射位置；滿足聚焦條件的要求。使試樣表面始終保持與聚焦圓相切，即聚焦圓的圓心永遠(yuǎn)位于試樣表面的法線上。這種連動(dòng)即θ—2θ連動(dòng)。現(xiàn)在是54頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四圖6-7衍射儀的聚焦半徑現(xiàn)在是55頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四為達(dá)到聚焦目的：使X射線管的焦點(diǎn)2、樣品表面5、計(jì)數(shù)器接收光闌9位于聚焦圓上。由于位于同一圓弧上的圓周角相等，所以試樣不同部位處平行于試樣表面的(hkl)晶面，可把各自的反射線會(huì)聚到9點(diǎn)而聚焦。由此可知:衍射儀的衍射花樣均來(lái)自于與試樣表面相平行晶面的反射。測(cè)角儀的衍射幾何現(xiàn)在是56頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是57頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四

探測(cè)器是基于X射線光子能使原子電離的特性而制造的，原子可以為氣體(如正比計(jì)數(shù)器、蓋革計(jì)數(shù)器)，也可以為固體(如閃爍計(jì)數(shù)器、半導(dǎo)體計(jì)數(shù)器)（3）輻射探測(cè)器充氣（包括正比與蓋革）計(jì)數(shù)器1）計(jì)數(shù)原理以X射線光子可使氣體電離的性質(zhì)為基礎(chǔ)。由一充有惰性氣體的圓筒形套管(陰極)和一根與圓筒同軸的細(xì)金屬絲(陽(yáng)極)構(gòu)成電場(chǎng)。現(xiàn)在是58頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四充氣計(jì)數(shù)器（正比或蓋革計(jì)數(shù)器）X射線光子進(jìn)入管內(nèi)使氣體電離，產(chǎn)生的電子被電場(chǎng)加速，與氣體分子碰撞時(shí)使氣體進(jìn)一步電離，產(chǎn)生新的電子，又可再使氣體電離，如此反復(fù)，極短時(shí)間內(nèi)產(chǎn)生大量電子，產(chǎn)生“雪崩效應(yīng)”。每個(gè)X射線光子進(jìn)入計(jì)數(shù)器產(chǎn)生一次“雪崩”，從而在計(jì)數(shù)器兩極間外電路中產(chǎn)生一易于探測(cè)的電脈沖?，F(xiàn)在是59頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四氣體放大因子A

指入射光子經(jīng)放大作用致電離氣體分子數(shù)（An）與直接致電離（無(wú)放大作用）的氣體分子數(shù)（n）之比值。該值在103～105間為正比計(jì)數(shù)器，在108～109間為蓋革計(jì)數(shù)器。特點(diǎn)：

a、正比計(jì)數(shù)器產(chǎn)生脈沖的大小與光子的能量成正比，可與脈沖高度分析器連用；蓋革計(jì)數(shù)器產(chǎn)生脈沖大小與入射光子能量無(wú)關(guān)；

b、正比計(jì)數(shù)器計(jì)數(shù)快，幾乎無(wú)計(jì)數(shù)損失；蓋革計(jì)數(shù)器分辨率低，有計(jì)數(shù)損失；

c、正比計(jì)數(shù)器對(duì)溫度敏感

d、計(jì)量較準(zhǔn)確?，F(xiàn)在是60頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四2、閃爍計(jì)數(shù)器原理：利用X射線激發(fā)鉈活化的碘化鈉（NaI)單晶體產(chǎn)生可見(jiàn)的熒光并通過(guò)光電管倍增放大，在計(jì)數(shù)器輸出端產(chǎn)生一個(gè)易檢測(cè)的電脈沖。特點(diǎn)：a)熒光的多少與光子的能量成正比；b)無(wú)脈沖損失；c)本底脈沖高。3、鋰飄移硅檢測(cè)器（固體半導(dǎo)體探測(cè)器）優(yōu)點(diǎn)：分辨能力高，分析速度快，檢測(cè)效率100%，即無(wú)漏計(jì)損失。但在室溫下電子噪音和熱噪音大，要液氮冷卻。閃爍計(jì)數(shù)器示意圖現(xiàn)在是61頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四圖4－16三種計(jì)數(shù)器的脈沖分別曲線現(xiàn)在是62頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四（4）X射線測(cè)量中的主要電路（了解）X射線測(cè)量中主要電路的作用：

a、保證計(jì)數(shù)器能有較佳輸出脈沖

b、把計(jì)數(shù)脈沖變成能夠直接讀取或記錄的值。2.脈沖高度分析器——利用計(jì)數(shù)器產(chǎn)生的電脈沖高度(脈沖電壓)與X射線光子能量成正比的原理來(lái)判斷脈沖高度，達(dá)到剔除干擾脈沖、提高峰背比的目的。3.定標(biāo)器及計(jì)數(shù)系統(tǒng)定標(biāo)器——是把從脈沖高度分析器或計(jì)數(shù)器來(lái)的脈沖加以計(jì)數(shù)的電子器件。（I=1000脈沖/Sec)4.計(jì)數(shù)率儀——是一種能夠連續(xù)測(cè)量平均脈沖速度的裝置?，F(xiàn)在是63頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四（5）衍射儀的測(cè)量方法與實(shí)驗(yàn)參數(shù)一、計(jì)數(shù)測(cè)量方法

1、連續(xù)掃描測(cè)量方法連接計(jì)數(shù)器到計(jì)數(shù)率儀上，在選定的2θ角范圍內(nèi)，試樣以θ/分的速度轉(zhuǎn)動(dòng)，計(jì)數(shù)器以2θ/分的速度轉(zhuǎn)動(dòng)，即1：2的θ/2θ聯(lián)動(dòng)掃描測(cè)量各衍射角對(duì)應(yīng)的衍射強(qiáng)度，在打印終端輸出測(cè)量結(jié)果或在計(jì)算機(jī)上繪出衍射I-2θ圖。掃描速度：1ο、2ο、4ο、8ο、16ο、32ο/min

常用掃描速度：1ο/min

、2ο/min

優(yōu)點(diǎn)：掃描速度快、工作效率高現(xiàn)在是64頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四現(xiàn)在是65頁(yè)\一共有71頁(yè)\編輯于星期四2、階梯（步進(jìn)）掃描測(cè)量法原理

將計(jì)數(shù)器與定標(biāo)器連接,首先讓計(jì)數(shù)器轉(zhuǎn)到起始2θ角位置，按定時(shí)器設(shè)定的時(shí)間測(cè)量脈沖數(shù)，將脈沖數(shù)除以計(jì)數(shù)時(shí)間，即為該處對(duì)應(yīng)的強(qiáng)度。然