近紅外線阻斷膜

近紅外線阻斷膜第1頁(yè)/共17頁(yè)近紅外線阻斷膜第2頁(yè)/共17頁(yè)準(zhǔn)備知識(shí)近紅外（NIR）輻射是波長(zhǎng)大于紅色光波長(zhǎng)的一定范圍的電磁輻射，其波長(zhǎng)范圍為780~2500nm。近紅外線阻斷膜是在玻璃或柔性薄膜基材上通過(guò)一定的涂（鍍）膜工藝制備的一層對(duì)近紅外線有阻斷作用的薄膜。第3頁(yè)/共17頁(yè)分類根據(jù)對(duì)近紅外線阻斷的原理，主要分為：1、吸收型2、反射型第4頁(yè)/共17頁(yè)應(yīng)用近紅外線阻斷膜目前以廣泛應(yīng)用與汽車和建筑物的玻璃窗膜、平板顯示器用濾光膜、光學(xué)鏡片、激光防護(hù)材料等領(lǐng)域第5頁(yè)/共17頁(yè)一、吸收型吸收型近紅外線阻斷膜通常由近紅外吸收劑、樹脂基體以及助劑組成。其中關(guān)鍵材料是近紅外吸收劑。近紅外吸收劑分為有機(jī)類和無(wú)機(jī)類。樹脂基體主要作為成膜物質(zhì)，其粘接其他組分形成膜層的功能，它雖然不具有吸收近紅外線功能，但是對(duì)膜層的物理機(jī)械性能其決定性作用。第6頁(yè)/共17頁(yè)1、有機(jī)近紅外吸收染料（1）菁染料（2）酞菁染料（3）硫代雙烯類染料（4）芳甲烷型染料（5）醌型染料（6）偶氮染料第7頁(yè)/共17頁(yè)第8頁(yè)/共17頁(yè)2、無(wú)機(jī)近紅外吸收劑一些金屬微粒、無(wú)機(jī)化合物及金屬離子在近紅外區(qū)也產(chǎn)生一定的吸收。可吸收近紅外線的金屬微細(xì)顆粒有Ni、W、Mo、Co、Pt等還有半導(dǎo)體納米粒子，ITO、ATO、SnO2過(guò)渡金屬氧化物一些金屬離子在配位電子作用下，如鎢、錫、銅等的金屬絡(luò)合物第9頁(yè)/共17頁(yè)3、成膜物質(zhì)常用的有環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、聚氨酯、醇酸樹脂、酚醛樹脂、乙烯類樹脂以及氟碳樹脂、有機(jī)硅樹脂等第10頁(yè)/共17頁(yè)二、反射型反射型近紅外線阻斷膜主要有：半導(dǎo)體薄膜金屬膜金屬-介質(zhì)膜全介質(zhì)多層膜第11頁(yè)/共17頁(yè)近紅外線阻斷膜制備技術(shù)近紅外線阻斷膜制備技術(shù)有涂布技術(shù)、物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積等，其中物理氣相沉積又包括真空蒸鍍、濺射和離子鍍等方法。第12頁(yè)/共17頁(yè)1、涂布技術(shù)組成涂布液的所有成分必須經(jīng)混合、溶解、分散等工藝，獲得盡量小的分散顆粒尺寸，再用一種或多種涂布方法將輸送到涂布頭的涂布液涂布在基材或片幅上然后加熱蒸發(fā)溶劑，或用紫外線或電子束將涂層固化，生產(chǎn)出最終所需要的薄膜。第13頁(yè)/共17頁(yè)2、真空蒸鍍真空蒸鍍法是在真空條件下通過(guò)加熱使薄膜初始材料氣化，材料的蒸汽沉積在溫度較低的基片上，形成所需要的薄膜。根據(jù)蒸發(fā)源不同分為電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、激光蒸鍍等第14頁(yè)/共17頁(yè)3、磁控濺射其工藝原理是將基材送入設(shè)有磁控陰極和濺射氣體（氬氣）的真空室內(nèi)，陰極加負(fù)壓，在真空室內(nèi)輝光放電，產(chǎn)生等離子體，由于靶材帶負(fù)電，等離子體中帶正電的氣體離子被加速，并以相當(dāng)于靶極位降的能量撞擊靶面，將靶材的原子轟出來(lái)，使之沉淀在基材表面上而形成薄膜。按工作電源不同可分為直流磁控濺射和射頻濺射第15頁(yè)/共17頁(yè)4、離子束濺射運(yùn)用一個(gè)功率較大的濺射離子源產(chǎn)生高密度的高能離子轟擊靶材