標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 12963-2022 電子級多晶硅》相較于《GB/T 12963-2014 電子級多晶硅》進(jìn)行了多項更新和修訂,主要體現(xiàn)在以下幾個方面:
一、術(shù)語定義部分有所調(diào)整。新版本中對一些關(guān)鍵術(shù)語進(jìn)行了更準(zhǔn)確的定義或補充,確保了標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)術(shù)語的一致性和準(zhǔn)確性。
二、技術(shù)要求更加嚴(yán)格。2022版針對不同級別的電子級多晶硅產(chǎn)品,在純度、電阻率等性能指標(biāo)上提出了更高標(biāo)準(zhǔn)的要求,以適應(yīng)當(dāng)前半導(dǎo)體行業(yè)對于材料質(zhì)量日益增長的需求。
三、增加了新的檢測方法。隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步,新版標(biāo)準(zhǔn)引入了一些先進(jìn)的測試技術(shù)和設(shè)備,用于更精確地測定電子級多晶硅的各項物理化學(xué)性質(zhì),如使用ICP-MS(電感耦合等離子體質(zhì)譜法)進(jìn)行雜質(zhì)分析等。
四、細(xì)化了包裝、標(biāo)志、運輸及儲存規(guī)定。為了保證產(chǎn)品質(zhì)量不受外界因素影響,《GB/T 12963-2022》對產(chǎn)品的包裝方式、標(biāo)簽內(nèi)容以及在運輸過程中的注意事項給出了更為詳細(xì)具體的指導(dǎo)建議。
五、增加了環(huán)保與安全相關(guān)內(nèi)容??紤]到環(huán)境保護(hù)的重要性,最新版本還特別強(qiáng)調(diào)了生產(chǎn)過程中應(yīng)采取措施減少污染排放,并且要求企業(yè)遵守相關(guān)法律法規(guī),保障員工健康與安全。
如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2022-12-30 頒布
- 2023-07-01 實施



文檔簡介
ICS29045
CCSH.82
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T12963—2022
代替GB/T12963—2014
電子級多晶硅
Electronic-gradepolycrystallinesilicon
2022-12-30發(fā)布2023-07-01實施
國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布
國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會
GB/T12963—2022
前言
本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定
GB/T1.1—2020《1:》
起草
。
本文件代替電子級多晶硅與相比除結(jié)構(gòu)調(diào)整和編輯
GB/T12963—2014《》,GB/T12963—2014,
性改動外主要技術(shù)變化如下
,:
更改了適用范圍見第章年版的第章
a)(1,20141);
更改了牌號要求見年版的
b)(4.1,20144.1.1);
更改了產(chǎn)品等級見年版的
c)(4.2,20144.1.2);
更改了不同等級電子級多晶硅的技術(shù)指標(biāo)見年版的
d)(5.1,20144.2);
更改了結(jié)構(gòu)要求見年版的
e)(5.3,20144.4);
更改了試驗方法的內(nèi)容見第章年版的第章
f)(6,20145);
更改了檢驗項目的要求見年版的
g)(7.3,20146.3);
更改了取樣及制樣的內(nèi)容見年版的
h)(7.4.1,20146.4.1);
更改了氧含量的檢驗結(jié)果判定見年版的
i)(7.5.2,20146.5.1);
更改了標(biāo)志的內(nèi)容見年版的
j)(8.1,20147.1);
更改了隨行文件的內(nèi)容見年版的
k)(8.5,20147.5)。
請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識別專利的責(zé)任
。。
本文件由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會與全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)
(SAC/TC203)
化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會共同提出并歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本文件起草單位江蘇鑫華半導(dǎo)體科技股份有限公司有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院有限責(zé)任公司青
:、、
海黃河上游水電開發(fā)有限責(zé)任公司新能源分公司江蘇中能硅業(yè)科技發(fā)展有限公司有研半導(dǎo)體硅材料
、、
股份公司麥斯克電子材料股份有限公司亞洲硅業(yè)青海股份有限公司陜西有色天宏瑞科硅材料有
、、()、
限責(zé)任公司新特能源股份有限公司四川永祥新能源有限公司上海賽夫特半導(dǎo)體材料有限公司宜昌
、、、、
南玻硅材料有限公司浙江海納半導(dǎo)體股份有限公司洛陽中硅高科技有限公司東方電氣樂山峨半
、、、()
高純材料有限公司
。
本文件主要起草人田新蔣文武趙培芝萬首正李素青秦榕王彬?qū)O燕賀東江陳衛(wèi)群宗冰
:、、、、、、、、、、、
徐巖邱艷梅李斌劉曉霞張遵付緒光董先君潘金平張園園雷聰
、、、、、、、、、。
本文件于年首次發(fā)布年第一次修訂年第二次修訂年第三次修訂本次為
1991,1996,2009,2014,
第四次修訂
。
Ⅰ
GB/T12963—2022
電子級多晶硅
1范圍
本文件規(guī)定了電子級多晶硅的牌號和類別技術(shù)要求試驗方法檢驗規(guī)則標(biāo)志包裝運輸貯存
、、、、、、、、
隨行文件和訂貨單內(nèi)容
。
本文件適用于以氯硅烷硅烷制得的電子級多晶硅以下簡稱多晶硅
、(“”)。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文
。,
件僅該日期對應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于
,;,()
本文件
。
非本征半導(dǎo)體材料導(dǎo)電類型測試方法
GB/T1550
硅單晶電阻率的測定直排四探針法和直流兩探針法
GB/T1551
硅和鍺體內(nèi)少數(shù)載流子壽命測定光電導(dǎo)衰減法
GB/T1553
硅晶體中間隙氧含量的紅外吸收測量方法
GB/T1557
硅中代位碳原子含量紅外吸收測量方法
GB/T1558
硅多晶氣氛區(qū)熔基磷檢驗方法
GB/T4059
硅多晶真空區(qū)熔基硼檢驗方法
GB/T4060
硅多晶斷面夾層化學(xué)腐蝕檢驗方法
GB/T4061
半導(dǎo)體材料術(shù)語
GB/T14264
半導(dǎo)體材料牌號表示方法
GB/T14844
硅單晶中族雜質(zhì)的光致發(fā)光測試方法
GB/T24574Ⅲ-V
硅單晶中族雜質(zhì)含量的測定低溫傅立葉變換紅外光譜法
GB/T24581Ⅲ、V
酸浸取電感耦合等離子質(zhì)譜儀測定多晶硅表面金屬雜質(zhì)
GB/T24582-
用區(qū)熔拉晶法和光譜分析法評價多晶硅棒的規(guī)程
GB/T29057
硅單晶中碳氧含量的測定
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