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無(wú)機(jī)材料科學(xué)基礎(chǔ)智慧樹知到課后章節(jié)答案2023年下陜西理工大學(xué)陜西理工大學(xué)
第一章測(cè)試
按材料的化學(xué)組成(或基本組成)分類,可以分為()。
A:無(wú)機(jī)非金屬材料
B:高分子材料
C:復(fù)合材料
D:金屬材料
答案:無(wú)機(jī)非金屬材料
;高分子材料
;復(fù)合材料
;金屬材料
按材料尺寸及形態(tài)分類,可以分為()。
A:零維(納米)材料
B:三維(塊體)材料
C:二維(薄膜)材料
D:一維(纖維)材料
答案:零維(納米)材料
;三維(塊體)材料
;二維(薄膜)材料
;一維(纖維)材料
主要用于各種現(xiàn)代工業(yè)及尖端科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域的高性能特種陶瓷包括()。
A:復(fù)合材料
B:日用陶瓷
C:結(jié)構(gòu)陶瓷
D:功能陶瓷
答案:結(jié)構(gòu)陶瓷
;功能陶瓷
半導(dǎo)體材料按結(jié)構(gòu)可分為()。
A:非晶態(tài)
B:多晶態(tài)
C:準(zhǔn)晶態(tài)
D:單晶態(tài)
答案:非晶態(tài)
;多晶態(tài)
;單晶態(tài)
多孔材料共同持點(diǎn)是()。
A:密度小
B:對(duì)氣體有選擇性透過(guò)作用
C:孔隙率高
D:比表面積大
答案:密度小
;對(duì)氣體有選擇性透過(guò)作用
;孔隙率高
;比表面積大
第二章測(cè)試
依據(jù)等徑球體的堆積原理得出,六方密堆積的堆積系數(shù)()立方密堆積的堆積系數(shù)。
A:等于
B:小于
C:不確定
D:大于
答案:等于
某AX型晶體,A+的電荷數(shù)為1,A-B鍵的S=1/6,則A+的配位數(shù)為()。
A:4
B:8
C:6
D:12
答案:6
在ABO3(鈣鈦礦)型結(jié)構(gòu)中,B離子占有()。
A:三方柱空隙晶體
B:立方體空隙
C:四面體空隙
D:八面體空隙
答案:八面體空隙
能夠發(fā)生自發(fā)極化效應(yīng)的物質(zhì)包括()。
A:剛玉
B:鈦酸鋇
C:金紅石
D:鈦酸鈣
答案:鈦酸鋇
構(gòu)成硅酸鹽晶體的基本結(jié)構(gòu)單元為[SiO4],兩個(gè)相鄰的[SiO4]之間可以通過(guò)哪種方式相互連接()。
A:共頂
B:共面
C:共棱
D:共頂、共面共棱
答案:共頂
第三章測(cè)試
對(duì)于形成雜質(zhì)缺陷而言,低價(jià)正離子占據(jù)高價(jià)正離子位置時(shí),該位置帶有負(fù)電荷,為了保持電中性,會(huì)產(chǎn)生()。
A:正離子空位
B:負(fù)離子空位
C:間隙正離子
D:間隙負(fù)離子
答案:負(fù)離子空位
;間隙正離子
固溶體的特點(diǎn)是摻入外來(lái)雜質(zhì)原子后原來(lái)的晶體結(jié)構(gòu)不發(fā)生轉(zhuǎn)變,但發(fā)生點(diǎn)陣畸變,性能變化。所形成的固溶體包括有限固溶體和無(wú)限固溶體兩種類型,其中()。
A:結(jié)構(gòu)相同是無(wú)限固溶的充要條件
B:結(jié)構(gòu)相同不是形成固溶體的條件
C:結(jié)構(gòu)相同是有限固溶的必要條件
D:結(jié)構(gòu)相同是無(wú)限固溶的必要條件,不是充分條件
答案:結(jié)構(gòu)相同是無(wú)限固溶的必要條件,不是充分條件
按照晶體結(jié)構(gòu)缺陷形成的原因,可將晶體結(jié)構(gòu)缺陷的類型分為()。
A:熱缺陷
B:電荷缺陷
C:雜質(zhì)缺陷
D:非化學(xué)計(jì)量缺陷
答案:熱缺陷
;電荷缺陷
;雜質(zhì)缺陷
;非化學(xué)計(jì)量缺陷
位錯(cuò)的滑移是指位錯(cuò)在何種力的作用下,在滑移面上的運(yùn)動(dòng),結(jié)果導(dǎo)致永久形變()。
A:結(jié)構(gòu)應(yīng)力
B:熱應(yīng)力
C:外力
D:化學(xué)力
答案:外力
熱缺陷亦稱為本征缺陷,是指由熱起伏的原因所產(chǎn)生的空位或間隙質(zhì)點(diǎn)(原子或離子)。當(dāng)離子晶體生成肖特基缺陷(Schottkydefect)時(shí),()。
A:正離子空位和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的縮小
B:正離子空位和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
C:正離子空位和負(fù)離子間隙是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
D:正離子間隙和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
答案:正離子空位和負(fù)離子空位是同時(shí)成對(duì)產(chǎn)生的,同時(shí)伴隨晶體體積的增加
第四章測(cè)試
硅酸鹽玻璃的結(jié)構(gòu)是以硅氧四面體為結(jié)構(gòu)單元形成的()的聚集體。
A:近程無(wú)序,遠(yuǎn)程有序
B:近程有序,遠(yuǎn)程有序。
C:近程無(wú)序,遠(yuǎn)程無(wú)序
D:近程有序,遠(yuǎn)程無(wú)序
答案:近程有序,遠(yuǎn)程無(wú)序
在硅酸鹽熔體中,當(dāng)R=O/Si減小時(shí),相應(yīng)熔體組成和性質(zhì)發(fā)生變化,熔體析晶能力()。
A:減小
B:不確定
C:不變
D:增大
答案:減小
可以根據(jù)3T曲線求出熔體的臨界冷卻速率。熔體的臨界冷卻速率越小,就()形成玻璃。
A:緩慢
B:越快
C:越難
D:越容易
答案:越容易
當(dāng)O/Si比趨近于4時(shí),Li2O-SiO2、Na2O-SiO2、K2O-SiO2三種熔體的粘度大小次序?yàn)椋ǎ?/p>
A:Li2O-SiO2<K2O-SiO2<Na2O-SiO2
B:Li2O-SiO2<Na2O-SiO2<K2O-SiO2
C:K2O-SiO2<Na2O-SiO2<Li2O-SiO2
D:Na2O-SiO2<Li2O-SiO2<K2O-SiO2
答案:K2O-SiO2<Na2O-SiO2<Li2O-SiO2
Si:O趨近于1/2時(shí)硅酸鹽晶體的結(jié)構(gòu)類型為()。
A:架狀
B:層狀
C:鏈狀
D:島狀
答案:架狀
過(guò)冷度越大,相應(yīng)的成核位壘越小,臨界晶核半徑越小,析晶能力()。
A:越大
B:不變
C:越小
D:0
答案:不變
過(guò)冷度愈大,臨界晶核半徑越小,相應(yīng)地相變()。
A:不受影響
B:越大
C:越小
D:愈易進(jìn)行
答案:愈易進(jìn)行
在硅酸鹽熔體中,當(dāng)R=O/Si減小時(shí),相應(yīng)熔體組成和性質(zhì)的變化是:非橋氧百分?jǐn)?shù)(),熔體粘度增大,熔體析晶傾向減小。
A:不變
B:減小
C:增大
D:0
答案:減小
第五章測(cè)試
為提高陶瓷坯釉的附著力,應(yīng)降低()。
A:
B:
C:
D:
答案:
;
粗糙度對(duì)液固相潤(rùn)濕性能的影響是()
A:固體表面越粗糙,越不易被潤(rùn)濕
B:粗糙度對(duì)潤(rùn)濕性能無(wú)影響
C:不一定
D:固體表面越粗糙,越易被潤(rùn)濕
答案:不一定
為了提高液相對(duì)固相的潤(rùn)濕性,在固-氣和液-氣界面張力不變時(shí),必須使液-固界面張力()。
A:保持不變
B:降低
C:有時(shí)升高,有時(shí)降低
D:升高
答案:升高
固體的表面能與表面張力在數(shù)值上不相等,一般說(shuō)來(lái),同一種物質(zhì),其固體的表面能()液體的表面能。
A:小于
B:大于
C:等于
D:小于等于
答案:大于
判斷重構(gòu)表面是指表面原子層在水平方向上的周期性與體內(nèi),垂直方向的層間距與體內(nèi)各自是否相同()。
A:相同;相同
B:相同;不同
C:不同;不同
D:不同;相同
答案:不同;相同
第六章測(cè)試
相的主要特點(diǎn)有()。
A:相與相之間有界面,越過(guò)界面時(shí)性質(zhì)突變
B:一個(gè)相在物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)上都是微觀尺度的均勻,且只含有一種物質(zhì)
C:相與物質(zhì)的數(shù)量多少無(wú)關(guān),也與物質(zhì)是否連續(xù)無(wú)關(guān)
D:一種物質(zhì)可以有幾個(gè)相
答案:相與相之間有界面,越過(guò)界面時(shí)性質(zhì)突變
;相與物質(zhì)的數(shù)量多少無(wú)關(guān),也與物質(zhì)是否連續(xù)無(wú)關(guān)
;一種物質(zhì)可以有幾個(gè)相
鹽水溶液中的獨(dú)立組元數(shù)是()。
A:2
B:3
C:1
D:4
答案:2
單元系統(tǒng)的相圖中,相界線上的自由度為()。
A:2
B:0
C:1
D:3
答案:1
Si02高低溫型轉(zhuǎn)變的特點(diǎn)包括()
A:體積變化小
B:體積變化對(duì)生產(chǎn)影響小
C:結(jié)構(gòu)變化小
D:轉(zhuǎn)變速度快
答案:體積變化小
;結(jié)構(gòu)變化小
;轉(zhuǎn)變速度快
判斷三元系統(tǒng)相圖中界線的性質(zhì)用到的規(guī)則是()。
A:切線規(guī)則
B:杠桿規(guī)則
C:重心規(guī)則
D:連線規(guī)則
答案:切線規(guī)則
第七章測(cè)試
在離子型材料中,影響擴(kuò)散的缺陷來(lái)自兩個(gè)方面:熱缺陷和摻雜點(diǎn)缺陷。由它們引起的擴(kuò)散分別稱為()。
A:穩(wěn)定擴(kuò)散和不穩(wěn)定擴(kuò)散
B:無(wú)序擴(kuò)散和有序擴(kuò)散
C:本征擴(kuò)散和非本征擴(kuò)散
D:自擴(kuò)散和互擴(kuò)散
答案:本征擴(kuò)散和非本征擴(kuò)散
穩(wěn)定擴(kuò)散(穩(wěn)態(tài)擴(kuò)散)是指在垂直擴(kuò)散方向的任一平面上,單位時(shí)間內(nèi)通過(guò)該平面單位面積的粒子數(shù)()。
A:隨位置而變化
B:不隨時(shí)間而變化
C:隨高度而變化
D:隨時(shí)間而變化
答案:不隨時(shí)間而變化
在晶體中存在雜質(zhì)時(shí)對(duì)擴(kuò)散有重要的影響,主要是通過(guò)(),使得擴(kuò)散系數(shù)增大。
A:降低缺陷濃度
B:使晶格發(fā)生畸變
C:增加缺陷濃度
D:增加缺陷濃度,使晶格發(fā)生畸變
答案:增加缺陷濃度,使晶格發(fā)生畸變
擴(kuò)散過(guò)程與晶體結(jié)構(gòu)有密切的關(guān)系,擴(kuò)散介質(zhì)結(jié)構(gòu)與擴(kuò)散的關(guān)系是()。
A:越疏松;活化能越大
B:越疏松;越困難
C:越緊密;越困難
D:越緊密;活化能越小
答案:越緊密;越困難
空位擴(kuò)散是指晶體中的空位躍遷入鄰近原子,而原子反向遷入空位,這種擴(kuò)散機(jī)制適用于()的擴(kuò)散。
A:各種類型固溶體
B:各種類型固溶體和間隙型固溶體
C:間隙型固溶體
D:置換型固溶體
答案:置換型固溶體
第八章測(cè)試
A,B進(jìn)行反應(yīng)生成AmBn,為擴(kuò)散控制的固相反應(yīng),若DB》DA,則在AmBn-A界面上,反應(yīng)物B的濃度CB為()
A:2
B:0
C:1
D:不確定
答案:0
兩固相反應(yīng),增大壓力有助于顆粒的接觸面積,加速物質(zhì)傳遞過(guò)程,使反應(yīng)速度增加;有液相參加的固相反應(yīng),提高壓力不表現(xiàn)積極作用,甚至適得其反。()
A:錯(cuò)B:對(duì)
答案:對(duì)
固相反應(yīng)過(guò)程主要包括界面上的化學(xué)反應(yīng)和產(chǎn)物內(nèi)部物質(zhì)傳遞兩個(gè)步驟。因此,除反應(yīng)物的化學(xué)組成、特性和結(jié)構(gòu)狀態(tài)以及溫度、壓力等因素外,凡是可能活化晶格,促進(jìn)物質(zhì)的內(nèi)、外擴(kuò)散作用的因素,都會(huì)對(duì)反應(yīng)產(chǎn)生影響。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:對(duì)
楊德方程適用于固相反應(yīng)穩(wěn)定擴(kuò)散的反應(yīng)初期。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:對(duì)
金斯特林格采用楊德球狀模型,但放棄了擴(kuò)散截面不變的假設(shè)。因此,金斯特林格方程能夠描述轉(zhuǎn)化率很大情況下的固相反應(yīng)。()
A:錯(cuò)B:對(duì)
答案:對(duì)
第九章測(cè)試
調(diào)幅分解屬于連續(xù)型相變。它是一種無(wú)熱力學(xué)能壘、無(wú)形核的固態(tài)相變。()
A:錯(cuò)B:對(duì)
答案:對(duì)
一般而言,隨熔體性質(zhì)不同,自發(fā)結(jié)晶所需的過(guò)冷度可以不同,但都包含晶核生成和晶體長(zhǎng)大兩個(gè)過(guò)程。()
A:對(duì)B:錯(cuò)
答案:對(duì)
成核-長(zhǎng)大型相變是材料中常見(jiàn)的一種相變,如結(jié)晶釉的形成。成核-長(zhǎng)大型相變是由()的濃度起伏開(kāi)始發(fā)生相變,并形成新相核心。
A:其他幾項(xiàng)均不對(duì)
B:程度大,范圍小
C:程度大,范圍大
D:程度小,范圍小
答案:程度大,范圍小
在成核-生長(zhǎng)機(jī)制的液-固相變過(guò)程中,其成核過(guò)程有非均勻成核與均勻成核之分。將非均勻成核與均勻成核過(guò)程的成核勢(shì)壘相比較,有如下關(guān)系()。
A:非均勻成核勢(shì)壘≤均勻成核勢(shì)壘
B:非均勻成核勢(shì)壘=均勻成核勢(shì)壘
C:非均勻成核勢(shì)壘≥均勻成核勢(shì)壘
D:視具體情況而定,其他三種均可能
答案:非均勻成核勢(shì)壘≤均勻成核勢(shì)壘
按熱力學(xué)方法分類,相變可以分為一級(jí)相變和二級(jí)相變,一級(jí)相變是在相變時(shí)兩相化學(xué)勢(shì)相等,其一階偏微熵不相等,因此一級(jí)相變()。
A:無(wú)相變潛熱,無(wú)體積改變
B:無(wú)相變潛熱,并伴隨有體積改變
C:有相變潛熱,并伴隨有體積改變
D:有相變潛熱,無(wú)體積改變
答案:有相變潛熱,并伴隨有體積改變
第十章測(cè)試
從工藝的角度考慮,下列選項(xiàng)中不是造成二次再結(jié)晶的原因的是()
A:原始粒度不均勻B:坯體成型壓力不均勻
C:燒結(jié)速率太快D:燒結(jié)溫度過(guò)低
答案:燒結(jié)溫度過(guò)低
目前常用γGB晶界能和γSV表面能之比值來(lái)衡量燒結(jié)的難易,若材料γGB/γSV越大,
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