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文檔簡介
DesignRule的兄弟:BiasTable真不能小瞧,它要是不出力,可能就死定了!今天的主題是BiasTable,雖然它很小,也很簡單,但把它說成是DesignRule的孿生兄弟一點也不為過,甚至有的時候這位兄弟的風頭要蓋過它的大哥哦!不過,說道兄弟,上世紀90年代的“古惑仔”系列影片相信給很多人留下了很深的印象,雖然他們也不是什么好人,但是他們的兄弟義氣確是真的,關(guān)鍵時刻“打虎不離親兄弟”,更有“兄弟齊心其利斷金”的說法,都是對兄弟情的贊美;此外,另外一個現(xiàn)在不太火的“兄弟”節(jié)目雖然不太火了,但是還是擁有著大批的粉絲,“跑男”成功的復制了韓國版“RunningMan”的高人氣,可謂在中國開啟了娛樂節(jié)目的先河,現(xiàn)在回想起來,還是第一季最好看,畢竟比較新鮮,后面感覺越來越多的類似節(jié)目充斥著整個周末電視頻道,味道就有點一般了。有點跑題了,回到我們今天的主題:biastable,什么是biastable呢?要說明白它,需要先了解工藝與設(shè)計的差異問題,比如對于掩膜版上間距為a的圖形,我要把它原樣不動的轉(zhuǎn)移到硅片上,我希望的是它還是a,而不是變成了比a大或者比a小的尺寸,如果該尺寸發(fā)生了變化,那實際產(chǎn)品將于設(shè)計時的預期有一定差異,這種差異對于不敏感的層次也許沒有影響,但對于關(guān)鍵的敏感層次,很可能會造成工藝的不穩(wěn)定,甚至直接就沒有功能,因此,如何想辦法保證設(shè)計的尺寸與實際制造的尺寸一致就是我們研究的重點內(nèi)容。那么,我們該如何做才能做到設(shè)計尺寸a與生產(chǎn)出來的尺寸一致呢?這就要首先對自己的工藝有充分的了解了,下面我們詳細說明一下;1.光刻膠的偏差:工廠里對于光刻膠使用的層次一般會有差別,比如一般注入用光刻膠與Poly層次的光刻膠是不同的,這個主要是對線寬精度控制的考慮,而對于相同層次,不同工藝又有厚度又不同的時候,這個則是對臺階高低,底層厚度要求不同而設(shè)置的不同造成的,比如對于1um厚的metal和對于2um厚的metal可以用同型號的光刻膠,但是光刻膠的厚度是不同的;不論何種原因,只要光刻膠種類、厚度以及線寬要求有明顯差別的,正常光刻出來的線寬波動范圍就是不一樣的,這個波動范圍的中心值對于一般的層次都不可能與版圖設(shè)計的尺寸一致,因為為了保證光刻的完全性,即不會出現(xiàn)底膜,曝光能量一定要稍微過一些,所以,一般對于打開區(qū)域的光刻圖形,顯影完成后的線寬要大于版圖的尺寸,見下圖,b>a,也就是說光刻后對于版圖上a的尺寸,經(jīng)過光刻工序,尺寸變成了b,即單邊增加了(b-a)/2,這個增加量,我們是不希望它出現(xiàn)在最后的產(chǎn)品上的,因此我們要在制版的時候?qū)⑦@個增加量減掉,即實際制版的時候,我們?yōu)榱嗽谧罱K的尺寸上得到a(設(shè)計尺寸),我們不得不將版子上的尺寸做成a-2*(b-a)/2,即2a-b,用實際數(shù)值看可能比較清晰,如果a=1um,b=1.2um,則2a-b=0.8um,即為了做出1um的尺寸,版子上必須做成0.8um的尺寸才行,(b-a)/2=-0.1um,我們將“(b-a)/2”定義為光刻的bias,即bias使單邊的偏差尺寸,而不是整體的偏差尺寸,之所以用單邊尺寸,是因為在制版時,單邊的變化量可以直接在數(shù)據(jù)上加上去,比較容易操作,而如果變成了整個的偏差,則沒法操作,相當于重新做數(shù)據(jù)了,那就太麻煩了;2.刻蝕的偏差:不管是濕法腐蝕,還是干法刻蝕,對于已經(jīng)做好了光刻的圖形b,經(jīng)過刻蝕后,為了保證刻蝕完全,刻蝕也要有一定的過刻量,經(jīng)過刻蝕后,尺寸變成了c,則單邊變化量是(c-b)/2,這個單邊變化量就稱為刻蝕的bias,同樣,為了得到b尺寸,在制版的時候我們應該將版圖畫成b-2*(c-b)/2,即2b-c,帶入實際數(shù)值試一下,b=0.8um,c=1.1um時,2b-c=0.5um,則(c-b)/2=-0.015um;3.工藝bias:我們以有緣區(qū)的鳥嘴為例,說明一下工藝bias:本來經(jīng)過光刻刻蝕后的線寬應該是d,但是,由于鳥嘴作用,實際做出來的有效有源區(qū)尺寸變成了e,則單邊bias是(e-d)/2,如,d=1um,e=0.5um,則單邊bias=-0.25um,這個因為鳥嘴作用導致的實際尺寸變小,也要加到biastable里面。4.Totalbias:上面將常見的光刻bias,刻蝕bias,工藝bias都介紹完了,但是都是以單個工藝介紹,版子只有一個,最終到底要畫成多少尺寸呢?這個就是由最終的totalbias來決定的,我們以實際數(shù)據(jù)為例來說明:還是用下圖:對于我要做到a尺寸,光刻bias是(b-a)/2,刻蝕bias是(c-b)/2,帶入數(shù)據(jù):如果,a=1um,b=1.2um,c=1.4um,則(b-a)/2=0.1um,(c-b)/2=0.1um,也就是說,光刻會單邊變大0.1um,刻蝕會單邊變大0.1um,我們一個個加bias,為了保證光刻做完是1um,我們就必須在版子上減掉單邊0.1um,,即版子做成0.8um時,光刻會變成1um,所以biastable里面,光刻的bias要加-0.1um,刻蝕也會單邊變大0.1um,則版子上要繼續(xù)減掉單邊0.1um,所以biastable里面,刻蝕的bias要加-0.1um,那么實際光刻版的尺寸變成了1-2*0.1-2*0.1=0.6um,即為了得到1um的尺寸,版子上要制成0.6um的尺寸才行,我們再正推一下,版子上畫0.6um尺寸,光刻單邊會變大0.1um,光刻后尺寸是0.62*0.1=0.8um,刻蝕后會在光刻的基礎(chǔ)上又單邊變大0.1um,刻蝕后的尺寸就是0.82*0.1=1um,哇!我們發(fā)現(xiàn)了什么?我們得到了1um的尺寸哎!對的,沒錯,要得到1um的尺寸,我們不得不將版子上的尺寸制成0.6um才行,差距是不是太大了?這就是biastable的意義所在,你說designrule做的再好,如果biastable做的不夠精確,尺寸偏差過大的情況下,也是無法得到想要的尺寸的,你說這位兄弟是不是更重要呢?5.Dark、Clear的差別:上面講了biastable是怎么來的,計算過程是怎么樣的,我們是以要打開的圖形為例的,設(shè)計版圖設(shè)計的時候,會有白版(Clear)和黑版(Dark)的區(qū)別,一般OD,POLY,Metal等層次要制成黑版(Dark),對于黑版,上面的尺寸就變成了我們想要的圖形變小的情況,bias還是那樣計算,但是版圖上加的bias要變成正的,我們以mask尺寸為f為例,經(jīng)過光刻刻蝕后變成了d,實際變小了(f-d)/2,這個(f-d)/2是光刻刻蝕的totalbias,光刻自己有多少bias,刻蝕自己有多少bias,各位自己隨便給個數(shù)據(jù)算一下,比如光刻單邊bias是0.1um,則對于f=1um來說,光刻后變成了0.8um,如果刻蝕bias是0.05um,刻蝕后變成了0.8-2*0.05=0.7um,則在制版時,biastable應該變成光刻0.1um,刻蝕0.05um,然后版圖畫成10.1*20.05*2=1.3um的尺寸,正推為,光刻后1.3的尺寸變成了1.1um,刻蝕后變成了1.0um,達到了目的。對于OD這層,我們還要計算鳥嘴的工藝bias進去,則最終的版圖尺寸還不是1.3um,還要講鳥嘴的尺寸加進去,如果鳥嘴尺寸是單邊0.25um,則最終版子上要制成1.32*0.25=1.8um。注意,我一直說的是版子要制成,而不是版圖上畫成,一般這個bias是工廠自己加上去的,設(shè)計公司不會加這個bias進去,他們只負責設(shè)計自己要的尺寸,最終工藝做出來要滿足他們的尺寸要求即可,而因為經(jīng)過工藝過程,版子上的尺寸會因為工藝的不同而發(fā)生變化,我們不得不在原有尺寸的基礎(chǔ)上做這個漲縮動作,才能最終達到客戶要的尺寸。綜上所述,對于不同的層次,黑白版不同,工藝bias不同,將不同層次的bias列出一個表,這個表就是biastable,它包含光刻的bias,刻蝕的bias,工藝的bias,和最終三項加減的和totalbias,有了這3項,我們就可以預測光刻的線寬target:A,刻蝕的線寬target:B,以及版子上的實際線寬target:C(DOM=DesignOnMask),再給個例子,對于光刻bias加為0.1um,刻蝕加0um,工藝bias加0.3um的1um目標設(shè)計線寬,A=12*(0.1)=1..2umB=A2*0=A=1.2umC=B2*0.3=1.8um即,光刻線寬應該以1.2um為中心,波動范圍/10%;刻蝕線寬應該以1.2um為中心,波動范圍/-10%;制版后的尺寸應該是1.8um;其它層次以此類推,做完所有層次表格后,再回頭看一下bias是否加的正確,計算出來的數(shù)值是否是對的(主要是大小方向正確與否),后面再根據(jù)實際流片結(jié)果來驗證這些預測的數(shù)值是否與實際波動范圍match。另外,biastable一定是對應一定的工藝層次的,如果工藝層次結(jié)構(gòu)發(fā)生了變化,很可能造成bias的變化,所以,對于新產(chǎn)品,新工藝,一定要與module討論好,并且結(jié)合已有類似biastable對應的工藝來最終制定合理的biastable,并加以驗證,如果流片結(jié)果與預期尺寸差距較大,說明biastable制定有誤,或者如果實際流片記過線寬波動過大,穩(wěn)定性差,也可能是biastable設(shè)置的有問題,導致了光刻不受控,這時候一定要修改biastable,重新制版來消除這些問題,當然,對于非關(guān)鍵層次,即使線寬波動大一些也不會
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