管式PECVD初步專題培訓課件

目錄一.PECVD技術二.管式PECVD基本原理三.管式PECVD基本組成電氣控制系統(tǒng)加熱系統(tǒng)冷卻系統(tǒng)射頻系統(tǒng)真空系統(tǒng)氣路系統(tǒng)石墨舟加載系統(tǒng)1/19/20241華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓一.PECVD技術PECVD=PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition即“等離子增強的化學氣相沉積”，是一種化學氣相沉積，其它的有HWCVD，LPCVD，MOCVD等。

PECVD是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子化學活性很強，很容易發(fā)生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

1/19/20242華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓What’sPlasma?什么是等離子體？地球上，物質有三態(tài)，即：固，液，氣。其共同點是由原子或分子組成，即基本單元是原子和分子，且為電中性。等離子體：氣體在一定條件下受到高能激發(fā)，發(fā)生電離，部分外層電子脫離原子核，形成電子、正離子和中性粒子混合組成的一種形態(tài)，這種形態(tài)就稱為等離子態(tài)，即第四態(tài)。等離子體從宏觀來說也是電中性，但是在局部可以為非電中性。一.PECVD技術1/19/20243華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓PECVD技術原理:利用低溫等離子體作能量源，樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預定的溫度，然后通入適量的反應氣體，氣體經一系列化學反應和等離子體反應，在樣品表面形成固態(tài)薄膜。PECVD方法區(qū)別于其它CVD方法的特點在于等離子體中含有大量高能量的電子，它們可以提供化學氣相沉積過程所需的激活能。電子與氣相分子的碰撞可以促進氣體分子的分解、化合、激發(fā)和電離過程，生成活性很高的各種化學基團，因而顯著降低CVD薄膜沉積的溫度范圍，使得原來需要在高溫下才能進行的CVD過程得以在低溫實現。一.PECVD技術1/19/20244華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓特點：

PECVD的一個基本特征是實現了薄膜沉積工藝的低溫化（<450℃）。因此帶來的好處：節(jié)省能源，降低成本提高產能減少了高溫導致的硅片中少子壽命衰減一.PECVD技術1/19/20245華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓其它方法的沉積溫度：APCVD—常壓CVD，700-1000℃LPCVD—低壓CVD,~750℃,~0.1mbar對比

PECVD—300-450℃，~0.1mbar一.PECVD技術1/19/20246華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓二.管式PECVD基本原理1/19/20247華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓二.管式PECVD基本原理1/19/20248華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓三.管式PECVD基本組成1.電氣控制系統(tǒng)Tube1Tube2Tube3Tube4Tube1Tube2Tube3Tube41/19/20249華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓三.管式PECVD基本組成2.加熱系統(tǒng)1/19/202410華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓三.管式PECVD基本組成3.冷卻系統(tǒng)1/19/202411華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓三.管式PECVD基本組成4.射頻系統(tǒng)1/19/202412華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓三.管式PECVD基本組成5.真空系統(tǒng)1/19/202413華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓三.管式PECVD基本組成5.真空系統(tǒng)1/19/202414華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓三.管式PECVD基本組成6.氣路系統(tǒng)1/19/202415華伯儀器科技有限公司工程部內部培訓三.管式PECVD基本組成7.石墨舟加載