品管圈改善活動(dòng)-教學(xué)課件

生產(chǎn)作業(yè)與管理

期中報(bào)告品管圈活動(dòng)-臺(tái)積電晶園圈

1.生產(chǎn)作業(yè)與管理

期中報(bào)告品管圈活動(dòng)-臺(tái)積電晶園圈11Agenda品管圈意義簡(jiǎn)介與推展手法臺(tái)積電公司的品管圈活動(dòng)競(jìng)賽公司與技術(shù)簡(jiǎn)介品管圈研討對(duì)象-臺(tái)積電/晶園圈結(jié)論2.Agenda品管圈意義簡(jiǎn)介與推展手法2.2

工作性質(zhì)相同的小團(tuán)體,以自主性的力量,發(fā)揮品質(zhì)管理活動(dòng)性,活用品質(zhì)技巧,持續(xù)改善,自我實(shí)現(xiàn),發(fā)現(xiàn)人才。品管圈的定義3.工作性質(zhì)相同的小團(tuán)體,以自主性的力量,發(fā)揮品質(zhì)管理活3尊重人性→快樂(lè)職務(wù)培育人才→發(fā)揮潛能集思廣益→改善企業(yè)體質(zhì)QCC的基準(zhǔn)精神4.尊重人性→快樂(lè)職務(wù)QCC的基準(zhǔn)精神4.4QCC目標(biāo)企業(yè)鐵三角的建立-以現(xiàn)場(chǎng)為改善重心-提高技術(shù)水準(zhǔn)-改善作業(yè)士氣5.QCC目標(biāo)企業(yè)鐵三角的建立5.5QCC特性*7~10人組成*腦力激盪、統(tǒng)計(jì)手法*雙向溝通、全員參與*P、D、C、A之功能6.QCC特性*7~10人組成6.6QCStory基本概念參考資料:日月光半導(dǎo)體製造股份內(nèi)部教育訓(xùn)練資料。7.QCStory基本概念參考資料:7.7WhatisQCStory?QCStory:QC改善歷程.是一有系統(tǒng)性的步驟搭配上常用的品管手法,如:QC7,新QC7用以解決問(wèn)題或達(dá)成目標(biāo)的活動(dòng)8.WhatisQCStory?8.8主要現(xiàn)象排行榜改善對(duì)策的實(shí)施計(jì)劃書檢視現(xiàn)狀趨勢(shì)圖改善無(wú)效改善有效開始主要原因分析改善對(duì)策的可行性評(píng)估標(biāo)準(zhǔn)化9.主要現(xiàn)象排行榜改善對(duì)策的實(shí)施計(jì)劃書檢視現(xiàn)狀趨勢(shì)圖改善改善開始9主要現(xiàn)象排行榜改善對(duì)策的實(shí)施計(jì)劃書檢視現(xiàn)狀趨勢(shì)圖改善無(wú)效改善有效開始主要原因分析改善對(duì)策的可行性評(píng)估標(biāo)準(zhǔn)化CDPPA10.主要現(xiàn)象排行榜改善對(duì)策的實(shí)施計(jì)劃書檢視現(xiàn)狀趨勢(shì)圖改善改善開始10QCStory

的種類問(wèn)題解決型QCStory:

著重CA-PDCA

當(dāng)現(xiàn)況水準(zhǔn)偏離了目標(biāo),以修改即有的系統(tǒng)為前提,努力將所產(chǎn)生的偏差加以處理,解決的一種活動(dòng)。課題達(dá)成型QCStory:

著重PDCA

欲建構(gòu)新的系統(tǒng),或是在不受即有系統(tǒng)侷限下,努力達(dá)成目標(biāo)的一種活動(dòng)。11.QCStory的種類問(wèn)題解決型QCStory:著重11問(wèn)題解決型QCStory

問(wèn)題解決一定是從現(xiàn)狀開始檢視起,檢查就是Check,故又稱CAPDCA.12.問(wèn)題解決型QCStory問(wèn)題解決一定是從現(xiàn)狀12課題達(dá)成型QCStory

課題達(dá)成是一創(chuàng)造過(guò)程,沒(méi)有包袱,,一切從零開始,故從P開始,即PDCA.13.課題達(dá)成型QCStory課題達(dá)成是一創(chuàng)造過(guò)程,13QCStory步驟主題選定現(xiàn)況把握選定理由Step1Step2Step3要因分析Step4Step5評(píng)估與執(zhí)行Step6效果確認(rèn)Step7標(biāo)準(zhǔn)化Step8殘留問(wèn)題14.QCStory步驟主題選定現(xiàn)況把握選定理由Step1S14解決問(wèn)題的工具：QC715.解決問(wèn)題的工具：QC715.15

ＱＣ７大手法摘要表16.ＱＣ７大手法摘要表16.16標(biāo)準(zhǔn)成本系統(tǒng):標(biāo)準(zhǔn)成本的計(jì)算及分?jǐn)偦A(chǔ)未能確實(shí)反映現(xiàn)行作業(yè)所發(fā)生的實(shí)際成本.而報(bào)價(jià)基礎(chǔ)是根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)成本的參考售價(jià)所訂定,因此可能造成報(bào)價(jià)基礎(chǔ)過(guò)低.亦使實(shí)際成本未能反應(yīng)到售價(jià)上.實(shí)際成本偏高:所使用之材料及人工成本過(guò)高導(dǎo)致實(shí)際成本偏高.17.標(biāo)準(zhǔn)成本系統(tǒng):標(biāo)準(zhǔn)成本的計(jì)算及分?jǐn)偦A(chǔ)未能確實(shí)反映現(xiàn)行作業(yè)所17臺(tái)積電公司的品管圈活動(dòng)競(jìng)賽18.臺(tái)積電公司的品管圈活動(dòng)競(jìng)賽18.18臺(tái)積電/TSMC公司及技術(shù)簡(jiǎn)介成立於1987年1986年飛利浦與工研院簽約合資成立臺(tái)灣半導(dǎo)體製造公司大股東為荷蘭飛利浦（持股14.19%）、行政院開發(fā)基金（持股12.1%）19.臺(tái)積電/TSMC公司及技術(shù)簡(jiǎn)介成立於1987年19.19臺(tái)積總部及晶圓十二廠新竹科學(xué)園區(qū)力行六路八號(hào)晶圓二、五廠新竹科學(xué)園區(qū)園區(qū)三路一二一號(hào)晶圓三廠新竹科學(xué)園區(qū)研新一路九號(hào)晶圓六廠臺(tái)南縣善化鎮(zhèn)南科北路一號(hào)晶圓七廠新竹科學(xué)園區(qū)研新二路六號(hào)晶圓八廠新竹科學(xué)園區(qū)力行路二十五號(hào)晶圓十四廠臺(tái)南縣善化鎮(zhèn)南科北路一之一號(hào)臺(tái)積電(上海)上海市松江區(qū)文翔路4000號(hào)SSMC(TSMC-PhilipsJV)

SingaporeWaferTechL.L.C.5509N.W.U.S.A.臺(tái)積電/TSMC公司及技術(shù)簡(jiǎn)介cont’d20.臺(tái)積總部及晶圓十二廠晶圓二、五廠晶圓三廠晶圓六廠晶圓七廠晶圓20臺(tái)積電公開宣布45奈米產(chǎn)品將在明年第三季推出，屆時(shí)將是全世界前三家推出45奈米產(chǎn)品的公司。目前在90奈米產(chǎn)品的市佔(zhàn)率約有70%，今年八月就有80奈米的消費(fèi)性運(yùn)用產(chǎn)品大量生產(chǎn)。65奈米是重要的里程碑，主要是應(yīng)用在手機(jī)，具備低電壓，傳導(dǎo)性能和速度都提升。過(guò)去每一代製程推進(jìn)需超過(guò)二年，臺(tái)積電90奈米推進(jìn)到65奈米則縮短到5季，未來(lái)繼續(xù)以二年一代延伸摩爾定律。*45奈米和32奈米的微影浸潤(rùn)技術(shù)以水當(dāng)介質(zhì)，每推進(jìn)一代，晶圓節(jié)省的面積可達(dá)40%到50%，這代表晶片成本可以節(jié)省這麼多，每一代製程推進(jìn)的整體效益約有倍左右。臺(tái)積電/TSMC公司及技術(shù)簡(jiǎn)介cont’d21.臺(tái)積電公開宣布45奈米產(chǎn)品將在明年第三季推出，屆時(shí)將是全世21品管圈研討對(duì)象-臺(tái)積電/晶園圈創(chuàng)立日期：87年11月2日圈員：11人所屬單位：臺(tái)積14廠擴(kuò)散部門活動(dòng)主題：提升先進(jìn)奈米製程之產(chǎn)能主題工作：提升CuCMP機(jī)臺(tái)產(chǎn)能CuCMP：銅化學(xué)機(jī)械研磨利用銅化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)，發(fā)展出Damascene的製程。22.品管圈研討對(duì)象-臺(tái)積電/晶園圈創(chuàng)立日期：87年11月2日22活動(dòng)模式改善模式：使用流程圖，找出可執(zhí)行方向計(jì)劃擬定：以甘特圖確實(shí)掌握活動(dòng)圈改善進(jìn)度描述問(wèn)題：以流程圖，描述問(wèn)題及相關(guān)性現(xiàn)況掌握：為了找出效率指標(biāo)，以時(shí)間-各機(jī)臺(tái)產(chǎn)出率，用Excel長(zhǎng)條圖數(shù)量化顯現(xiàn)問(wèn)題及未來(lái)目標(biāo)值，也用柏拉圖來(lái)找出CuCMP機(jī)臺(tái)可能量產(chǎn)時(shí)間過(guò)低的原因，有了以上分析結(jié)果，將可進(jìn)行精進(jìn)的改進(jìn)方向。目標(biāo)設(shè)定：以原則及4W1H方法，訂定活動(dòng)圈的目標(biāo)。品管圈研討對(duì)象-臺(tái)積電/晶園圈cont’d

23.活動(dòng)模式品管圈研討對(duì)象-臺(tái)積電/晶園圈cont’d23.23品管圈研討對(duì)象-臺(tái)積電/晶園圈cont’d活動(dòng)模式cont’d驗(yàn)證及找出原因：腦力激盪並由要因圖（魚骨圖），挑選影響的可能原因，再以is/isnot分析找出真因，並作追蹤驗(yàn)證真因。選定改善對(duì)策：列出原因項(xiàng)目，利用3段評(píng)分表（關(guān)係程度），找出改善的優(yōu)先順序。執(zhí)行與效果確認(rèn)：效果確認(rèn)最好有直接數(shù)據(jù)，以長(zhǎng)條圖比較最明顯易懂。標(biāo)準(zhǔn)化和預(yù)防措施：最後製訂標(biāo)準(zhǔn)化（SOP、SIP、準(zhǔn)則…）及預(yù)防方法宣導(dǎo)等等。24.品管圈研討對(duì)象-臺(tái)積電/晶園圈cont’d活動(dòng)模式cont24品管圈研討對(duì)象-臺(tái)積電/晶園圈cont’d活動(dòng)內(nèi)容

由臺(tái)積電的產(chǎn)能趨勢(shì)圖顯示在2005年4月之後，CuCMP（銅化學(xué)機(jī)械研磨）機(jī)臺(tái)將成為14廠的瓶頸，若能提升機(jī)臺(tái)產(chǎn)能，整體先進(jìn)奈米製程之產(chǎn)能即可增加。分析問(wèn)題點(diǎn)擬定改進(jìn)對(duì)策25.品管圈研討對(duì)象-臺(tái)積電/晶園圈cont’d活動(dòng)內(nèi)容25.25結(jié)論品管圈對(duì)公司及個(gè)人都有