浮法玻璃表面錫類(lèi)顆粒污染物起源及治理措施分析

錫類(lèi)缺陷是浮法玻璃生產(chǎn)過(guò)程中特有的一種缺陷，也是常見(jiàn)缺陷之一。在浮法玻璃成形過(guò)程中，錫受環(huán)境中氧和硫的污染，生成錫的氧化物和硫化物，這些化合物揮發(fā)往往聚集在錫槽頂蓋磚及其磚縫處、過(guò)渡輥道表面、渣箱內(nèi)壁、退火窯輥道表面、退火窯內(nèi)壁以及玻璃板上、下表面上，從而造成玻璃表面形成顆粒物污染，尤其在高溫區(qū)域易形成不易清洗和去除的顆粒物污染，進(jìn)而影響玻璃的使用。觀察某浮法生產(chǎn)線更換的過(guò)渡輥道的情況，發(fā)現(xiàn)在輥道表面會(huì)大量集聚沉積土黃色的物質(zhì)，圖1（a）表明輥道使用60個(gè)月后，輥道表面附著物的附著程度，圖1（b）為使用12個(gè)月的情況，輥道表面已經(jīng)被附著物覆蓋，渣箱輥道隨著使用周期的延長(zhǎng)輥道表面會(huì)被逐漸污染，且隨著時(shí)間的延長(zhǎng)污染程度在不斷加重。（a）使用60個(gè)月的輥道沉積狀況（b）使用12個(gè)月的輥道沉積狀況圖1不同使用周期輥道表面沉積物狀態(tài)在冷修時(shí)，對(duì)過(guò)渡輥臺(tái)表面和退火窯前端壁面的沉積物進(jìn)行了取樣分析，圖2、圖3為過(guò)渡輥臺(tái)沉積物和退火窯前端壁面沉積物的X射線衍射圖，從圖中分析可知，在過(guò)渡輥道表面沉積的物質(zhì)為SnO2，同時(shí)還含有少量的SnS，退火窯前端壁面的沉積物中只含有SnO2。分析這些沉積物，應(yīng)該是隨氣流進(jìn)入渣箱后，接觸到相關(guān)的表面然后沉積下來(lái)的。因此來(lái)源只能有一種，就是來(lái)自錫槽內(nèi)的擴(kuò)散氣流，也就是說(shuō)渣箱內(nèi)的錫化合物沉積物的來(lái)源與錫槽內(nèi)的氣流密切相關(guān)。圖2過(guò)渡輥臺(tái)沉積物X射線衍射圖圖3退火窯前端壁面沉積物X射線衍射圖污染物與錫槽內(nèi)氣流的關(guān)系分析，在正常運(yùn)轉(zhuǎn)的錫槽空間內(nèi)應(yīng)該大量存在著直徑很小的錫液滴，這些液態(tài)的錫以微小的液滴形態(tài)分布于錫槽內(nèi)的氣流中，隨氣流的流動(dòng)遷移運(yùn)動(dòng)至其它地方。這些小液滴如果沉積在錫槽內(nèi)的冷卻器表面，脫落以后掉落到玻璃表面則形成玻璃缺陷；如果這些小液滴隨錫槽內(nèi)氣流進(jìn)入渣箱和退火窯，由于溫度的變化以及大氣或SO2氣體氧化作用，會(huì)形成SnO或SnS沉積在玻璃板表面，污染玻璃板的表面，影響使用，尤其是在玻璃板溫度較高時(shí)沉積到玻璃板表面的顆粒物會(huì)很難清除，會(huì)導(dǎo)致玻璃無(wú)法使用。如果沉積在傳輸輥道表面會(huì)影響輥道使用狀態(tài)，沉積在渣箱和退火窯的內(nèi)壁上，一旦脫落也會(huì)造成對(duì)傳輸輥道的污染和損傷，進(jìn)而對(duì)玻璃板的表面造成污染和損傷。不同溫度下錫及其氧化物的揮發(fā)情況見(jiàn)圖4。圖4不同溫度下錫及其氧化物的揮發(fā)情況由圖4可知，錫液中同時(shí)存在SnO2的條件下，揮發(fā)量更是急速上升。要特別注意高溫情況下的錫液揮發(fā)問(wèn)題，重視錫槽高溫區(qū)的錫液揮發(fā)現(xiàn)象對(duì)浮法生產(chǎn)帶來(lái)的污染物增多問(wèn)題。預(yù)防浮法玻璃錫類(lèi)污染物的處理措施：（1）減少錫液的暴露面，特別是在中高溫區(qū)的錫液暴露面積。可以采用對(duì)裸露錫液表面進(jìn)行覆蓋的方法來(lái)減少錫液的裸露面積，最大限度地減少錫液的蒸發(fā)，減少錫槽空間錫液滴的數(shù)量。（2）在錫槽的高、中溫區(qū)空間內(nèi)采取強(qiáng)化氣流對(duì)流措施，加速氣流的流動(dòng)，同時(shí)采用放散排放的方式進(jìn)行錫槽空間內(nèi)氣流的對(duì)流和新鮮保護(hù)氣體進(jìn)行物質(zhì)交換，排放含有錫液滴的氣體，同時(shí)引進(jìn)新鮮保護(hù)氣體，這樣有助于降低錫槽空間內(nèi)錫液滴的濃度，減少污染源。（3）在錫槽空間內(nèi)盡量減少?gòu)?qiáng)制冷卻器的使用，減少錫液滴的冷凝集聚沉積，注重對(duì)冷卻器和錫槽空間的定期清掃，減少污染物集聚；在生產(chǎn)電子級(jí)玻璃時(shí)錫槽內(nèi)一定