無機(jī)化學(xué)課件晶體結(jié)構(gòu)_第1頁
無機(jī)化學(xué)課件晶體結(jié)構(gòu)_第2頁
無機(jī)化學(xué)課件晶體結(jié)構(gòu)_第3頁
無機(jī)化學(xué)課件晶體結(jié)構(gòu)_第4頁
無機(jī)化學(xué)課件晶體結(jié)構(gòu)_第5頁
已閱讀5頁,還剩66頁未讀 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

無機(jī)化學(xué)課件晶體結(jié)構(gòu)

8.1晶體的特征一、宏觀特征(一)規(guī)則外形---“自范性”(指天然或從溶液中生長的晶體,未經(jīng)人工加工);(二)固定熔點(diǎn);(三)各向異性:導(dǎo)熱、導(dǎo)電、膨脹系數(shù)、折射率等物理性質(zhì)。無定形體(玻璃、瀝青、石蠟等)冷卻凝固時無規(guī)則外形、無固定熔點(diǎn)、物理性質(zhì)是各向同性。第2頁,共71頁,星期六,2024年,5月晶體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)(一)晶格(Crystallattice)(幾何概念)

——指組成晶體的質(zhì)點(diǎn)(原子、分子、離子、原子團(tuán)等)在空間作有規(guī)則的周期性排列所組成的格子。共14種晶格,分屬于7個晶系。結(jié)點(diǎn)

——每個質(zhì)點(diǎn)在晶格中所占有的位置(二)晶胞(Cell)

——能表達(dá)晶體結(jié)構(gòu)的最小重復(fù)單位。換言之:晶胞在三維空間有規(guī)則地重復(fù)排列組成了晶體。第3頁,共71頁,星期六,2024年,5月晶胞具有平移性

晶胞具有相同的頂角、相同的平行面和相同的平行棱是晶胞平移性這一本質(zhì)特征的必然推論。這里所謂的“相同”,包括“化學(xué)上相同”(原子或分子相同)和“幾何上相同”(原子的排列和取向),不具有平移性就不是晶胞。第4頁,共71頁,星期六,2024年,5月8.1晶體的特征二、微觀結(jié)構(gòu)特征晶面夾角不變定律:一個確定的晶體的表面夾角(

,

,

,簡稱晶角)保持不變,不管其形成條件和宏觀外形是否有缺陷。

晶胞參數(shù)(點(diǎn)陣常數(shù)):3個邊長(a,

b,

c)3個晶面夾角(

,

,

)

:b

、c邊夾角;

:a、c

邊夾角;

:a、b邊夾角第5頁,共71頁,星期六,2024年,5月三、晶體7個晶系和14種晶格(點(diǎn)陣)按晶體對稱性劃分,把晶體分為7個晶系,每個晶系又分為若干種晶格,共14種晶格。晶系

晶格

立方

3(簡單,體心,面心立方)四方2(四方,四方體心)

正交4(正交,正交體心,正交底心,正交面心)單斜2(單斜,單斜底心)

三斜1

六方

1

菱方1小計:

7

14

(金屬晶體分屬立方、六方2個晶系,共

4種晶格:簡單,體心,面心立方,六方)

第6頁,共71頁,星期六,2024年,5月7個晶系和14種晶格(點(diǎn)陣)立方四方正交六方菱方

(右)單斜三斜第7頁,共71頁,星期六,2024年,5月7個晶系

簡單立方四方正交菱方=第8頁,共71頁,星期六,2024年,5月7個晶系

單斜三斜六方第9頁,共71頁,星期六,2024年,5月晶胞中原子的坐標(biāo)與計數(shù)

通常用向量xa+yb+zc中的x,y,z組成的三組來表達(dá)晶胞中原子的位置,成為原子坐標(biāo)。晶胞原點(diǎn)(頂角)的原子的坐標(biāo)為(0,0,0)晶胞體心的原子的坐標(biāo)為(1/2,1/2,1/2)

位于ab面心的原子坐標(biāo)為(1/2,1/2,0)

位于bc面心的原子坐標(biāo)為(0,1/2,1/2)

位于ac面心的原子坐標(biāo)為(1/2,0,1/2)

位于a軸,b軸,c軸的原子坐標(biāo)如何表示?

第10頁,共71頁,星期六,2024年,5月五、晶體結(jié)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)測定:

X-射線衍射分析

(原理見:教材p.211)SirWilliam(Henry)Bragg1915NobelPrizeinPhysics第11頁,共71頁,星期六,2024年,5月晶體XRD衍射測定示意圖第12頁,共71頁,星期六,2024年,5月8.2晶體的基本類型及其結(jié)構(gòu)

按占據(jù)晶格結(jié)點(diǎn)在質(zhì)點(diǎn)種類及質(zhì)點(diǎn)互相間作用力劃分為4類。

晶格類型

例占據(jù)結(jié)點(diǎn)的質(zhì)點(diǎn)質(zhì)點(diǎn)間作用力金屬晶體

Na,Fe金屬原子、陽離子

金屬鍵

(不含自由電子)

離子晶體

NaCl,CaF2

陰離子、陽離子

離子鍵原子晶體金剛石,Si,SiC原子

共價鍵分子晶體

N2,H2O,CO2分子范德華力(可能有氫鍵)第13頁,共71頁,星期六,2024年,5月一、金屬晶體金屬晶體的4種晶格金屬原子堆積方式

晶格類型C.N.(配位數(shù))空間利用率/%實(shí)例簡單立方堆積(scp)A.A簡單立方(個別)652

-Po釙(極少)體心立方堆積(bcp)AB.AB體心立方(少)868Li,Na,K,Rb,Cs,V,Nb,Ta,Cr,Mn,Fe…面心立方密堆積(fcp)ABC.ABC面心立方(50多種金屬)12????74Ca,Sr,Ba,Pt,Pd,Cu,Ag…六方密堆積(hcp)AB.AB六方(多)1274Be,Mg,Sc,Ti,Zn,Cd…第14頁,共71頁,星期六,2024年,5月一、金屬晶體(一)堆積方式簡單立方堆積:A.A

體心立方堆積:AB.AB(正方形)

面心立方密堆積:ABC.ABC

六方密堆積:AB.ABA層六角形,B層三角形,不同于體心立方堆積中的正方形。

第15頁,共71頁,星期六,2024年,5月

簡單立方堆積體心立方堆積

A.AAB.AB(正方形)第16頁,共71頁,星期六,2024年,5月六方密堆積:AB-AB

排列堆積

A層六角形,B層三角形,不同于體心立方堆積中的正方形。

A層與B層之間存在兩種類型的空隙,即四面體空隙及八面體空隙。第17頁,共71頁,星期六,2024年,5月面心立方密堆積(fcp)

ABC-ABC排列堆積第18頁,共71頁,星期六,2024年,5月簡單立方(左)和體心立方(右)解剖圖第19頁,共71頁,星期六,2024年,5月面心立方解剖圖第20頁,共71頁,星期六,2024年,5月水果排列AB-AB第21頁,共71頁,星期六,2024年,5月(二)空間利用率計算

例1:求面心立方晶胞的空間利用率解:晶胞邊長為d,原子半徑為r.據(jù)勾股定理:d2+d2=(4r)2d=2.83r

每個面心立方晶胞含原子數(shù)目:

81/8+6?=48個頂點(diǎn)各1個原子,為8個晶胞共享;

6個面心,各1個原子,為2個晶胞共享.

%=(44/3r3)/d3=(44/3r3)/(2.83r)

3100=74第22頁,共71頁,星期六,2024年,5月(二)空間利用率計算

例2:體心立方晶胞中金屬原子的空間利用率計算空間利用率

=晶胞含有原子的體積/晶胞體積

100%

(1)計算每個晶胞含有幾個原子:1+8×1/8=2體心立方晶胞:中心有1個原子,

8個頂點(diǎn)各1個原子,每個原子被8個晶胞共享。第23頁,共71頁,星期六,2024年,5月(二)空間利用率計算(2)原子半徑r與晶胞邊長a的關(guān)系:

勾股定理:2a2+a2=(4r)2

底面對角線平方垂直邊長平方斜邊平方得:第24頁,共71頁,星期六,2024年,5月

(二)空間利用率計算(3)空間利用率

=晶胞含有原子的體積/晶胞體積

100%=第25頁,共71頁,星期六,2024年,5月(三)金屬晶體特點(diǎn)多數(shù)采面心立方或六方密堆積,配位數(shù)高(12)、熔、沸點(diǎn)高。少數(shù)例外:Na、K、Hg。第26頁,共71頁,星期六,2024年,5月金屬鍵

金屬晶體中原子之間的化學(xué)作用叫做金屬鍵。離域化學(xué)鍵1原子化熱與金屬鍵可以用原子化熱來衡量金屬鍵的強(qiáng)弱。原子化熱是指1mol金屬完全氣化成互相遠(yuǎn)離的氣態(tài)原子吸收的能量。金屬鈉銫銅鋅原子化熱/kJ?mol-1

10979339131第27頁,共71頁,星期六,2024年,5月2電子氣理論金屬原子脫落下來的價電子形成遍布整塊晶體的“電子氣”,被所有原子所共用,從而把所有的金屬原子維系在一起。

延展性和可塑性導(dǎo)電性導(dǎo)熱性金屬光澤金屬鍵第28頁,共71頁,星期六,2024年,5月3能帶理論

原子單獨(dú)存在時的能級(1s,2s,2p…)在n個原子構(gòu)成的一塊金屬中形成相應(yīng)的能帶(1s,2s,2p…);一個能帶就是一組能量十分相近的分子軌道,其總數(shù)等于構(gòu)成能帶的相應(yīng)原子軌道的總和。金屬鍵第29頁,共71頁,星期六,2024年,5月按能帶填充電子的不同滿帶:所有分子軌道全部充滿電子空帶:所有分子軌道都沒有電子導(dǎo)帶:分子軌道部分地充滿電子如Na中1s,2s,2p滿帶

3s導(dǎo)帶

3p空帶第30頁,共71頁,星期六,2024年,5月

能帶與能帶之間存在能量的間隙,簡稱帶隙,又叫“禁帶寬度”能帶理論解釋金屬的導(dǎo)電性:(1)具有部分充滿電子的導(dǎo)帶(2)金屬的滿帶與空帶或滿帶與導(dǎo)帶之間沒有間隙,是重疊的導(dǎo)體半導(dǎo)體:n型,p型絕緣體第31頁,共71頁,星期六,2024年,5月二、離子晶體(一)離子晶體的基本特征1.占據(jù)晶格結(jié)點(diǎn)的質(zhì)點(diǎn):陰、陽離子;質(zhì)點(diǎn)間互相作用力:靜電相互作用(離子鍵)

2.整個晶體的無限晶胞:

NaCl、CaF2、KNO3…為最簡式。

3.晶格能U↑,熔、沸點(diǎn)↑

U=[NAAZ+Z–e2(1–1/m)]/4

0r0U

Z+Z–/r0

(掌握玻恩-哈伯計算)4.熔融或溶于水導(dǎo)電。第32頁,共71頁,星期六,2024年,5月第33頁,共71頁,星期六,2024年,5月(二)

5種最常見類型離子晶體的空間結(jié)構(gòu)特征類型負(fù)離子晶格正離子占據(jù)空隙C.N.每個晶胞含有CsCl簡單立方

八面體(也是簡單立方晶格)

Cs+8Cl-88:8Cs+:Cl-=1:1NaCl面心立方八面體(也是面心立方晶格)

6:6Na+:Cl-=4:4立方ZnS(閃鋅礦)面心立方1/2的四面體空隙

(也是面心立方晶格)4:4Zn2+:S2-=4:4第34頁,共71頁,星期六,2024年,5月(二)5種最常見類型離子晶體的空間結(jié)構(gòu)特征(續(xù))(教材p.218圖9-15)類型負(fù)離子晶格正離子占據(jù)空隙C.N.每個晶胞含有CaF2螢石簡單立方?

的立方體空隙(Ca2+呈面心立方晶格)

Ca2+8F-4(8:4)Ca2+:F-=4:8TiO2金紅石四方體心八面體(Ti4+呈壓縮的體心立方晶格)

Ti4+6O2-3Ti4+:O2-=2:4第35頁,共71頁,星期六,2024年,5月5種最常見類型離子晶體(教材p.218,圖9-15)

NaCl型:Cl-面心立方晶格,

Na+占據(jù)八面體空隙第36頁,共71頁,星期六,2024年,5月CsCl型:

Cl-簡單立方晶格,Na+占據(jù)八面體空隙第37頁,共71頁,星期六,2024年,5月5種最常見類型離子晶體ZnS型:CaF2型:S2-面心立方晶格,Zn2+占據(jù)1/2的四面體空隙F-簡單立方晶格,Ca2+占據(jù)1/2的立方體空隙第38頁,共71頁,星期六,2024年,5月5種最常見類型離子晶體(續(xù))TiO2型:

O2-近似六方密堆積排列晶格(假六方密堆積),

Ti4+占據(jù)1/2八面體空隙。

(O2-藍(lán)色,C.N.=3;Ti4+

淺灰色,C.N.=6)第39頁,共71頁,星期六,2024年,5月(三)半徑比規(guī)則離子晶體為什么會有

C.N.不同的空間構(gòu)型?這主要由正、負(fù)離子的半徑比(r+/r-)決定。r+/r-↑,則C.N.↑;

r+/r-↓,則C.N.↓例:NaCl(面心立方)晶體(教材p.219圖9-16)令r

-=1,則據(jù)勾股定理:,得:第40頁,共71頁,星期六,2024年,5月(三)半徑比規(guī)則(續(xù))即r+/r

-=0.414/1=0.414

時:

①正、負(fù)離子互相接觸②負(fù)離子兩兩接觸1.若

r+/r

-=0.414-0.732,

6:6配位(NaCl型面心立方)2.若r+/r

-

<0.414,則負(fù)離子互相接觸(排斥力↑),而正、負(fù)離子接觸不良,迫使晶體轉(zhuǎn)為較小的配位數(shù),

4:4配位(立方ZnS型)(右上);3.

若r+/r

-

>0.732,

正離子周圍可以接觸上更多的負(fù)離子,使配位數(shù)轉(zhuǎn)為8:8(CsCl型簡單立方)(右下)。第41頁,共71頁,星期六,2024年,5月(三)半徑比規(guī)則說明:

1.“半徑比規(guī)則”把離子視為剛性球,適用于離子性很強(qiáng)的化合物,如NaCl、CsCl等。否則,誤差大。

例:AgI(c)r+/r-=0.583.

按半徑比規(guī)則預(yù)言為NaCl型,實(shí)際為立方ZnS型。原因:Ag+與I-強(qiáng)烈互相極化,鍵共價性↑,晶型轉(zhuǎn)為立方ZnS(C.N.變小,為4:4,而不是NaCl中的6:6)

2.經(jīng)驗(yàn)規(guī)則,例外不少。例:RbCl(c),預(yù)言CsCl型,實(shí)為NaCl型。第42頁,共71頁,星期六,2024年,5月半徑比規(guī)則說明:

3.半徑比值位于“邊界”位置附近時,相應(yīng)化合物有2種構(gòu)型。例:GeO2

r+/r-=53pm/132pm=0.40.

立方ZnSNaCl

兩種晶體空間構(gòu)型均存在.4.離子晶體空間構(gòu)型除了與r+/r-有關(guān)外,還與離子的電子構(gòu)型、離子互相極化作用(如AgI)以至外部條件(如溫度)等有關(guān)。

例1R.T.CsCl屬于CsCl類型;高溫CsCl轉(zhuǎn)化NaCl型。第43頁,共71頁,星期六,2024年,5月三、分子晶體

(一)占據(jù)晶體結(jié)點(diǎn)質(zhì)點(diǎn):分子(二)各質(zhì)點(diǎn)間作用力:范德華力(有的還有氫鍵,如H2O(s))

CH4晶體

(右圖).

(三)因范德華力和氫鍵作用比共價鍵能小,分子晶體熔點(diǎn)低、硬度小,不導(dǎo)電,是絕緣體。(四)有小分子存在實(shí)例:H2、O2、X2……H2O、HX、CO2……

多數(shù)有機(jī)物晶體、蛋白質(zhì)晶體、核酸晶體是分子晶體。第44頁,共71頁,星期六,2024年,5月C60結(jié)構(gòu)模型(左),其晶體是分子晶體;

C納米管晶體結(jié)構(gòu)圖(右)第45頁,共71頁,星期六,2024年,5月C60結(jié)構(gòu)模型(左)和

C60,C70

的正己烷溶液(右)第46頁,共71頁,星期六,2024年,5月四、原子晶體(共價晶體)

(一)占據(jù)晶格結(jié)點(diǎn)的質(zhì)點(diǎn):原子(二)質(zhì)點(diǎn)間互相作用力:共價健

熔沸點(diǎn)高,硬度大,延展性差。(三)整個晶體為一大分子(四)空間利用率低(共價健有方向性、飽和性)

金剛石(C的C.N.=4),空間利用率僅34%.C用sp3雜化,與另4個C形成共價單鍵,鍵能達(dá)400kJ?mol-1(教材p.222圖9-20)其他例子:GaN,InGaN(半導(dǎo)體),金剛砂(SiC),石英(SiO2)金剛石第47頁,共71頁,星期六,2024年,5月GaN(或InGaN)半導(dǎo)體發(fā)光二極管—新一代照明光源

[GaN(InGaN)BasedLight-emittingDiodes,LEDs)

1WGaNLED手電筒半導(dǎo)體LED應(yīng)用第48頁,共71頁,星期六,2024年,5月半導(dǎo)體發(fā)光二極管(LED)的優(yōu)點(diǎn)半導(dǎo)體發(fā)光二極管(semiconductivelight-emittingdiode,LED),即是在半導(dǎo)體p-n結(jié)或與其類似的結(jié)構(gòu)加正向電流時以高效率發(fā)出可見光、近紅外光或近紫外光的器件。LED的優(yōu)點(diǎn):耗能少(比同光效的白熾燈少80%,比熒光燈少50%)低電壓(DC3~12V),安全體積小響應(yīng)時間快(納秒級)(白熾燈和熒光燈為毫秒級)抗震對環(huán)境友好(不含Hg等有害物質(zhì))→新一代照明技術(shù)第49頁,共71頁,星期六,2024年,5月熒光轉(zhuǎn)換型LED發(fā)光原理

(phosphor-convertedLED)藍(lán)色GaNLED芯片+黃色熒光粉

→白光Blue

GaN

LEDchip

+YellowPhosphor→Whitelight第50頁,共71頁,星期六,2024年,5月半導(dǎo)體LED芯片發(fā)展歷程

III–V族半導(dǎo)體

1994日亞

30-100lm/W惠普

10lm/W

1962紅光

0.1/lm/W發(fā)光效率GaAsPGaP:ZnOGaP:NGaAsP:NAlGaAs/GaAsAlInGaP/GaAsAlInGaP/GaPInGaN1970198019902000第51頁,共71頁,星期六,2024年,5月沙子(SiO2原子晶體)和玻璃(無定形體)第52頁,共71頁,星期六,2024年,5月五、混合型晶體

(過渡型晶體)例1:石墨(graphite)

C單質(zhì)

石墨晶體:層狀結(jié)構(gòu)(教材p.224圖9-22)每層內(nèi):每個C作sp2雜化,與另3個C以共價鍵結(jié)合,并有離域

鍵(整層上、下)

層與層之間:以范德華力結(jié)合

過渡型晶體導(dǎo)電率:沿層的方向高、垂直于層的方向低??勺鳚櫥瑒?。第53頁,共71頁,星期六,2024年,5月石墨(上)和金剛石(下,原子晶體)晶體結(jié)構(gòu)第54頁,共71頁,星期六,2024年,5月五、混合型晶體(過渡型晶體)(續(xù))

例2:石棉

Ca2SiO4為主要成分Ca2+-SiO42-靜電引力(離子鍵),SiO42-四面體,Si-O共價健。

離子晶體與原子晶體之間的過渡型晶體。第55頁,共71頁,星期六,2024年,5月8.3離子的極化把“分子間力”(范德華力)概念推廣到離子-離子之間:陽離子-陰離子:

靜電引力+范德華力第56頁,共71頁,星期六,2024年,5月一、離子極化作用離子極化作用(教材P.220圖9-18)離子極化力(Polarizing主動)離子變形性(Polarizability,Polarized被動)

在異號離子電場作用下,離子的電子云發(fā)生變形,正、負(fù)電荷重心分離,產(chǎn)生“誘導(dǎo)偶極”,這個過程稱為“離子極化”。陽離子、陰離子既有極化力,又有變形性。通常陽離子半徑小,電場強(qiáng),“極化力”顯著。

陰離子半徑大,電子云易變形,“變形性”顯著。第57頁,共71頁,星期六,2024年,5月一、離子極化作用(續(xù))(一)影響離子極化的因素1.離子電荷Z;2.離子半徑r;3.離子的電子構(gòu)型。離子極化力:用“離子勢”

或“有效離子勢”

*衡量,

*)↑,極化力↑

=Z/r2(主要用于s區(qū),p區(qū))

*

=Z*/r2

(主要用于d區(qū)、ds區(qū))式中Z為離子電荷(絕對值),Z*為有效核電荷,

r為離子半徑(pm),常用L.Pauling半徑。第58頁,共71頁,星期六,2024年,5月一、離子極化作用(續(xù))

=Z/r2

可見左→右,Z↑,r↓,

↑陽離了極化力↑.

過渡金屬元素:考慮外層電子構(gòu)型影響,“有效離子勢”

*衡量極化力更好:

*=Z

*/r2式中,Z*為有效核電荷。第59頁,共71頁,星期六,2024年,5月一、離子極化作用(續(xù))離子電荷相同,半徑相近時,電子構(gòu)型對極化力的影響:極化力:

18e,(18+2)e,2e>(9–17)e>8e

原因:d電子云“發(fā)散”,對核電荷屏蔽不完全,使Z*↑,對異號離子極化作用↑??紤]d區(qū),ds區(qū)離子極化力時,用Φ

*↑更恰當(dāng)。Cu+,Ag+,Au+

Li+Na+Zn2+,Cd2+,Hg2+

Sn2+,Pb2+

Be2+Mn2+,Fe2+,Co2+

Ca2+Bi3+

Ni2+,Cr3+

Al3+

第60頁,共71頁,星期六,2024年,5月(二)影響離子變形性因素

3個因素:離子電荷、離子半徑、外層電子構(gòu)型。用極化率

表示變形性,

↑,變形性↑

1.陰離子(1)簡單陰離子:外層電子構(gòu)型相同:半徑↑,負(fù)電荷↑,則

↑,變形性↑。例1F-Cl-

Br-

I-rp/pm136181195216

1.164.075.317.90變形性小大例2F-O2-

rp/pm130<140

1.16<4.32變形性

小大第61頁,共71頁,星期六,2024年,5月(二)影響離子變形性因素(續(xù))(2)復(fù)雜陰離子變形性不大,且中心原子氧化數(shù)↑,該復(fù)雜離子變形性↓。常見陰離子變形性順序:

第62頁,共71頁,星期六,2024年,5月2.陽離子變形性(1)外層電子構(gòu)型相同:Z,變形性

8e外層陽離子;陽離子Na+>Mg2+>Al3+Z123

變形性大→?。?)外層電子構(gòu)型相同,Z相同,則r

,變形性

Na+<K+<Rb+<Cs+

Mg2+<Ca2+<Sr2+<Ba2+

第63頁,共71頁,星期六,2024年,5月2.陽離子變形性(續(xù))(3)Z相同,r相近,電子構(gòu)型影響:例1Cd2+>Ca2+rp/pm9799

電子構(gòu)型18e8e

例2Ag+>K+rp/pm126133

電子構(gòu)型18e8e

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論