T-ZIPS 0001-2024 中小企業(yè)專利質量控制指引

ICS03.140CCSA00T/ZIPSGuidelinesforQualityControlofPatentsforSmallandMediumsizedEnterprises浙江省知識產權協會發(fā)布IT/ZIPS00001—2024 2規(guī)范性引用文件 3術語和定義 4戰(zhàn)略與規(guī)劃 5基礎支持 6實施和運行 7總結和改進 8附錄說明 附錄A專利挖掘布局策略表 附錄B技術交底書模板（通用機械類） 附錄C技術交底書模板（生物醫(yī)藥類等詳細版） 附錄D專利查新評估表 附錄E專利文本質量檢查表 附錄F專利文本質量評價表（高階版） T/ZIPS00001—2024本文件按照GB/T1.1—2020《標準化工作導則第1部分:標準化文件的結構和起草規(guī)則》的規(guī)定起請注意本文件的某些內容可能涉及專利。本文件的發(fā)布機構不承擔識別專利的責任。本文件起草單位：新昌中量大知識產權服務中心有限公司、中國計量大學、新昌縣知識產權維權援助中心、浙江新和成股份有限公司、浙江三花智能控制股份有限公司、浙江中財管道科技股份有限公司、浙江京新藥業(yè)股份有限公司、浙江捷昌線性驅動科技股份有限公司、中化藍天集團有限公司、英洛華科技股份有限公司。本文件主要起草人：冀瑜、饒先成、許靈波、楊鋼鋒、邢雁發(fā)、汪龍、潘海勇、陳輝、石清愛、馬莉、姜元平、馬勇、王琰、羅霞、杜姍、蔡玉澤、邢禹。1T/ZIPS00001—2024中小企業(yè)專利質量控制指引本文件規(guī)定了企業(yè)以高質量專利創(chuàng)造、保護和運用為目的的戰(zhàn)略與規(guī)劃、基礎支持、實施運行、績效評價和改進。本文件適用于企業(yè)以提升專利質量為目的的各類活動，比較適用于具有一定專利工作基礎的中小企業(yè)。2規(guī)范性引用文件下列文件對于本文件的應用是必不可少的，凡是注日期的引用文件，僅注日期的版本適用于本文件；凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修訂單）適用于本文件。GB/T29490企業(yè)知識產權合規(guī)管理體系GB/T21374知識產權文獻與信息基本詞匯GB/T31769創(chuàng)新方法應用能力等級規(guī)范。3術語和定義下列術語和定義適用于本文件。3.1高質量專利權利保護范圍邊界清晰、權利穩(wěn)定、具有合理保護范圍且具有一定市場前景的專利或專利組合。3.2專利組合為實現一定目的將與某產品有關或在技術上相互關聯的專利進行組合而形成的專利集合體。3.3專利管理人員或相關人員會同技術研發(fā)人員，對研發(fā)成果或預期研發(fā)成果從市場、技術、法律等角度進行分析和篩選，盡可能找到可以申請專利的發(fā)明點，并形成技術交底書的過程。3.4技術交底書技術研發(fā)人員或相關人員針對發(fā)明點和相關技術內容構成的技術方案以及背景情況進行清楚、完整的描述，形成的用于發(fā)明人、專利管理人員、專利代理師進行工作溝通的正式書面文件。3.52T/ZIPS00001—2024專利申請前評估專利管理人員或相關人員在專利撰寫前從市場、技術、法律等角度對技術交底書所表達的技術方案進行綜合評估，并提出專利申請決策建議的過程。3.6專利授權后評估專利管理人員或相關人員在專利獲得授權后從有效性、價值性以及是否繼續(xù)維持等角度對專利進行綜合評估，并提出后續(xù)專利實施計劃的過程。3.7專利布局專利管理人員或相關人員根據組織發(fā)展戰(zhàn)略、知識產權戰(zhàn)略、產品定位、專利布局策略，結合產業(yè)專利形勢、產品市場競爭態(tài)勢等分析，基于經專利申請前評估后確定的可專利發(fā)明點集合，策劃專利或專利組合申請具體方案并實施的過程。3.8創(chuàng)新方法應用一種或多種科學思維、科學方法、科學工具實現創(chuàng)新的技術。3.9專利加快審查國家知識產權局加快專利申請審查的途徑，包括專利優(yōu)先審查、專利預審和專利審查高速路（PatentProsecutionHighway，PPH）。專利申請文件質量評價借鑒質量管理的理念和方法，對專利申請文件進行多維度的質量評價，對符合質量規(guī)范要求的專利申請文件予以驗收，從而保證專利申請文件的質量，進而提高所培育的專利資源的質量。3.10專利查新評估通過檢查和評估專利申請中的技術方案是否達到專利法所規(guī)定的新穎性、創(chuàng)造性和實用性要求，以確定其是否符合專利申請條件的過程。4戰(zhàn)略與規(guī)劃企業(yè)應制定符合自身發(fā)展需要的專利戰(zhàn)略，著力提升企業(yè)專利的質量，并將其納入企業(yè)的整體發(fā)展4.1企業(yè)宜從以下方面培育高質量專利：3T/ZIPS00001—2024a)根據企業(yè)在國內外所處的行業(yè)背景、行業(yè)地位、在國內外的專利運營狀況和企業(yè)所具備的條件進行專利戰(zhàn)略目標定位；b)根據自身的專利創(chuàng)造能力和管理水平、專利儲備的數量和質量，結合企業(yè)的研發(fā)策略、商業(yè)發(fā)展策略、整體發(fā)展策略進行戰(zhàn)略制定；c)重視專利與資本運營、市場運營、人力資本運營相結合；d)重視內部資源的整合，統籌開展發(fā)明專利、實用新型、外觀設計以及商業(yè)秘密、著作權、商標等類型知識產權的運營管理；e)從專利創(chuàng)造、專利申請文件撰寫、專利代理機構人員管理、專利審查過程管理、專利授權后管理等全過程保證專利的質量。5.1制度保障5.1.1應建立和完善專利質量管理制度，并協調專利質量管理制度與其他知識產權管理制度的關系，形成完整的知識產權管理制度體系。5.1.2專利質量提升有關制度應包括：專利申報和審查制度、信息情報制度、專利評估制度、文件檔案管理制度、專利的維護與監(jiān)控制度、專利報酬制度、工作考核評價和獎懲制度、保密制度、宣傳培訓制度等。5.2機構與人員5.2.1宜設立專利管理部門或委托專業(yè)的專利服務機構負責開展專利相關工作；專利管理機構宜由總經理或總裁負總責并設置專利總監(jiān)，配備專、兼職工作人員保障專利質量管理工作的開展。5.2.2專利管理部門應：a)策劃、建立和完善專利管理制度，并協調專利運營制度與其它知識產權制度的關系，形成體系；b)負責專利戰(zhàn)略和工作規(guī)劃的制定，專利運營方案的設計和組織實施；c)明確專利質量提升工作的分工和責任，并進行有效指導、監(jiān)督和管理；d)負責企業(yè)專利運營各項工作的審查、批準實施和監(jiān)督；e)負責專利相關知識的宣傳和培訓；f)負責專利信息的收集、管理和預警，與研發(fā)、市場等相關部門進行溝通與交流，適時調整和完善專利質量提升策略；g)負責協調企業(yè)內外有關專利質量管理的工作；h)主持自身的日常工作并及時向上級報告有關信息；i)對專利質量管理過程中的問題進行總結梳理，形成文件和建立制度，并持續(xù)改進。5.2.3企業(yè)內部應開展專利質量評價工作。5.2.4宜根據專利質量提升的需要，發(fā)展外部專利合作機構或團隊，包括專業(yè)的知識產權律師事務所、專利代理機構、專利運營公司、金融機構、專利運營專家、顧問團隊等。4T/ZIPS00001—20245.2.5內部專利管理部門與外部專利合作機構或團隊應及時了解最新的知識產權法律法規(guī)、政策及行業(yè)的專利動態(tài)等，并保持及時、暢通的溝通。5.3財務資源5.3.1應設立專利管理工作的經常性預算費用，保障專利管理工作的正常運轉。5.3.2應建立完善的財務制度，對專利管理工作進行考核。5.3.3宜建立專利質量提升激勵機制，推動專利質量提升。5.4信息資源5.4.1信息獲取應建立與企業(yè)知識產權發(fā)展階段相適應的知識產權信息管理制度，建立與專利質量相關的企業(yè)內部信息收集程序和外部信息收集渠道。專利質量相關信息包括：a)專利創(chuàng)造涉及的原始文檔及過程記錄；b)專利檢索分析、評估與預測研究等報告；c)有關專利復審、無效、訴訟等法律文件；d)與專利有關的公文、圖書、情報等資料；e)與專利相關的經營信息和收購、并購信息；f)與專利相關的協議、合同等；g)專利文獻，包括主要國家和地區(qū)的專利全文及其法律狀態(tài)和專利申請案卷等；h)專利工作檔案，包括相關考核、獎勵、懲處等歷史文檔；i)所屬行業(yè)主要競爭對手的最新專利動態(tài)，以及業(yè)界的專利訴訟、專利許可、專利聯盟、專利池等的最新進展；j)專利相關的其他知識產權數據、文獻、法規(guī)、政策等信息。5.4.2信息管理應自行或委托相關服務機構建立專利信息庫或信息分析平臺，對專利信息進行管理、分析和運用，包括：a)監(jiān)控產業(yè)和對手的最新專利動態(tài)，及時了解業(yè)界的專利訴訟、轉讓許可和專利聯盟的最新進展，以進行風險防范；b)整合企業(yè)的所有專利文件及檔案，便于按照各索引信息查找和整理檔案；c)進行專利時限管理，對專利申請階段、授權后年費維護階段的時限進行管理及提醒；d)對專利文獻進行閱讀、分析、歸類、標注，形成相應的專利分析報表；e)對專利專案的管理，包括訴訟專案、許可專案、轉讓專案、投融資專案、加入標準或專利聯盟專案等；登記該專案的所有相關文件，對相關的人力、時限、費用等事項進行歸類管理。6實施和運行5T/ZIPS00001—20246.1要求應從專利布局策劃、專利申請前評估、查新檢索、專利申請文件質量評價、專利審查過程管理、專利授權后管理等全過程開展專利質量管理。6.2專利布局策劃6.2.1人員專利管理機構負責專利布局項目的策劃、布局策略制定、專利組合組建及專利組合管理方案制定。對應技術部門主管參與布局工作。6.2.2布局方向和時機應根據公司經營戰(zhàn)略、方針，選擇合適的專利布局類型和時機。專利布局的類型通?？梢苑譃楸Ｗo性專利布局、對抗性專利布局、儲備性專利布局。根據項目開展的需要確定合適的布局時機。專利布局宜嵌入研發(fā)項目，以保證專利布局策略的順暢執(zhí)行，確保在各個技術點上專利的高效、高質產出。6.2.3布局環(huán)境分析應通過技術調查、產業(yè)調查和市場調查等途徑對企業(yè)所面臨的技術環(huán)境、產業(yè)環(huán)境、市場環(huán)境、政策環(huán)境以及資源環(huán)境等進行分析，研究技術路線分布、技術演進趨勢、所在行業(yè)發(fā)展動態(tài)、6T/ZIPS00001—2024競合關系以及政策、資源約束等，明確專利布局所面臨的狀況。6.3技術創(chuàng)新6.3.1創(chuàng)新方法導入宜根據企業(yè)實際，由技術部門和專利管理機構共同導入創(chuàng)新方法，包括：a)根據布局策略確定的布局種類，以及布局方向，采用創(chuàng)新方法的流程，引導技術人員拓展技術方案；b)通過專利信息檢索分析，評價創(chuàng)新技術方案的侵權風險；對于有風險的，開展規(guī)避設計。6.3.2專利檢索使用檢索工具組織檢索關鍵詞檢索特定范圍和主體的專利。6.3.3專利挖掘應通過專利挖掘，對技術創(chuàng)新成果進行全面、充分、有效的保護，全面梳理并掌握可能具有專利申請價值的各主要技術點及其外圍的關聯技術，避免出現專利保護的漏洞，包括：a）根據研發(fā)目標及專利分析情況，識別核心技術方案，提煉出具有專利申請和保護價值的發(fā)明b）以核心技術方案為中心，圍繞替代方案、改進方案、應用領域、檢測、生產等方面，進一步挖掘發(fā)明點；c）組織技術研發(fā)人員將專利挖掘的發(fā)明點逐一撰寫并形成技術交底書；d）審核技術交底書，確保技術交底書主題明確、表述準確、技術方案完整可實現；e）開展專利申請前評估，對有申請價值和授權前景的技術方案申請專利；f）根據產品銷售流轉國家或地區(qū)，提交同族專利申請。6.4撰寫技術交底書依據專利挖掘和布局清單，提煉研發(fā)背景、解決的技術問題、采取的技術方案、達到的技術效果、具體實施例等內容，形成技術交底書（參考附錄B和附錄C同時加強技術交底書審核，做到主題明確、表述準確、技術方案完整可實現。6.5查新評估建立專利質量管控機制，對技術交底書內容進行技術先進性、市場前景性評估和授權可能性評估（參考附錄D專利查新評估表將技術方案與現有技術進行比較，分析是否符合專利法所規(guī)定得的新穎性、創(chuàng)造性和實用性要求，從而評估獲得專利授權的可能性和可操作性。6.6撰寫專利申請文本準確理解技術交底內容，結合擬進入國家(地區(qū))法律制度要求和專利語言特點，撰寫形成專利申請文本。6.7專利申請文本質量檢查7T/ZIPS00001—2024對專利申請文本進行形式性、實質性、完整性等質量檢查（參考附錄E專利文本質量檢查表依據評估和檢查情況，完善專利申請文本。6.8專利申請按照專利布局策略，有計劃地提交專利申請，做好申請跟蹤、意見答復、費用繳納等專利過程管理工作，并建立專利流程檔案。對于進入加快審查途徑的專利申請，應配合審查部門，加快響應節(jié)奏。6.9專利代理機構和代理師的管理專利代理機構的選擇可以參考國家知識產權局公示的專利代理機構信用等級評價進行。6.10專利授權后管理專利獲得授權后需要專門進行管理，具體內容包括專利證書內容的更改、專利年費的繳納、專利許可與轉讓以及原始資料的保存等。專利的提前放棄需要經過總經理或總裁審批。7總結和改進應定期對專利質量控制工作進行總結，評估專利質量控制的成效，及時調整運營戰(zhàn)略與規(guī)劃，完善企業(yè)創(chuàng)新的相關制度，持續(xù)改進，以促進企業(yè)高質量發(fā)展。8附錄說明附錄表格以中小企業(yè)專利質量控制過程中的工作順序編排，先以附錄A專利挖掘布局策略表為參考挖掘專利核心發(fā)明點，在形成交底書時參考附錄B技術交底書模板（通用機械類）和附錄C（生物8T/ZIPS00001—2024醫(yī)藥類等詳細版），并根據產業(yè)選擇附錄B和附錄C之一作為參考，在形成交底書之后，對技術交底書的內容進行查新（參考附錄D專利查新評估表），撰寫專利申請文件后參考附錄E專利文本質量檢查表進行質檢。為了全面評估中小企業(yè)的專利質量，可參考附錄F專利文本質量評價表（高階版）進行評價。9T/ZIPS00001—2024附錄A專利挖掘布局策略表............）：）：T/ZIPS00001—2024附錄B技術交底書模板（通用機械類）擬編寫專利名稱擬編寫專利類型□發(fā)明□實用新型□外觀設計所屬產品發(fā)明人/所屬部門聯系電話技術交底內容技術問題(填寫說明：在本部分中請簡要描述技術背景，使專利申請文件撰寫人能夠理解發(fā)明人所處的情境，共同的溝通平臺。對于比較專業(yè)的領域一般需要提供相關的附圖。)用，比較耗費時間，同時不適合在單手的情況下使用，且容易出現筆帽弄丟的情況。技術方案(填寫說明：在本部分中請說明方案的創(chuàng)新點是什么，即與其他方案的不同點在哪，并請結合附圖進行詳細描述，對于產品的結構、使用方法等請著重說明。對同一技術問題可提供多個技術方案。)和連接件，使用者即可通過按壓筆尾處按鈕的方式實現筆芯的收放。技術效果(填寫說明：在本部分中請寫明技術方案解決技術問題所帶來的效果，即使用該技術方案能夠有怎樣的好處，對于解決目前的技術問題能夠帶來怎么樣的幫助)行操作，同時可以避免出現筆帽丟失的問題。發(fā)明人簽字/日期部門技術負責人審核T/ZIPS00001—2024附錄C技術交底書模板（生物醫(yī)藥類等詳細版）發(fā)明名稱(一般不超過25字，必要時可不受此限，但也不得超過60字，準確地表明發(fā)明創(chuàng)造的技術主題)發(fā)明人技術交底聯系人E-mail交底日期1、本發(fā)明要解決的技術問題是什么?針對現有技術并結合本發(fā)明的技術內容指出現有技術的所有缺陷，本發(fā)明解決不了的缺陷，不用說明。2、詳細介紹技術背景，并描述已有的與本發(fā)明最相近似的實現方案。①該部分內容的功能幫助專利代理人員理解本發(fā)明的技術方案并根據技術方案提煉創(chuàng)新點。②請?zhí)峁┳鳛楸景l(fā)明基礎的且能幫助理解本發(fā)明的公知技術內容。③與本發(fā)明最接近的技術方案的說明(對于方法，應說明現有方法的步驟，對于裝置，應當說明結構組成及其關系)。④若有相應的文獻可提供具體文獻資料并指明出處以方便理解與查找。3、以因果關系推理的方式推導出現有技術的缺點是什么?針對這些缺點，說明本發(fā)明的目的。①客觀評價，現有技術的缺點是針對于本發(fā)明的優(yōu)點來說的，本發(fā)明不能解決的缺點不必寫?；诒景l(fā)明能解決的問題寫出發(fā)明的目的。②所述缺點應當是技術上的缺點，例如可以是成本高、誤碼率高、反應速度慢等類似問題。4、本發(fā)明技術方案的詳細闡述，應該結合機械圖、流程圖、原理框圖、電路圖時序圖、表征圖譜或實驗數據進行說明。①本發(fā)明中每一功能的實現都要有相應的技術實現方案,技術方案必須完整能夠實現，不能只進行原理與功能性的描述。②本發(fā)明中所有英文縮寫都應有中文注釋。③本發(fā)明中所有附圖都應該有詳細的文字描述,以別人不看附圖即可明白技術方案為準;同時附圖中的關鍵詞或方框圖中的注釋都盡量用中文;方法專利都應該提供流程圖，并提供相關的系統裝置。④附圖以及方框圖，非特殊情況請以黑白方式提供，附圖內相同部件的名稱請統一叫法。T/ZIPS00001—2024⑤結合提供的機械圖、流程圖、原理框圖、電路圖、時序圖等附圖進行詳細說明每個圖都應有對應的文字描述，以他人不看附圖即可明白技術方案為準。⑥若針對結構類的專利，請結合機械圖進行詳細的原理、傳動關系、連接關系的說明。⑦若針對工藝類的專利，請結合流程圖對整個工藝的過程、工藝條件以及達成的效果進行詳細的說明。⑧若針對電學類的專利，請根據邏輯框圖與電路圖介紹，對電路圖中每個功能模塊的內容以及產生的技術效果進行詳細的描述。⑨若是針對化學藥劑、藥品的專利，請給出它的組成成分以及配比，配比可以給出可實現的范圍，并給出能夠產生效果的實施例進行支撐。⑩若是針對計算機軟件的專利，請按照程序內部處理數據的先后順序進行描述(需要結合流程圖進行說明)，不能直接用計算機源程序代碼表示，如果認為源程序代碼表述更清楚，可以給出部分源程序代碼并進行相應的文字說明。5、本發(fā)明的關鍵點和保護點是什么?發(fā)明內容部分提供的是為完成一定功能的完整技術方案,在本部分提煉出技術方案的關鍵創(chuàng)新點,列出本發(fā)明的關鍵點以及發(fā)明人想要保護的創(chuàng)新點1、2、3...,以提醒代理師注意，便于專利代理師撰寫權利要求書。6、本發(fā)明的優(yōu)點(可根據實驗論證或邏輯推理給出說明)①可以對應3部分所要解決的技術問題或發(fā)明目的來描述本發(fā)明的優(yōu)點;同時若有其他優(yōu)點(不針對本發(fā)明缺陷而形成的其他優(yōu)點)也可一并陳述。7、針對4中的技術方案，是否還有別的替代方案同樣能完成發(fā)明目的?①如果有，請盡量寫明，內容的提供可以擴大專利的保護范圍，防止他人繞過本技術去實現同樣的發(fā)明目的。②針對多個替代技術方案，請根據4部分內容進行分別提供并進行說明。8、其他有助于專利代理師理解本技術的資料。給專利代理師提供更多信息，有助于專利代理師完成申請文件，例如已知的公知技術、發(fā)明人進行檢索后認為技術上有相似的專利及論文文獻、現有技術的網站等9、注意事項①交底書要充分闡述背景技術和詳細技術方案,盡可能表達清楚、全面、無異議②英文縮寫應有中文譯文，避免使用英文單詞，最好在術語解釋部分給出。T/ZIPS00001—2024附錄D專利查新評估表提案號:提案人：提案日期：本專利申請信息現有技術檢索結果分析（用Y/N表示現有技術是否解釋該特征）研發(fā)創(chuàng)新目的主要技術特征(需注明可替代的技術特征)現有技術1:現有技術2:現有技術3:基本功能：共有特征主要目的：特征次要目的：特征以上區(qū)別技術特征應與目的相互對應最接近的現有技術是：已知最接近的現有技術簡介（含缺陷描述）新穎性分析（與最接近的現有技術的區(qū)別技術特征）創(chuàng)造性分析（上述區(qū)別技術特征是否已于思及或在其他現有技術中有技術啟示？）希望的核心要求核心保護點確定的權利要求核心保護點檢索過程1、檢索范圍：2、檢索式或關鍵詞：查新檢索結論□經查新檢索建議在以下勾選國家/地區(qū)申請專利:□駁回專利申請?zhí)岚?，原?□檢索發(fā)現相同或類似現有技術核準公開在先，造成本提案獲準專利的可能性較低?！踔袊?，預計申請日:T/ZIPS00001—2024□歐洲，預計申請日:□在先專利及現有技術揭示之下，本案可獲準專利的保護范圍過小，競爭對手很容易回避，且相關技術本公司無需經由申請專利對外公開的必要?！跸嚓P資料不足以進行評估分析，需進一步補足以下文件:□其他說明:□美國，預計申請日:------□其它，預計申請日:理由簡述:專利申請分級建議□A類(重要)□B類(一般)□C類(策略型)(前瞻性研發(fā)/市場價值重要核心技術相關/與技術標準&協會規(guī)范關聯度較大)(現有技術改良/回避設計專利/市場利潤較低/有明確競爭對手/僅作防御性公開申請)(非本單位產品技術路徑對應/技術改進效應不明顯，尚待驗證/非本單位主攻市場對應產品技術)理由說明:理由說明:理由說明:擬獲得專利保護的核心要點及申請類型建議:□不申請專利，作為技術秘密保護，理由說明:承辦人/日期:審核人/日期:注:1、本報告根據專利申請查新檢索情況填寫;2、承辦人為創(chuàng)新主體知識產權管理人員或代理該專利申請的專利代理師，審核人為知識產權管理負責人或專利代理機構負責人。T/ZIPS00001—2024附錄E專利文本質量檢查表案號自核人復核人復核□□5.主張優(yōu)先權的優(yōu)先權信息(國籍、申請日、申請?zhí)?及副本資料信息是否正確□□□□□□3.摘要中如出現附圖標記，則將附圖標記置于技術特征名稱后面，并置于括號□□□□□□□□□□□□□□T/ZIPS00001—2024□□□□□□2.技術交底書中提及的所有技術方案均已3.所有的附圖在實施例的說明中均有描述，并且每個附圖中每一個元件均被引□□□□□□□□5.每一個權利要求項均為單一的句子，并8.權利要求所界定的技術方案在未來維權過程中T/ZIPS00001—2024附錄F專利文本質量評價表（高階版）類型對象級別扣分項實質問題理解1.1對技術方案的基本發(fā)明點理解錯誤不合格權利要求的保護是否合理2.1發(fā)明創(chuàng)造明顯不屬于專利的保護客體（A2、A5、A25等）Ⅰ2.2權利要求中遺漏了技術交底書中的發(fā)明點Ⅱ2.3權利要求的保護主題遺漏2.3.1權利要求的保護類型遺漏(包括必要的權利要求類型)Ⅰ2.3.2權利要求的相同類型主題沒有限定至最小支撐單元Ⅰ2.3.3權利要求的相同類型的主題沒有限定至企業(yè)保護的產品Ⅱ2.4權利要求表述不清2.4.1權利要求表述不清，造成方案存在歧義或者不清楚且不合格2.4.2權利要求表述不清，造成方案存在歧義或者不清楚且后續(xù)程序可以通過修改以避免(如含有'等'、"基本上"技術概念模糊的不確定用語而導致權利要求不清楚等情形)Ⅱ2.5權利要求得不到說明書的支持權利要求得不到說明書的支持(權利要求包含不能解決技術形),且因權利要求書的布局或說明書的描述不完善，使得在后續(xù)程序擬修改后的權利要求保護范圍過小Ⅰ2.6.1權利要求明顯不具有新穎性（相對交底書或反饋函給出的對比文件、簡單檢索后、背景技術等文獻判斷不具有新穎性）ⅠT/ZIPS00001—2024扣分項實質問題權利要求的保護是否合理2.6權利要求的保護范圍過小2.6.2獨立權利要求因描述錯誤而導致保護范對技術方案理解正確的前提下對權利要求描述錯誤)2.6.2.1因發(fā)明點描述錯誤而導致保護范圍過小不合格2.6.2.2因非發(fā)明點描述錯誤而導致保護范圍過小不合格獨權2.6.3獨立權利要求因認定發(fā)明點錯誤而導致保護范圍過?。ㄆ渲姓J定發(fā)明點錯誤是指在對技術方案理解正確的前提下對發(fā)明點認定錯誤）Ⅰ求因包含非必要技術特征而導致保護范圍過小2.6.4.1因包含非必要技術特征，對保護范圍實質影響較大不合格2.6.4.2因包含非必要技術特征，對保護范圍實質影響較?。òＷo主題一般具有的非必要技術特征，對保護范圍影響較小，根據實際使用情況判斷，對專利權人的利益未產生實質影響）Ⅰ2.6.5獨立權利要求因上位、概括不足而導致保護范圍過小2.6.5.1因對于發(fā)明點的上位、概括不足而導致保護范圍過小Ⅰ2.6.5.2因對于非發(fā)明點的上位、ⅡT/ZIPS00001—2024扣分項實質問題權利要求的保護是否合理2.6權利要求的保護范圍過小獨權2.6.6獨立權利要求缺乏必要技術特征2.6.6.1對于缺乏的必要技術特征在從權、說明書中已限定（從權中進一步合理限定除外）Ⅱ2.6.6.2對于缺乏的必要技術特征在從權、說明書中未限定Ⅰ從權2.6.7從屬權利要求因描述錯誤而導致保護范圍過小(其中描述錯誤是指在對技術方案理解正確的前提下對權利要求描述錯誤)2.6.7.1因發(fā)明點搭述錯誤而導致保護范圍過小不合格2.6.7.2因非發(fā)明點描述錯誤而導致保護范圍過小不合格2.6.8從屬權利要求因上位、概括不足而導致2.6.8.1因對于發(fā)明點的上位、概括不足，而導致保護范圍過?、癖Ｗo范圍過小2.6.8.2因對于非發(fā)明點的上位、概括不足，而導致保護范圍過小建議修改不扣分權利要求的布局3.1權利要求因引用問題或限定問題而導致權利要求不具有梯度性（如因權利要求的不恰當引用關系縮小了涉及發(fā)明點的權利要求的保護范圍，或因將沒有必然聯系的兩個或以上涉及發(fā)明點的技術特征限定在同一權利要求中縮小了權利要求的保護范圍）Ⅰ4.1說明書公開不充分ⅠT/ZIPS00001—2024扣分項實質問題書4.2發(fā)明內容部分沒有合理的記載發(fā)明所要解決的技術問題（包括記載所要解決的技術技術問題錯誤、過小等情形）Ⅱ4.3說明書具體實施方式部分內容的記載不清楚，造成方案存在歧義或者不清楚（包括說明書記載缺乏邏性、描述錯誤等造成方案存在歧義或不清楚的情形）Ⅱ4.4說明書具體實施方式部分效果描述沒有結合技術方案描述或者僅是簡單與技術方案相結合，沒有對技術效果的產生詳細記載Ⅱ4.5說明書沒有對技術交底書中提供的技術內容全部記載Ⅰ4.6缺少表達技術方案的必要的附圖Ⅰ形式問題權利要求5.1主題名稱不清楚明確或存在歧義Ⅲ5.2技術特征的標號未出現在附圖標記中或者未置括號