《液晶顯示制造技術(shù)》課件-光刻工序設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)

光刻工序設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)CONTENTS目錄02涂膠設(shè)備01課程導(dǎo)入03曝光設(shè)備04光刻使用材料01PARTone課程導(dǎo)入課程導(dǎo)入在液晶顯示器制造的精密世界中，光刻工序設(shè)備扮演著至關(guān)重要的角色。這些高度專業(yè)化的設(shè)備不僅要求極高的精度和穩(wěn)定性，還必須具備復(fù)雜的結(jié)構(gòu)和精密的控制系統(tǒng)。02PARTTWO涂膠設(shè)備涂膠設(shè)備是光刻工藝中不可或缺的一環(huán)。涂膠設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)設(shè)計精巧，功能強大，旨在確保光刻膠層均勻、一致地涂布在硅片表面。這臺設(shè)備通常包含旋轉(zhuǎn)機構(gòu)、涂膠系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等核心組件。涂膠設(shè)備涂膠設(shè)備在半導(dǎo)體制造中扮演著至關(guān)重要的角色，它的性能直接影響到光刻工藝的精度和效率。因此，涂膠設(shè)備的設(shè)計、制造和維護都需要高度的專業(yè)知識和技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，涂膠設(shè)備也在不斷更新?lián)Q代，以滿足更高的工藝要求和市場需求。涂膠設(shè)備一般結(jié)構(gòu)圖涂膠設(shè)備03PARTTHREE曝光設(shè)備曝光設(shè)備，又稱為光刻機，是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最為復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝設(shè)備之一。它集合了數(shù)學(xué)、光學(xué)、流體力學(xué)、高分子物理與化學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別等多項頂尖技術(shù)，具有極高的技術(shù)含量。光刻機采用類似照片沖印的技術(shù)，通過特定波長的光線（如紫外光、深紫外光、極紫外光等）透過掩模照射在涂有光刻膠的硅片表面，將掩模上的精細(xì)圖形轉(zhuǎn)移到硅片上。曝光設(shè)備由圖可看出，UV光經(jīng)濾光反射鏡、復(fù)眼透射鏡、曲面鏡反射后，形成很均勻的光強照射到工作臺面上。曝光機光源結(jié)構(gòu)圖曝光設(shè)備01.曝光機的UV光源結(jié)構(gòu)版框定位結(jié)構(gòu)如下：滑道是由兩排耐磨性能好的滾輪（由聚酯材料制成）組成。版框在安裝過程中通過滑道進入，以減少磨損。在X、Y方向上配置有三個千分尺以精細(xì)調(diào)整版框位置。在千分尺對應(yīng)方向上配置有三個推進氣缸。在版框安裝臺面兩邊都配有氣槽，其作用是在對位動作時，氣缸產(chǎn)生正壓氣流，使臺與框之間產(chǎn)生氣墊，以便調(diào)整，在固定動作時，氣槽接近真空系統(tǒng)，使框與臺面吸附，增強定位作用。在版框四角位置各配備一個由氣缸作用的固定爪，在定位后固定爪可將版框牢固地壓住。玻璃的定位結(jié)構(gòu)如圖所示曝光設(shè)備02.光刻版及玻璃的定位結(jié)構(gòu)由于輸入/輸出點多，程序容量大，一般采用大中型PLC系統(tǒng)。針對曝光設(shè)備的特點，玻璃對位操作采用特殊對位模塊驅(qū)動步進電機或伺服電機進行控制。曝光機電氣控制04PARTFOUR光刻使用材料光刻使用的主要材料包括：ITO玻璃、光刻膠、濃鹽酸、濃硝酸、氫氧化鈉。光刻膠，作為光刻工藝中的核心材料，是一種對光敏感的聚合物材料。它能夠在特定波長的光照下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使得曝光區(qū)域的性質(zhì)（如溶解度）發(fā)生顯著變化。光刻使用材料光刻膠的選擇直接決定了光刻圖案的分辨率和精細(xì)度，是實現(xiàn)高精度圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵。根據(jù)光刻工藝的需求，光刻膠可分為正性光