蒸鍍機(jī)的運(yùn)用流程ppt課件

1、亞納科技（深圳）有限公司蒸鍍機(jī)的運(yùn)用與流程,1,evaporation的運(yùn)做可分為10大類(lèi),一.蒸鍍?cè)?二.運(yùn)用產(chǎn)業(yè),三.真空定義,五.機(jī)械的運(yùn)用,六.電腦操作,四.結(jié)構(gòu)系統(tǒng),十.注意事項(xiàng),九.機(jī)臺(tái)保養(yǎng),八.異常與處理,七.運(yùn)作流程,2,一.真空蒸鍍?cè)?蒸鍍 是指將蒸鍍?cè)矗ㄥ儗拥牟牧蟻?lái)源）加熱蒸發(fā)直接凝結(jié)于工件表面而形成鍍層。 1) 應(yīng)用 金屬與元素半導(dǎo)體的鍍膜 合金的蒸鍍 砷化鎵，娣化銦等化合物的蒸鍍 2) 蒸發(fā) 金屬蒸發(fā)或氣化的方法很多，包括利用熱電阻，輻射，感應(yīng)，電子束，電弧等方式加熱。蒸鍍時(shí)，基材則屬于基能。,蒸鍍?cè)噲D如下：,3,二.蒸鍍所運(yùn)用產(chǎn)業(yè),光學(xué)眼鏡,車(chē)載導(dǎo)行,電腦,手機(jī),

2、4,三.真空定義,一個(gè)容器內(nèi)空間的壓力小于大氣壓就是真空,也可以說(shuō)若容器內(nèi)氣體分子密度小于2.5*10Torr/CM3(一大氣壓分子的密度)側(cè)該容器內(nèi)為真空,簡(jiǎn)單的表示為:壓力大氣壓力; 真空度代表真空系統(tǒng)中壓力的程度,一般分為:,粗略真空: 760-1Torr,超高真空: 107-1010,極高真空: 1010 Torr以上,高真空 : 103-107 Torr,中度真空: 1-103 Torr,自然 真空,人造 真空,5,四.結(jié)構(gòu)系統(tǒng),6,五.機(jī)械的運(yùn)用與原理,1.RP(回轉(zhuǎn)幫浦）原理： 油封式真空幫浦是以油體當(dāng)做活塞，葉輪轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，油體被拋向外圍形成移動(dòng)的油封環(huán)，油封環(huán)內(nèi)部中空，因?yàn)槿~輪相

3、對(duì)於機(jī)體是偏心運(yùn)轉(zhuǎn)，因此葉輪轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，在吸入口位置逐漸離開(kāi)油封環(huán)，兩葉片間空間逐漸增大而吸入氣體，當(dāng)頁(yè)輪轉(zhuǎn)到排氣口位置時(shí)，再度進(jìn)入油封環(huán)，兩葉片間空氣逐漸縮小，壓縮氣體并由排氣口排出，如此周而復(fù)始。 注（RP與BP組合運(yùn)用，可將抽氣范圍延伸至中真空） 壓力范圍：760-103 Torr 抽氣速度：50-3000/M,組合運(yùn)用,7,機(jī)械的運(yùn)用與原理,2.BP（魯氏幫浦）原理： 油封式真空幫浦是以油體當(dāng)做活塞，葉輪轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，油體被拋向外圍形成移動(dòng)的油封環(huán)，油封環(huán)內(nèi)部中空，因?yàn)槿~輪相對(duì)於機(jī)體是偏心運(yùn)轉(zhuǎn)，因此葉輪轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，在吸入口位置逐漸離開(kāi)油封環(huán)，兩葉片間空間逐漸增大而吸入氣體，當(dāng)頁(yè)輪轉(zhuǎn)到排氣口位置時(shí)，再

4、度進(jìn)入油封環(huán)，兩葉片間空氣逐漸縮小，壓縮氣體并由排氣口排出，如此周而復(fù)始。 壓力范圍：50104 Torr 抽氣速度：200100.000K1/H,8,機(jī)械的運(yùn)用與原理,3.DP(擴(kuò)散幫浦)原理: 當(dāng)擴(kuò)散幫浦油鍋中的真空油被加熱到沸騰溫度時(shí),便產(chǎn)生大量的油蒸氣,油蒸氣經(jīng)導(dǎo)管由噴嘴高速?lài)姵?被抽分子一旦落入射流范圍,便可以從射流中獲得向出口方向運(yùn)動(dòng)的動(dòng)量,射流在在往下運(yùn)動(dòng)過(guò)程中,有冷卻水冷卻,油分子就被冷凝下來(lái),沿泵壁流回泵的底部,繼續(xù)循環(huán)使用; 壓力范圍:103-1010 Torr 抽氣速度:10/sec-100.000/sec,9,七.電腦操作（抽氣畫(huà)面）,10,電腦操作（流程畫(huà)面）,1.粗

5、抽燈亮，表示粗抽流程已完成,且主畫(huà)面“細(xì)抽燈亮 起,表示細(xì)抽流程正在運(yùn)行，Polycold冷卻自動(dòng)啟動(dòng) 2.當(dāng)桶身真空度達(dá)到電子槍真空度時(shí)，電子槍面板“VAC燈 3.電子槍高壓被啟動(dòng),開(kāi)始蒸鍍 4.當(dāng)蒸鍍完成后,根據(jù)電腦之設(shè)定參數(shù),進(jìn)行泄氣流程 5.泄氣燈亮起,ROTA OFF 6.HV OFF系統(tǒng)畫(huà)面“HV”燈熄,待閥門(mén)關(guān)閉定位后,坩面 面polycold除霜自動(dòng)開(kāi)啟 7.除霜完成后,執(zhí)行桶身泄氣動(dòng)作,運(yùn)轉(zhuǎn)準(zhǔn) 備完成,粗抽,細(xì)抽,蒸鍍準(zhǔn) 備完成,蒸鍍,泄氣,開(kāi)機(jī),11,電腦操作（泄氣畫(huà)面）,12,六.evaporation運(yùn)做流程,13,evaporation運(yùn)做流程,14,八.異常與處理,

6、15,九.保養(yǎng)事項(xiàng),16,十.注意事項(xiàng),注意事項(xiàng)： 1.開(kāi)機(jī)前，確認(rèn)所以電源是否接好,開(kāi)啟 2.檢查（DP）進(jìn)水，回水壓力是否正常（4-6KG) 回水閥有無(wú)全開(kāi) 3.開(kāi)啟（DP）時(shí)需要預(yù)熱30分鐘,溫度需要達(dá)到210,才可以進(jìn)行抽氣 4.檢查PD RP 油位是否正常,有無(wú)變質(zhì) 5.早晚班交接班時(shí)須小清機(jī)，全面更換艙內(nèi)的鋁箔紙,清潔電子鎗坩鍋 6.電鍍每周需大清機(jī)一次(噴砂高壓水槍沖洗乾燥酒精擦拭),17,結(jié) 論,蒸鍍優(yōu)點(diǎn)： 1.能在金屬、半導(dǎo)體、絕緣體表、金屬、半導(dǎo)體、絕緣體、不同成分 比的合金，化合物及氮化物等薄膜，其適用范圍之廣是其它方法無(wú)法 與之比似的 2.可以設(shè)定不同的沉積速率,不同的基板溫度和不同的蒸氣分子蒸鍍成 膜,因而可得到不同的顯微結(jié)構(gòu)和結(jié)晶形態(tài)（單晶，多