PVD表面鍍覆技術(shù)原理

1、PVD表面鍍覆技術(shù) 原理 主要內(nèi)容主要內(nèi)容 一、制程概述 二、真空涂料介紹 三、鍍膜介紹 四、產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求 五、材料的選擇 六、透光效果 七、新工藝開發(fā)及展示 u制程概述 Primer 提高特殊材料素材 (如 PA, PA+GF, PC+GF) 與涂層間的附著力，ABS/PC or PC 素材不需要Primer。 底涂 為鍍膜層提供平整、良好的表面，提高鍍膜層與素材間的附著力； 鍍膜層 使產(chǎn)品產(chǎn)生金屬質(zhì)感； 鍍膜方式主要有蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜； VM: Vacuum Metalization (primary for keypad) NCVM: Non-conducting Vacuum Met

2、alization (primary for housing) 中涂 提供顏色涂層載體，提高鍍膜層及涂層間的附著力；色漿一般添加在中涂中。 面涂 保護(hù)作用，提高產(chǎn)品漆膜的硬度、耐磨性等； Substrate (PC) Basecoat Topcoat Metal layer Middle coat Substrate (PA+GF) Basecoat Topcoat Metal layer Middle coat Primer Substrate (PC) Basecoat Topcoat Metal layer 涂料體系固化及成膜原理 涂料涂料體系體系： PU：聚氨酯涂料體系 UV：紫外光輻

3、射固化涂料體系 固化固化機(jī)機(jī)理：理： 首先光引發(fā)劑受波長(zhǎng)為200400nm的紫外線輻射 而被激活并破裂形成自由基。 自由基與樹脂中的雙鍵作用，形成長(zhǎng)鏈自由基。 增長(zhǎng)著的長(zhǎng)鏈進(jìn)一步反應(yīng)形成聚合物。 成膜成膜機(jī)理機(jī)理 PU：NCO和OH反應(yīng)，發(fā)生逐步加成聚合反應(yīng)R- NCO+HO-RR-NHCO-OR+R-NCO UV：光引發(fā)劑受紫外光輻射后裂解成自由基，再與單體、 樹脂中的雙鍵聚合,發(fā)生裂解聚合反應(yīng)。 AB AB B+M BM+M BM2 u涂料涂料/噴涂噴涂 u涂料涂料/噴涂噴涂 UV涂料涂料與與PU涂料相比，具有以下涂料相比，具有以下特點(diǎn)特點(diǎn) 1.適合于不耐熱材料，如木材、紙張、塑料、織物、

4、玻璃等，及熱容量 大的厚板金屬件的涂漆固化； 2.固化速度快，只需幾十秒就固化，有時(shí)更短。 3.不存在活化期問題，使用方便。 4.固含量高，固化時(shí)活性稀釋劑的揮發(fā)較少。 5.能耗僅為熱固化的1/10，能量利用率高。而熱固化時(shí)熱量多用于工件 加熱和熱量散發(fā)損失。 6.很適合于高速流水線生產(chǎn)，生產(chǎn)效率高。 7. 復(fù)雜形狀表面不適宜用光固化涂料，死角部位不能固化。 UV與PU的工藝區(qū)別 涂料膜厚(um) 烘烤溫度 烘烤時(shí)間 （min) 抗腐性可印刷性復(fù)涂性 活化時(shí)間 （hour) 1K4-1550-7010-15較差好好無 2K PU20-408030-60較好較好較好2-8 UV8-1255-65

5、5好部分較好不可無 u涂料涂料/噴涂噴涂 涂料與素材的匹配 基材涂料體系烘烤溫度()烘烤時(shí)間(分鐘） ABS1K / 2K / UV (KD /CV)60-7010-15 PC1K / 2K / UV (KD /CV)60-7010-15 ABS/PC1K / 2K / UV (KD /CV)60-7010-15 PMMA2K / UV (UV 3650)60-705 MagnesiumPU primer (Mudguard 500)8030 Nylon PU / primer（PAG100)60-7015-20 PPPU primer60-7010-20 TPUPU (UNEX)60-703

6、0 EDPU / primer（PAG100)60-7015-20 u涂料/噴涂 1 噴漆 素材 材料 2 化學(xué)電鍍 SubstrateMaterial 正極負(fù)極 3 蒸發(fā)鍍 鍍材 素材 加熱器 氣體 4 濺射鍍 鍍材 素材 氣態(tài) u鍍膜鍍膜 表面處理類型 真空電鍍優(yōu)點(diǎn) 1.被鍍物與塑料不產(chǎn)生 化學(xué)反應(yīng)； 2.環(huán)保制程，無化學(xué)物 污染； 3.可鍍多重金屬； 4.生產(chǎn)速度快； 5.可對(duì)各種素材加工； 6.屬低溫制程； 薄膜薄膜沉積的兩種常見制程沉積的兩種常見制程 真空鍍膜分為 1）物理氣相沉積，即PVD (Physical vapor deposition) 2）化學(xué)氣相沉積，即CVD (Che

7、mical vapor deposition), 前者又分為： 后者分為： a.蒸發(fā)鍍膜； a.常壓CVD; b.離子鍍膜； b.低壓CVD; c.濺射鍍膜。 c.等離子體CVD; d.其它CVD。 按功能要求也可區(qū)分為： a.裝飾性鍍膜； b.功能性鍍膜。 真空環(huán)境的必要性真空環(huán)境的必要性 1) 降低氧分壓，避免材料氧化； 2) 在高溫下防止空氣分子和蒸發(fā)源發(fā)生反應(yīng)，生成化合物而 使蒸發(fā)源劣化； 3)某些鍍膜工藝需要特定的壓力環(huán)境（如濺射鍍膜時(shí)，需滿 足一定的氣體壓力）； 4)防止因蒸發(fā)物質(zhì)的分子在真空室內(nèi)與氣體分子碰撞而阻礙 蒸發(fā)分子直接到達(dá)基片表面，和在途中生成化合物或由于 蒸發(fā)分子間的

8、相互碰撞而在到達(dá)基片之前就凝聚等； 5)防止在基片上形成薄膜的過程中，氣體分子作為雜質(zhì)混入 膜內(nèi)或者在薄膜中形成化合物。 真空系統(tǒng)的組成真空系統(tǒng)的組成 真空系統(tǒng)的組成：真空室、真空泵、真空規(guī)。 真空室：進(jìn)行鍍膜的空間； 真空泵：對(duì)真空室進(jìn)行抽氣的裝置； 分為前級(jí)泵，次級(jí)泵。 至今還沒有一種泵能從一個(gè)大氣壓一直工作到超高真空。因此通 常是將幾種真空泵組合使用。 真空規(guī)：對(duì)真空系統(tǒng)進(jìn)行氣體壓力探測(cè)的儀器； 鍍材 素材 加熱器 腔體 氣態(tài)金屬 u鍍膜鍍膜 蒸發(fā)鍍膜(Evaporation) 鎢絲 鎢舟 鉬舟 蒸發(fā)源的類型 a電阻蒸發(fā)源： 電阻蒸發(fā)源的形式 蒸發(fā)源材料要求： 1）熔點(diǎn)要高； 2）飽和蒸

9、汽壓低； 3）化學(xué)性能穩(wěn)定； 4）良好的耐熱性； 5）原料豐富。 常用W、Mo、Ta或耐 高溫的金屬氧化物、陶瓷 或石磨坩堝。 W的熔點(diǎn)：3380oC,相對(duì)密度：19.3； Mo的熔點(diǎn)：2630oC,相對(duì)密度：10.2； Ta的熔點(diǎn)：2980oC,相對(duì)密度：16.6。 b電子束蒸發(fā)源 優(yōu)點(diǎn)：1.束流密度高，蒸發(fā)速度快； 2.可避免容器材料的蒸發(fā)有利于提高純度； 3.熱效率高。 缺點(diǎn)：設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜，價(jià)格昂貴。會(huì)產(chǎn)生軟X射線對(duì)人體 有害。 直槍蒸發(fā)源 e型電子槍蒸發(fā)源 鍍材 素材 原子/離子 u鍍膜鍍膜 濺鍍(Sputtering) 原理： 1. Ar 氣體原子的解離 Ar Ar+ e 2. 電子

10、被加速至陽(yáng)極，途中產(chǎn)生新的解離。 3. Ar 離子被加速至陰極撞擊靶材，靶材粒子及 二次電子被擊出，前者到達(dá)基板表面進(jìn)行 薄膜成長(zhǎng)，而后者被加速至陽(yáng)極途中促成 更多的解離。 In-line Sputtering System Sputtering chamber Buffer chamber Unloading chamber Plasma treatment Loading chamber robot In robot Out Sputtering Process Sputtering Chamber Buffer Chamber Unloading Chamber Buffer Chamb

11、er Loading Chamber Out 磁控濺射源主要有三種： 1）柱狀磁控濺射源： 適于制作大面積濺射膜，在工 業(yè)上應(yīng)用較廣泛。 2）平面磁控濺射源： 圓形的可以制成小靶， 矩形的可以制成大靶。 其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)低， 通用性強(qiáng)，應(yīng)用最廣。 3）濺射槍：其結(jié)構(gòu)較復(fù)雜， 一般配行星式夾具使用。 特點(diǎn)：靶材利用率高； 膜厚分部均勻； 靶功率密度大；易于更換靶材。 Principle of Supttering Vacuum pump Takes place in a vacuum chamber Electrical charge is formed between the substrat

12、e and cathode Gas is injected in chamber Ions hit the target and knock off atoms Target atoms land (condense) on substrate to form a thin film Target Material (Cathode) Substrate Energy Ions move in plasma Gas Plasma Gas ionizes - forms a plasma PLASMA 物質(zhì)的第四態(tài)物質(zhì)的第四態(tài) 借由外加的電場(chǎng)能量來促使 氣體內(nèi)的電子獲得能量并加 速撞擊不帶電中性

13、粒子，由 于不帶電中性粒子受加速電 子的撞擊后會(huì)產(chǎn)生離子與另 一帶能量的加速電子，這些 被釋放出的電子，在經(jīng)由電 場(chǎng)加速與其他中性粒子碰撞。 如此反復(fù)不斷，進(jìn)而使氣體 產(chǎn)生崩潰效應(yīng) (gas breakdown)，形成電漿狀態(tài)。 什么是電漿什么是電漿 電漿性質(zhì) 1.整體來說，電漿的內(nèi)部是呈電中性的狀態(tài)，也就是 帶負(fù)電粒子的密度與帶正電粒子的密度是相同的。 2.因?yàn)殡姖{中正、負(fù)離子的個(gè)數(shù)幾乎是一比一，因此 電漿呈現(xiàn)電中性。 3.電漿是由一群帶電粒子所組成，所以當(dāng)有一部分受 到外力作用時(shí)，遠(yuǎn)處的部分電漿，乃至整群的電漿粒 子都會(huì)受到影響，這叫做“電漿的群體效應(yīng)” 。 4.具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。

14、 濺射鍍膜基于荷能離子轟擊靶材時(shí)的濺射效應(yīng)，而整個(gè) 濺射過程都是 建立在氣體放電的基礎(chǔ)之上，即濺射離子都 來源于氣體放電。 常見放電類型： 1.直流氣體放電 2.低頻交流輝光放電 3.中頻交流輝光放電 4.射頻輝光放電 5.微波等離子體輝光放電 電漿的本質(zhì)電漿的本質(zhì)-氣體放電氣體放電 1）無光放電：宇宙射線在電場(chǎng)下加速形 成極小的電流，中性分子開始電離，不發(fā)光。 2）湯森放電：電壓增加后，更多氣體分 子被電離，電流可在電壓不變下增加。 3）正常輝光放電：當(dāng)電壓繼續(xù)增大后， 電壓突然降低，電流突然增大，氣體被擊穿， 出現(xiàn)帶有顏色的輝光。 1. 直流氣體放電直流氣體放電 4）異常輝光放電：電流增大

15、，電壓升高。 5）弧光放電：極間電壓陡降，電流突然增大，相當(dāng)于極間 短路。 由于正常輝光放電的電流密度仍比較小，所以濺射均在 異常輝光放電的區(qū)域進(jìn)行。陰極與陽(yáng)極間的距離至少必須比 陰極與負(fù)輝光區(qū)之間的距離要長(zhǎng)。 2. 低頻交流輝光放電（很少采用） 因其頻率低于50Hz，離子有足夠的活動(dòng)性和充分的時(shí)間 在每個(gè)半周期內(nèi)建立直流輝光放電，只是兩個(gè)電極交替成為 陰極和陽(yáng)極。 3.中頻交流輝光放電 40kHz 4.射頻輝光放電 530MHz,一般用13.56MHz。在一定的氣壓下，當(dāng)陰陽(yáng) 極間所加交流電壓的頻率增高到射頻頻率時(shí)，即可產(chǎn)生穩(wěn) 定的射頻輝光放電。兩個(gè)重要特征： 1）在輝光放電空間產(chǎn)生的電子獲

16、得了足夠的能量，足 以產(chǎn)生碰撞電離； 2）電極并不需要是導(dǎo)體，因而可以濺射包括介質(zhì)材料 在內(nèi)的任何材料。 5.微波等離子體輝光放電 微波（MVV）是一種無極放電，,在真空室中導(dǎo)入.45GHz 的微波能與磁場(chǎng)中回旋的電子發(fā)生共振促進(jìn)放電。 PVD蒸鍍法 真空蒸鍍?yōu)R射蒸鍍離子蒸鍍 粒子生成機(jī)構(gòu)熱能動(dòng)能熱能 膜生成速率可提高快可提高 粒子原子、離子原子、離子原子、離子 蒸鍍均勻性複雜形狀佳良好良好，但膜厚分佈 不均 平面佳優(yōu)佳 蒸鍍金屬可可可 蒸鍍合金可可可 蒸鍍耐熱化合物可可可 粒子能量很低0.10.5eV可提高1100eV可提高1100Ev 惰性氣體離子衝擊通常不可以可，或依形狀不可可 表面與層

17、間的混合通常無可可 加熱（外加熱）可通常無可，或無 蒸鍍速率10-9m/sec 1.6712500.1716.70.50833 u鍍膜鍍膜 鍍膜方式比較 性質(zhì) 沉積速率大尺寸厚度控制精確成份控制可沉積材料之 選用 整體制造成本 方法 蒸鍍 (Evaporation)慢可佳多佳 濺鍍 (Sputtering)佳佳佳多佳 u鍍膜鍍膜 各種物理氣相沉積法之比較 若產(chǎn)品為高光面，則推薦使用SPI A1或 SPI A2. 當(dāng)VDI大于9時(shí)噴涂后開始出現(xiàn) 橘皮現(xiàn)象，當(dāng)VDI大于18時(shí)橘皮現(xiàn)象將非常嚴(yán)重。 如產(chǎn)品為亞光面， VDI小于27可以接受，否則會(huì)產(chǎn)生橘皮現(xiàn)象。 以上為高光產(chǎn)品VDI為18和21時(shí)的橘

18、皮現(xiàn)象 u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求 素材表面粗糙度要求 底漆須膜厚很薄，大約5um； 由于大量的灰塵藏在紋理中以及太薄的膜厚會(huì)導(dǎo)致噴涂良率太低； 注塑的缺陷也會(huì)更明顯； 耐磨性能會(huì)很差。 刷子紋狀素材 CD紋狀素材 十字交叉紋狀素材 u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求 避免使用有紋理的素材 圓弧狀輪廓產(chǎn)品的肥邊現(xiàn)象會(huì)比直角狀輪廓產(chǎn)品輕微，倒角的半徑至少為 0.5mm； 尖銳的表面影響產(chǎn)品的耐磨性能。 直角狀輪廓 ，肥邊現(xiàn)象 比較明顯 圓弧狀輪廓產(chǎn) 品，肥邊現(xiàn)象 較輕微 Troubadix C-Cover; VDI 9; 高光產(chǎn)品 素材 PVD膜層 倒角 不合理的設(shè)計(jì) 合理的設(shè)計(jì) 倒角 u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)

19、品設(shè)計(jì)要求 產(chǎn)品輪廓的設(shè)計(jì)要求 為達(dá)到振動(dòng)摩擦測(cè)試要求，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和涂料選擇上建議滿足以下要求： 1、Mechanical Design 1）邊內(nèi)側(cè)設(shè)計(jì)R0.3mm 以上，如果后處理為PVD，必須為R0.5以上； 2）High Gloss和PVD：邊外側(cè)設(shè)計(jì)R1.3mm以上； PU/UV 無光： R0.71.0mm； 3）Window 設(shè)計(jì)必須高出Front 面；（需要Designer 重新Review Window高出后，Window 表面磨損效果）； 2、涂料選擇 1）外側(cè)邊R1.3mm, UV/PU 并行適用； 2）外側(cè)邊R1.3mm以下，只能選用PU 漆； 3）鍍膜用涂料選用PU 及中硬

20、質(zhì)UV 涂料； 避免產(chǎn)品卷邊、不平整等不良； 避免窄邊設(shè)計(jì). 邊框的寬度至少需要4mm，否則產(chǎn)品性能接受標(biāo)準(zhǔn)需大幅降低并且素材 硬度需要提高。 Shelby項(xiàng)目上的卷邊、鋸齒不良現(xiàn)象 避免窄邊設(shè)計(jì)，否則產(chǎn)品耐磨性 能會(huì)降低 0.8mm d u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求 產(chǎn)品輪廓的設(shè)計(jì)要求 邊框?qū)挾却?于 4mm 高光產(chǎn)品上避免復(fù)雜的紋理設(shè)計(jì)，如深的凹槽及密集的孔。 若此設(shè)計(jì)必須出現(xiàn)在此產(chǎn)品上，此產(chǎn)品的性能接受標(biāo)準(zhǔn)需要降低。 復(fù)雜的紋理設(shè)計(jì)容易產(chǎn)生橘皮和肥邊不良 多孔設(shè)計(jì)容易產(chǎn)生明顯的肥 邊不良 u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求 產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求 盡量避免如下圖設(shè)計(jì). 需要鍍膜的面超過180度時(shí)有少鍍

21、的風(fēng)險(xiǎn)存在。 如Spyder C-cover, 少鍍現(xiàn)象. 少鍍區(qū)域 PVD和噴涂區(qū)域 245 u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求 產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求 避免在外觀要求高的面出現(xiàn)注塑不良，如熔接線、印痕等。 PVD后熔接線不良 PVD后印痕不良 u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求 產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求 治具設(shè)計(jì)要求 USW 線不允許出現(xiàn)在噴涂區(qū)域 距離噴涂區(qū)域, d = 0.3mm 治具 噴涂區(qū)域 d d d u產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求產(chǎn)品設(shè)計(jì)要求 產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求 推薦使用PC, PC+ABS 等材料 (如 Cycloy C1200HF和Lexan EXL 1414)； 能達(dá)到比較好的外觀效果 能通過相關(guān)性能測(cè)試 不推薦

22、使用PA+GF, PC+GF 等材料； 不能通過相關(guān)性能測(cè)試，若依然需要使用此類材料 的話則需要降低產(chǎn)品性能接受標(biāo)準(zhǔn) 震動(dòng)耐磨性能不如PC或PC+ABS素材產(chǎn)品 若素材中確實(shí)需要使用玻纖，則推薦使用 Grivory GV-5H or Grivory GVX-5H PA材料作為素材使用的工藝正在開發(fā)中。 u材料材料 素材材料 推薦使用 In-Sn合金. 相關(guān)測(cè)試顯示，使用In-Sn合金較Sn表現(xiàn)更好. Surface Finish Paint Supplier BasecoatMetal LayerMiddlecoatTopcoat Polishe d CashewCashew VM 8000S

23、n or In-Sn alloy (thermal evaporation vacuum metalizing) Cashew VM 9000 +KM2 Cashew VM7302 or VM1300 FujikuraFujikura VB2979U-7 Sn or In-Sn alloy (thermal evaporation vacuum metalizing) Fujikura VM5484UL-N Fujikura HO2777U or Fujikura HH8883U-N2 GOVEGOVE 4380B or GOVE 4375 Sn or In-Sn alloy (thermal

24、 evaporation vacuum metalizing) GOVE 4500 or GOVE 4505 GOVE 4880 or GOVE 4885 MattAkzoAkzo 970VP-CJS- 1140 Sn or In-Sn alloy (thermal evaporation vacuum metalizing) Akzo 820VM- CJS-1029 Akzo 620C05001(TAA)/ 620C05100(TAA) SatinAkzoAkzo 970VP-CJS- 1140 Sn or In-Sn alloy (thermal evaporation vacuum me

25、talizing) Akzo 820VM- CJS-1029 Akzo 822-CTJ-1027 u材料材料 鍍材 膜厚對(duì)產(chǎn)品性能影響較大。 下表中為不同油漆的推薦膜厚。 推薦膜厚范圍盡量大。 Surface Finish Paint Supplier Film thickness (m) for reference BasecoatMetal LayerMiddlecoatTopcoat PolishedCashew12-250.55-1212-20 Fujikura6-250.56-1014-25 GOVE12-200.56-1012-18 MattAkzo10-200.510-1820-

26、30 SatinAkzo10-200.510-1840-60 u材料材料 膜厚設(shè)計(jì) 高光產(chǎn)品上使用此素材的PVD工藝還在開發(fā)中，目 前不推薦使用。使用primer能有效縮短制程以及降 低橘皮效果，但會(huì)影響附著力。 PA+50% GF 如果確實(shí)需要此種素材： 使用 primer Cashew PAG 100 gray. 采用曲面設(shè)計(jì) 不推薦此素材上采用高光設(shè)計(jì)，否則橘皮程度 會(huì)很嚴(yán)重 PA+30% GF 橘皮比 PA+50% GF 輕微，但任然存在 PA+50%GF. 橘皮嚴(yán)重 PA+50%GF. 使用primer后 u材料材料 PA素材上的PVD工藝 NCVM finish Colored i

27、nk UV ink NCVM finish surfaceInk supplierColored ink printing layer UV ink printing layer Polished (E.g. Topcoat Cashew UV 7302) Tian He PHC- HB80704 UV-H00019 Satin ( E.g. Topcoat Akzo 822-CTJ-1027) Tian He TPK-070TPAV-910 Logo on high gloss surface (Cashew UV 7302) After wearing test 0.5h Logo on

28、satin surface (Akzo 822-CTJ-1027) After wearing test 0.5h u材料材料 Logo印刷工藝 若產(chǎn)品需要透光效果，通產(chǎn)會(huì)采用設(shè)計(jì)一個(gè)視窗. 透光率影響因素 金屬層的膜厚是影響透光效果的最主要因素。 中涂也是影響透光率的一個(gè)因素，但為了保證顏色的一致性，以中涂來調(diào)整透光率的范圍變 得相對(duì)窄小。 底涂和面涂是透明的，對(duì)產(chǎn)品透光率影響不大。 推薦使用PC材料素材，PC材料本身透光率為88-90%. 透光率范圍設(shè)計(jì) 推薦使用低透光率設(shè)計(jì)（越低良率越高），因?yàn)榇藭r(shí)透光率差異較小。 ProjectTransparency rangeYield rate

29、Shelby A-cover1.5-2.5%;4-8%100% Spyder A-cover9-14%90% Flamingo60-70%90% u透光效果透光效果 概述 兩種視窗效果 隱藏效果 (如 Shelby A-cover 4-8%, Spyder A-cover assembly 5-7%) 只有有背光的時(shí)候視窗才能看見。 單向透視 此效果透光率較隱藏效果高。 產(chǎn)生視窗的四種方法 素材背面噴涂（視窗位置保護(hù)） 使用雙射注塑工藝 素材背面使用紋理設(shè)計(jì)（視窗位置外） 鐳雕 背光開啟前 背光開啟后 u透光效果透光效果 概述 隱藏效果 透明素材背面噴涂一層不透光的油漆（視窗位置外） 推薦使用

30、此方法制作視窗。 噴涂時(shí)視窗位置需要粘貼保護(hù)膜以保證噴涂后視窗位置依然透光，但此工序會(huì)降低產(chǎn) 品良率。 避免不透光油漆噴涂區(qū)域有螺絲等其它復(fù)雜的3D設(shè)計(jì)。 Shelby 的視窗效果 不透光漆 Substrate Basecoat Topcoat Metal layer Middle coat Display area 半透光 透光 不透 光 u透光效果透光效果 反面噴涂 素材上使用雙射注塑 同樣推薦使用此方法制作視窗 此工藝對(duì)PVD要求低，但對(duì)注塑要求高 風(fēng)險(xiǎn)：邊緣透光 Semi- transparent Transparent Opaque Substrate Basecoat Topcoa

31、t Metal layer Middle coat Display area 2- shot moulding substrate Example from Flamingo program Red part are semi-transparent. 素材背面紋理設(shè)計(jì) 素材不同的紋理會(huì)反應(yīng)處不同的透光率 Substrate Basecoat Topcoat Metal layer Middle coat Different texture different transparent Display area Semi- transparent Transparent Opaque Different substrate texture u透光效果透光效果 雙射注塑紋理設(shè)計(jì) 鐳雕工藝 當(dāng)透光區(qū)域比較小時(shí)推薦使用此種工藝，如按鍵； 依據(jù)項(xiàng)目要求，在不同層雷雕； Semi- transparent Transparent Opaque Substrate Basecoat Topcoat Metal layer Middle coat Display area Laser etching Substrate Basecoat Topcoat Metal layer Middle coat Display area Laser etching Su