磁控濺射法制備耐沖蝕鈦合金復(fù)合涂層研究進(jìn)展

1、磁控濺射法制備耐沖蝕鈦合金復(fù)合涂層研究進(jìn)展田貴雙i戈超2張俊秋彳（武漢理工人學(xué)機(jī)屯工程學(xué)院湖北武漢430070）（吉林大學(xué)工程仿生教冇部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，吉林長(zhǎng)春130025）摘要：木文介紹了磁控濺射的基本原理，以及幾種典型的磁控濺射鍍膜技術(shù)（反應(yīng)濺射、非 平衡磁控濺射、等離子體加強(qiáng)磁控濺射技術(shù)）；并介紹了利用磁控濺射技術(shù)制備鈦合金耐沖蝕涂 層的新進(jìn)展。關(guān)鍵詞：磁控濺射；耐沖蝕；鈦合金中圖分類(lèi)號(hào)：recent studies on erosion resistance titanium alloycomposite coatings deposited by magnetron sputtering

2、methodtian gui shuang1 ge chao2 zhang jun qiu2（school of mechanical and electronic engineering. wuhan university of technology, wuhan.430070, china ）（key.laboratory for bionics engineering of ministry of education, jilin university chang cltun 130025, china）abstract： in this paper, the basic concept

3、 magnetron sputtering method is reviewed and several typical magnetron sputtering technology are presented, such as reactive magnetron sputtering, unbalanced magnetron sputtering and plasma enhanced magnetron sputtering of erosion wear were described. recent progresses in research on erosion resista

4、nce titanium alloy composite coatings deposited by magnetron sputtering method, was summarizedkey words： magnetron sputter; erosion resistance; titanium alloy基金項(xiàng)目：國(guó)家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目（ 50635030）：國(guó)家973計(jì)劃前期研究專項(xiàng) （2007cb616913）資助;國(guó)家留學(xué)基金委留學(xué)回國(guó)人員科研啟動(dòng)基金（3c108k331463）；吉 林大學(xué)研究生創(chuàng)新基金資助項(xiàng)目（20091015）作者簡(jiǎn)介：出貴雙（1988），女，本科牛.研

5、究方向：功能薄膜材料研究戈超（ 1985），男，碩士研究生.研究方向：仿生功能材料、功能薄膜材料研究 emai1: gechaol80402tom com張俊秋（1979），男，博士研究生.研究方向：工程仿生、生物表面仿生工程、 功能薄膜材料研究.email： zhangjunqiu2005163. com0前言磁控濺射技術(shù)在薄膜制備領(lǐng)域的應(yīng)用十分廣泛，可以制備工業(yè)上所需要的各利密膜，如超硬 薄膜、耐腐蝕耐摩擦薄膜、超導(dǎo)薄膜、磁性薄膜、光學(xué)薄膜，以及各種具有特殊電學(xué)性能的薄膜 等。沖蝕磨損廣泛存在于機(jī)械、冶金、能源、化工、航天等許多工業(yè)部門(mén)，成為引起材料破壞或 設(shè)備失效的一個(gè)重耍原因。鈦合金由

6、于比強(qiáng)度高，韌性和耐蝕性好而廣泛應(yīng)用于航空航天工業(yè)中。 采用pvd技術(shù)，如磁控濺射技術(shù)，是現(xiàn)在制取高性能薄膜應(yīng)用最廣泛的方法。本文介紹了利用 磁控濺射技術(shù)制備鈦合金耐沖蝕涂層的新進(jìn)展。1磁控濺射簡(jiǎn)介磁控濺射技術(shù)誕生于20世紀(jì)70年代初期，并隨后在電學(xué)膜、光學(xué)膜和能源、機(jī)械工業(yè)等產(chǎn) 業(yè)化領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。磁控濺射是由二極濺射基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)，在靶材表而建立與電場(chǎng)止交的 磁場(chǎng)，形成11:交電磁場(chǎng)。解決了二極濺射沉積速率低，等離子體離化率低等問(wèn)題。因此，磁控濺 射又稱為高速、低溫的濺射。磁控濺射技術(shù)已成為目前鍍膜工業(yè)主要方法之一，與其它鍍膜技術(shù) 相比具有如下特點(diǎn)山2】：可制備成靶的材料廣，兒乎所有金屬

7、，合金和陶瓷材料都可以制成靶材； 在適當(dāng)條件下多元靶材共濺射方式，可沉積配比精確恒泄的合金；在濺射的放電氣氛屮加入氧、 氮或其它活性氣體，可沉積形成靶材物質(zhì)與氣體分子的化合物薄膜；通過(guò)精確地控制濺射鍍膜過(guò) 程，容易獲得均勻的高精度的膜厚；通過(guò)離子濺射靶材料物質(zhì)由固態(tài)直接轉(zhuǎn)變?yōu)榈入x子態(tài)，濺射 靶的安裝不受限制，適合于大容積鍍膜室多靶布置設(shè)計(jì)；濺射鍍膜速度快，膜層致密，附著性好 等特點(diǎn)，很適合于大批量，高效率工業(yè)牛產(chǎn)。近年來(lái)磁控濺射技術(shù)發(fā)展很快，具有代表性的方法有射頻濺射、反應(yīng)磁控濺射、非平衡磁控 濺射、等離子體加強(qiáng)磁控濺射，脈沖磁控濺射、高速濺射等。(1) 平衡磁控濺射平衡磁控濺射即傳統(tǒng)的磁控濺

8、射，是在陰極靶材背后放置芯部與外環(huán)磁場(chǎng)強(qiáng)度相等或相近的 永磁體或電磁線圈，在靶材表mi形成與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng)。沉積室充入一處量的工作氣體，通 常為ar,在高壓作用下ar原了電離成為ar+離子和電子，產(chǎn)牛輝光放電，ar+離子經(jīng)電場(chǎng)加 速轟擊靶材，濺射岀靶材原子、離子和二次電子等。電子在相互垂嵐的電磁場(chǎng)的作用下，以擺線 方式運(yùn)動(dòng)，被束縛在靶材表血；延長(zhǎng)了其在等離子體中的運(yùn)動(dòng)軌跡，增加其參與氣體分子碰撞和 電離的過(guò)程，電離出更多的離子，提高了氣體的離化率，在較低的氣體壓力下也可維持放電，因 而磁控濺射既降低濺射過(guò)程中的氣體圧力，也同時(shí)提高了濺射的效率和沉積速率。體現(xiàn)了高速、 低溫的特點(diǎn)習(xí)。其原理圖

9、見(jiàn)圖lo圖1磁控濺射原理圖fig.l schematic of magnetron sputtering（2）反應(yīng)濺射反應(yīng)濺射是在濺射的惰性氣體氣氛屮，通入一定比例的反應(yīng)氣體，通常用作反應(yīng)氣體的主要 是氧氣和氮?dú)?。在存在反?yīng)氣體的情況下，濺射靶材時(shí)，靶材料會(huì)與反應(yīng)氣體反應(yīng)形成化合物, 最后沉積在基片上。在惰性氣體濺射化合物靶材時(shí)，由于化學(xué)不穩(wěn)定性往往導(dǎo)致薄膜較靶材少一 個(gè)或更多組分，此時(shí)如果加上反應(yīng)氣體町以補(bǔ)償所缺少的組分，這種濺射也可視為反應(yīng)濺射。反 應(yīng)濺射技術(shù)町通過(guò)控制濺射參數(shù)，能夠調(diào)節(jié)薄膜材料的組分，沉積出不同組分包括化學(xué)配比或非化 學(xué)配比的材料薄膜。（3）菲平衡磁控濺射非平衡磁控濺射技

10、術(shù)是在傳統(tǒng)磁控濺射技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的，主要原理是改變陰極磁場(chǎng), 從而可將等離子體擴(kuò)展到遠(yuǎn)離靶處，使基片浸沒(méi)其中，使等離子體直接干涉基片表面的成膜過(guò)程, 從而改善薄膜的件能，莫原理圖見(jiàn)圖2o磁控濺射靶的非平衡磁場(chǎng)不僅有通過(guò)改變內(nèi)外磁體的大 小和強(qiáng)度的永磁體獲得，也冇由兩組電磁線圈產(chǎn)牛，或采用電磁線圈與永磁體混合結(jié)構(gòu)，還冇在 陰極和基體z間增加附加的螺線管，用來(lái)改變陰極和基體z間的磁場(chǎng)，并以它來(lái)控制沉積過(guò)程屮 離子和原子的比例也】。icd 2-10 mxvcm2圖2非平衡磁控濺射原理圖(a)非平衡磁控濺射(b)非平衡閉合場(chǎng)磁控濺射原理圖fig.2 schematic of unbalanced

11、magnetron sputtering(a) unbalanced magnetron sputtering(b)closed field unbalanced magnetron sputtering（4）等離子體加強(qiáng)磁控濺射（pems）技術(shù)等離子體加強(qiáng)磁控濺射（pems）技術(shù)是在傳統(tǒng)磁控濺射方法基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)的，其原理圖見(jiàn) 圖3。同樣在真空系統(tǒng)屮，在磁控管產(chǎn)牛等離子體的基礎(chǔ)上，加入一根熱的絲極和放電電源來(lái)主 成等離子體。pems技術(shù)由于增加了巫離子轟擊，所以制備出的膜層呈現(xiàn)出更致密的組織結(jié)構(gòu)。圖3等離子加強(qiáng)磁控濺射(pems)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖fig.3 schematic of plasma

12、enhanced magnetron sputtering(pems)磁控濺射由丁淇顯苦的優(yōu)點(diǎn)應(yīng)用日趨廣泛，成為工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中最主耍的技術(shù)之一，相應(yīng)的 濺射技術(shù)與也取得了進(jìn)一步的發(fā)展。非平衡磁控濺射改善了沉積室內(nèi)等離子體的分布，提高了膜 層質(zhì)量；屮頻和脈沖磁控濺射可有效避免反應(yīng)濺射時(shí)的遲滯現(xiàn)象，消除靶中毒和打弧問(wèn)題，提高 制備化合物薄膜的穩(wěn)圧件和沉積速率；改進(jìn)的磁控濺射靶的設(shè)計(jì)可獲得較高的靶材利用率；高速 濺對(duì)和自濺射為濺射鍍膜技術(shù)開(kāi)辟了新的應(yīng)用領(lǐng)域。2沖蝕磨損簡(jiǎn)介沖蝕磨損是指液體或固體以松散的小顆粒按一定的速度或角度對(duì)材料表面進(jìn)行沖擊所造成 的一種材料損耗現(xiàn)象或過(guò)程。沖蝕磨損廣泛存在于機(jī)械、

13、冶金、能源、化工、航天等許多工業(yè)部 門(mén)，成為引起材料破壞或設(shè)備失效的一個(gè)重要原因?？諝庵械膲m埃和砂?？墒拱偕龣C(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)壽命 降低90%；飛機(jī)在低空飛行、起飛和降落過(guò)程中，空氣中的塵埃和沙粒等在高速氣流的作用下 將對(duì)壓氣機(jī)葉片造成嚴(yán)重的沖蝕，從結(jié)構(gòu)及航空動(dòng)力學(xué)上破壞發(fā)動(dòng)機(jī)性能，嚴(yán)重的甚至導(dǎo)致發(fā)動(dòng) 機(jī)失效；沙塵在風(fēng)力的作用下，會(huì)在玄升機(jī)的鋁制蒙皮、旋翼和有機(jī)玻璃上打出麻點(diǎn)、凹坑和 劃紋，進(jìn)而引發(fā)一系列嚴(yán)重的后果；石油化工廠煙氣發(fā)電設(shè)備中，煙氣攜帶的破碎催化劑粉粒對(duì) 回收過(guò)熱氣流能量的渦輪葉片會(huì)造成沖蝕；壓縮機(jī)葉片的導(dǎo)緣只要有極少量材料沖蝕出現(xiàn)， 0.05mm的縫隙便能引進(jìn)局部失速。材料的沖蝕率是一個(gè)

14、受工作環(huán)境影響的系統(tǒng)參量，它不僅受入射粒子的速度、粒度、皺度及 形狀的影響，而月.材料的物理、力學(xué)性能也對(duì)它起作用。對(duì)沖蝕磨損町從三個(gè)方而加以控制，即: 改進(jìn)設(shè)計(jì)，使其有利于減少?zèng)_蝕；選沖蝕磨損的材料；通過(guò)表面強(qiáng)化工藝提高抗沖蝕性能。表面強(qiáng)化是在通用材料的基礎(chǔ)上，采用適當(dāng)表面技術(shù)使材料表面達(dá)到耐沖蝕磨損的冃的。常 用的表面技術(shù)有表面熱處理,如滲碳、滲氮、滲硼等；表面冶金及粘涂技術(shù),如堆焊、熱噴涂、 激光熔覆、表面粘涂等；表面薄膜層技術(shù)，如氣相沉積等。由于金屬陶瓷和陶瓷材料加工較困難, 成本高，采用表面技術(shù)在棊材表面涂覆一層一圧片度的金屬陶瓷或陶瓷材料，是一種行之有效的 沖蝕磨損防護(hù)措施罔。3磁

15、控濺射法制備耐沖蝕鈦合金復(fù)合涂層相關(guān)研究進(jìn)展鈦合金由于比強(qiáng)度高，密度小、熱強(qiáng)度高、機(jī)械性能好，韌性和耐蝕性好而廣泛應(yīng)用于航空 航天工業(yè)中。高推比航空發(fā)動(dòng)機(jī)壓氣機(jī)就是在其葉片表面涂覆一定的硬質(zhì)防護(hù)涂層，可以提髙其 耐磨抗沖蝕性能，延長(zhǎng)壓氣機(jī)的使用壽命，提高其工作可靠性。tin、tini、tialn、crtialn等涂層是研究比較多，應(yīng)用比較廣泛的鈦合金涂層。它們具有 高的換度、韌性、耐磨性、抗高溫氧化性，與基體之間結(jié)合力較好等優(yōu)良特性，能滿足高沖蝕工 況條件下的要求閔叭目前，鈦合金涂層薄膜的制備方法主要有磁控濺射法(ms)、空心陰極離子鍍(hcd)、多呱離 子鍍、射頻濺射和離子束輔助沉積法(ib

16、ad)等，它們均能得到實(shí)用化的鈦合金硬質(zhì)薄膜。其中 以磁控濺射法(ms)和空心陰極離子鍍(hcd)的應(yīng)用最為廣泛，且成本更低。下面介紹近年來(lái)國(guó)內(nèi)外學(xué)者利用磁控濺射法制備耐沖蝕鈦合金復(fù)合涂層的一些研究進(jìn)展：2004年，yang等采用反應(yīng)磁控濺射方法在鈦合金ti-6a1-4v基底上沉積了 tin涂層和不同 a1含量的tialn涂層，采用氣流噴砂試驗(yàn)檢測(cè)涂層耐沖蝕性能。試驗(yàn)結(jié)果表明：tialn涂層的 抗沖蝕性能取決于涂層化學(xué)組成及沉積條件。當(dāng)tialn涂層中a1原子分?jǐn)?shù)為35%時(shí)，其抗沖蝕 性能比tin涂層提高7倍，yang等認(rèn)為這是由涂層高硬度和髙韌性的完美結(jié)合所致。討論了襯 底偏壓(-40,-5

17、0, -75v)對(duì)a1含量為35%的t1a1n涂層的沖蝕性能的影響，結(jié)果表明襯底 偏壓為一50 v時(shí),耐沖蝕性能最好之后，2008年,采用同樣的原理,在ti-6al-4v基底 上沉積了納米crtialn涂層，比較它與tin涂層的咐沖蝕性能，結(jié)果表明，crtialn涂層體現(xiàn) 出優(yōu)于tin涂層的耐沖蝕性能，呈現(xiàn)半塑性材料的特性，最大沖蝕率發(fā)生在45°沖擊角處(。2004年，dobrzanski等采用反應(yīng)磁控濺射技術(shù)在銅合金(cuzn40pb2)基體上制備了 tin、 tial、crn等涂層。先在基體表面沉積一層cr、ti、和tial層，用來(lái)增強(qiáng)涂層與基體的結(jié)合力； 然后在同時(shí)通入氮?dú)夂偷?/p>

18、氣的條件下進(jìn)行反應(yīng)濺射。每種涂層都制備1層、15層、150層三種厚 度的涂層。進(jìn)行沖蝕磨損試驗(yàn)檢測(cè)涂層的沖蝕磨損性能，采用彩色金相法來(lái)評(píng)定各種涂層的沖蝕 率。實(shí)驗(yàn)表明：?jiǎn)螌幽ず竦耐繉芋w現(xiàn)出最好的耐沖蝕性能，膜層越多，耐沖蝕行越差(。2005年，shum等采用非平衡磁控濺射技術(shù)在450 °c下沉積tialn涂層。涂層沉積前先用 金屬蒸氣真空弧源離子注入設(shè)備進(jìn)行ti離子注入，以在基體表面生成ti復(fù)合梯度層作為緩沖層, 然后進(jìn)行涂層沉積，涂層厚度40pim試驗(yàn)結(jié)果表明，通過(guò)引入梯度復(fù)合層，提高了涂層與皐體 的結(jié)合力，碩度可達(dá)32 gpa,改善了涂層的抗沖蝕性能。其原因在于復(fù)合梯度層減少了界

19、而應(yīng) 力梯度和裂紋的產(chǎn)生，硬度提高抑制了載荷過(guò)程中的塑性變形。此外，注入能越高，性能改善效 果越明顯。2006年，ni等利用磁控濺射技術(shù)在tini合金涂層表面得到均勻的便質(zhì)crn層，而將偽彈 性tini合金涂層作為換質(zhì)crn層和6061-t6 a1合金的彈性中間過(guò)渡層。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，tini 合金涂層可有效提高crn層與基體6061-t6 a1合金之間的結(jié)合力以及耗散沖蝕過(guò)程屮粒子的作 用能量，得到?jīng)_蝕磨損性能良好的復(fù)合涂層(16j7o2006年，魏榮華采用等離子增強(qiáng)磁控濺射技術(shù)(pems)在裸露的ti-6a1-4v, 304號(hào)不銹鋼 基體i二制備厚氮化物層(tin, crn, zrn)和納米

20、復(fù)合碳氮化物鍍層(zrsicn和tisicn)。該技術(shù) 結(jié)合了傳統(tǒng)磁控濺射和專門(mén)產(chǎn)生的等離子體，以獲得更高的電流密度。使得單層的tin, crn, 及zrn氮化物層厚度可達(dá)8() gm, tisicn, zrsicn碳氮化物層厚度也可達(dá)30pm。試樣分為兩 組進(jìn)行了沖蝕試驗(yàn)，結(jié)果表明，所有的氮化物層都能保護(hù)基體并顯苦降低沖蝕量。對(duì)于氮化物層, 抗沖蝕性能好壞由高到低分別為tin, zrn和crn；對(duì)于納米復(fù)合鍍層,tisicn優(yōu)于優(yōu)于zrsicn； tisicn鍍層表現(xiàn)出了垠優(yōu)異的抗沖蝕性，是裸露不銹鋼及ti-6a17v基體的25倍，是其它氮 化物層的510倍。此項(xiàng)技術(shù)不僅適用于保護(hù)先進(jìn)的飛機(jī)

21、系統(tǒng)中渦輪壓縮葉片、輪葉、轉(zhuǎn)子葉片 等，同樣適用于帝載柴汕機(jī)的液壓泵輪及活塞環(huán)叭2008年，在z前的研究基礎(chǔ)上，系統(tǒng)研究 了其制備的ti-si-c-n納米復(fù)合膜層工藝過(guò)程。膜層破度高達(dá)40 gpa，同時(shí)研究了 si含量的影 響。膜層表現(xiàn)出的耐沖蝕性比基體材料高100倍以上，其韌性對(duì)耐沖蝕性影響很人。此類(lèi)膜層有 望應(yīng)用于氣輪壓縮機(jī)及固定式渦輪的嚴(yán)巫固體顆粒沖蝕(spe)和液滴浸蝕(lde)的防護(hù)【切。4總結(jié)利用磁控濺射技術(shù)能夠制備出各種崗耐沖蝕性能的鈦合金復(fù)合涂層，但是為了針對(duì)各種工況 下不同的沖蝕環(huán)境，同時(shí)為了提高涂層壽命，得到更優(yōu)化的綜合性能，必須進(jìn)一步研究多元合金 涂層的配比、濺射最佳工藝

22、參數(shù)等，以期得到最佳性能并能應(yīng)用于實(shí)踐。參考文獻(xiàn)1 余東海，王成勇，成曉玲，等.磁控濺射鍍膜技術(shù)的發(fā)展j.真空.2009, 46 (2) : 19-252 王目孔，馬瑞新,林煒，等.tialn硬質(zhì)薄膜/涂層材料的研究進(jìn)展j硬質(zhì)合金,2008, 25 (3):186-1913 徐萬(wàn)勁.磁控濺射技術(shù)進(jìn)展及應(yīng)用(上)j.現(xiàn)代儀器,2005, (5): 1-5f 4 1 代紅敏.銀凹版農(nóng)面磁控濺射tin膜層性能研究.碩士學(xué)位論文.西安：西安理工大學(xué),20075 張以忱,巴德純，顏云輝,等.中頻非平衡磁控濺射制備ti-n-c膜j.東北大學(xué)學(xué)報(bào),2008, 29(7): 1049-10526 魏榮華.適用

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