超凈車間工藝工程師作業(yè)指導(dǎo)書

1、超凈車間工藝作業(yè)指導(dǎo)書一：簡介1 目的為了規(guī)范超凈車間工藝工程師的操作，提高工作效率，特制定本標(biāo)準(zhǔn)。2 范圍本規(guī)范規(guī)定了超凈車間操作過程中的注意事項(xiàng)，本規(guī)范適用于超凈車間全體工藝工程師。3 定義無4 職責(zé)超凈全體工藝工程師對此項(xiàng)工作負(fù)責(zé)。二： 基本作業(yè)流程2.1值班工程師職責(zé)2.1.1 工作內(nèi)容a) 巡視超凈車間各工藝情況及人員操作狀況，當(dāng)發(fā)現(xiàn)工藝參數(shù)發(fā)生變化時(shí)，調(diào)查其原因然后進(jìn)行相應(yīng)處理,對車間內(nèi)違規(guī)操作進(jìn)行指正并記錄；b) 保證超凈間各個(gè)工藝在規(guī)定的工藝參數(shù)下進(jìn)行，定期對設(shè)備的各工藝參數(shù)進(jìn)行復(fù)查 ，完成SPC相關(guān)工作；c) 對超凈車間工藝異常（方阻異常，燒焦，擴(kuò)散前清洗不凈，絨面反片，滴源

2、等）進(jìn)行記錄并查找原因進(jìn)行處理，完成上班未完成的異常處理；d) 完成本車間內(nèi)實(shí)驗(yàn), 為生產(chǎn)人員設(shè)定好各種工藝參數(shù),并配合其他車間工藝工程師完成各項(xiàng)實(shí)驗(yàn)和質(zhì)量控制；e) 對本車間內(nèi)擴(kuò)散前清洗不凈及制絨片帶有粉沫等與制絨相關(guān)異常情況反饋給制絨工藝工程師；接受刻蝕工藝工程師反饋的工藝異常并幫助查找原因；f) 對車間內(nèi)異常進(jìn)行數(shù)據(jù)追蹤；g) 詳細(xì)填寫值班交接表，爐管點(diǎn)檢表及工藝更改記錄單，并完成日報(bào)相關(guān)內(nèi)容，重大異常需及時(shí)反饋并寫出異常報(bào)告。2.1.2 異常報(bào)告機(jī)制A. 超凈電阻異常反饋流程a) 當(dāng)單組電阻出現(xiàn)異常超出SPEC范圍或方阻超出CL線時(shí)，由質(zhì)檢通知工藝工程師，及時(shí)查找原因。b) 當(dāng)班期間同

3、一原因?qū)е碌碾娮璁惓Ｆ笥诘扔?組時(shí)，需通知工藝主管工程師；同一原因?qū)е碌碾娮璁惓Ｆ笥诘扔?組時(shí)，由主管工程師上報(bào)部門經(jīng)理；出現(xiàn)電阻異常后，單管工藝調(diào)試時(shí)間大于等于4小時(shí)，仍效果不明顯，無法按時(shí)交付生產(chǎn)時(shí)，通知工藝主管工程師；單管工藝調(diào)試時(shí)間大于等于8小時(shí)，且影響到生產(chǎn)產(chǎn)量時(shí)，由主管工程師上報(bào)部門經(jīng)理。注：當(dāng)班期間同一原因?qū)е碌碾娮璁惓Ｆ笥诘扔?組時(shí)，需在當(dāng)班寫出異常報(bào)告；或者同一原因?qū)е碌碾娮璁惓Ｆ笥诘扔?組時(shí)，需由異常處理人寫出異常報(bào)告；B. 其他異常反饋流程a) 當(dāng)車間出現(xiàn)突發(fā)停電、停冷卻水、停排風(fēng)等異常時(shí)，工藝工程師需按相應(yīng)流程及時(shí)處理，聯(lián)系動力查找原因，并通知主管工程師。b)

4、清洗機(jī)純水加不進(jìn)去或自動爐前清洗機(jī)無法自動加酸，由工藝工程師聯(lián)系設(shè)備或動力查找原因，異常持續(xù)時(shí)間大于或等于1小時(shí)，需通知主管工程師。c) 車間內(nèi)發(fā)生其他違反工藝作業(yè)規(guī)范或影響車間正常生產(chǎn)的情況，視情節(jié)嚴(yán)重程度，通知主管工程師，情節(jié)較為嚴(yán)重情況需由主管工程師上報(bào)部門經(jīng)理。2.1.3 交接內(nèi)容A. 務(wù)必詳細(xì)填寫交接記錄表、點(diǎn)檢表，按照5W1H(what,who,where,when,why;how)原則，未完成的工作，日報(bào)完成情況，請交接清楚。, B. 每班交接內(nèi)容必須包括的內(nèi)容有：a) 當(dāng)班產(chǎn)生的異常片的統(tǒng)計(jì)，及具體情況，原因及解決狀況等；b) 當(dāng)班機(jī)臺的異常狀況詳細(xì)記錄（即便未造成任何產(chǎn)品損失

5、）；c) 主管分配的工作或上一班交接下來的工作的完成情況；三 異常處理（注：超凈車間的處理片只可按照給定流程處理一次）3.1測量要求與異常處理A 四探針復(fù)機(jī)流程a) 質(zhì)量部用標(biāo)準(zhǔn)模塊校準(zhǔn)；用一級標(biāo)片校準(zhǔn)合格后，再用二級標(biāo)片進(jìn)行校準(zhǔn)，二級標(biāo)片的測量值與實(shí)際值的偏差值需在1ohm以內(nèi)。b) 同一測量標(biāo)準(zhǔn)下，兩臺四探針的測量偏差值在0.5ohm以內(nèi)。c) 測量機(jī)臺的GRR，達(dá)標(biāo)后方可使用。B. 四探針異常處理流程a) 在有計(jì)劃的機(jī)臺維護(hù)時(shí)（更換探頭，測量模塊等），維護(hù)前需分別測量二級標(biāo)片和兩組正常片，維護(hù)結(jié)束后，用標(biāo)準(zhǔn)模塊校準(zhǔn)，再次測量二級標(biāo)片和兩組正常片；維護(hù)前后測量偏差標(biāo)片在1ohm以內(nèi)，正常片

6、均值在0.5ohm以內(nèi)時(shí)，可以正常使用。b) 在無計(jì)劃的機(jī)臺維護(hù)時(shí)（機(jī)臺突然異常），維護(hù)后需用標(biāo)準(zhǔn)模塊校準(zhǔn)，并測量二級標(biāo)片和正常片，并在同一測量標(biāo)準(zhǔn)下進(jìn)行橫向?qū)Ρ?，兩臺四探針的測量偏差應(yīng)與之前測量對比結(jié)果一致，偏差值在0.5ohm以內(nèi)。c) 在四探針突然出現(xiàn)測量值整體偏高或偏低時(shí)，應(yīng)立即停用四探針，并通知質(zhì)量工程師進(jìn)行校準(zhǔn)，校準(zhǔn)后測量二級標(biāo)片和正常片，并在同一測量標(biāo)準(zhǔn)下進(jìn)行橫向?qū)Ρ龋瑑膳_四探針的測量偏差應(yīng)與之前測量對比結(jié)果一致，偏差值在0.5ohm以內(nèi)。停機(jī)1小時(shí)以上時(shí)需上報(bào)主管。3.3 方阻控制與擴(kuò)散后硅片方阻異常分析處理A.規(guī)格定義：多晶V02工藝50單點(diǎn)Rs7052單點(diǎn)Rs6855單片R

7、s6557單片Rs6357單組Rs6358.5單組Rs61.5多晶SE工藝35單組Rs5537單點(diǎn)Rs5340單片Rs5041單片Rs4942單組Rs4843.5單組Rs46.5B. 異常定義：a) OOS：一點(diǎn)或多于一點(diǎn)阻值超出SPEC范圍；b) OOC：單組、單片或單點(diǎn)超出CL范圍,但單點(diǎn)在SPEC范圍內(nèi)；C方阻調(diào)節(jié)措施a) 方阻為超凈車間最主要的Inline參數(shù)，需每位工程師進(jìn)行有效調(diào)節(jié)，以控制方阻的收斂性、波動性與穩(wěn)定性；a) 片間均勻性調(diào)節(jié)措施類型規(guī)格目標(biāo)質(zhì)檢SPEC工藝控制線控制措施調(diào)整措施多晶單組6060±360±1.51.單組均值高于或低于目標(biāo)值1.5ohm

8、時(shí)，需做出相應(yīng)調(diào)節(jié)； 2.連續(xù)三組均值均高于或低于目標(biāo)值1ohm時(shí)，需做出相應(yīng)調(diào)節(jié)； 3.連續(xù)三組STD2.5時(shí)，需做出相應(yīng)調(diào)整；1.調(diào)小氮流量； 2.調(diào)節(jié)溫度； 3.調(diào)整小氮進(jìn)氣管位置；單片6060±560±31.連續(xù)三組相同且連續(xù)片間方阻差值大于3ohm時(shí)，需對溫度做出相應(yīng)調(diào)節(jié)； 2.連續(xù)三組同一片號U%6時(shí)，需測25點(diǎn)，對小氮進(jìn)氣管做出相應(yīng)調(diào)節(jié)；單點(diǎn)6060±1060±8連續(xù)三組同一片號單點(diǎn)方阻最大值與最小值差值超過16時(shí)，需做出相應(yīng)調(diào)節(jié)b) 片內(nèi)均勻性調(diào)節(jié)措施D方阻異常調(diào)節(jié)步驟1. 硅片擴(kuò)散完后，質(zhì)檢需在30min內(nèi)測試方阻；2. 質(zhì)檢通知工藝值

9、班人員方阻超出控制線或者SPEC線時(shí)，工藝值班人員需及時(shí)對超標(biāo)爐管進(jìn)行異常原因查找并調(diào)節(jié)；3. 若方阻超出控制線，但在SPEC范圍內(nèi)時(shí)，需在下組進(jìn)爐硅片擴(kuò)散步（第四步）前對該爐管工藝進(jìn)行調(diào)節(jié)；若下組進(jìn)爐硅片未到擴(kuò)散步（第四步前），可直接進(jìn)行小氮流量或者溫度的調(diào)節(jié)；若下組進(jìn)爐硅片已到擴(kuò)散步，可進(jìn)行以下措施控制：a) 方阻偏高時(shí)，在總界面暫停工藝，暫停時(shí)間1min方阻對應(yīng)減小1ohm；方阻偏低時(shí)，第四步快結(jié)束時(shí)在總界面跳步工藝，跳步時(shí)間1min方阻對應(yīng)增加1ohm；b) 在手動界面（除小氮流量外）完全按照工藝第四步設(shè)置（包括各氣體流量，閥門開關(guān)，溫度，壓差等），小氮流量按上組方阻及上組流量進(jìn)行調(diào)節(jié)

10、后設(shè)置；c) 以上兩措施進(jìn)行時(shí)，必須找對對應(yīng)爐管，進(jìn)行相應(yīng)措施后，必須打到總界面進(jìn)行檢查，查看更改是否正確；若下組進(jìn)爐硅片已過擴(kuò)散步，需等下組硅片出爐后再進(jìn)行相關(guān)調(diào)節(jié)；4. 若方阻超出SPEC線，且前幾組方阻均正常：a) 下組硅片還未進(jìn)爐擴(kuò)散時(shí)，需停用該爐管，進(jìn)行異常原因查找并工藝調(diào)試；b) 若下組硅片已進(jìn)爐，但還未到擴(kuò)散步（第四步），需通知設(shè)備值班人員手動取出該組硅片，取出的硅片附試驗(yàn)單并通知生產(chǎn)重新清洗后再擴(kuò)散，同時(shí)停用該爐管，進(jìn)行異常原因查找并工藝調(diào)試；c) 若下組進(jìn)爐硅片已過擴(kuò)散步，需等該組硅片出爐后再進(jìn)行相關(guān)調(diào)節(jié)；E.方阻異常片處理流程：F原因分析思路E.原因分析：3.4 燒焦片分析

11、A.燒焦片處理流程：B.異常表現(xiàn)：C.原因分析燒焦片類型序號異常現(xiàn)象異常分析可直接下傳1正面無異常，背面有一點(diǎn)燒焦（不發(fā)藍(lán)，中心不發(fā)白），或邊緣有輕微發(fā)黃燒焦（ 5mm×10mm ）原料表面有雜質(zhì)（金屬離子等），高溫下引起的燒焦；臟片污染，舟齒污染，鑷子污染；2背面無異常，正面邊緣有輕微發(fā)黃燒焦（ 5mm×10mm ）若在舟齒處，為舟被輕微污染；或者裝舟鑷子被污染輕微燒焦片3正面無異常，背面邊緣2mm內(nèi)有發(fā)藍(lán)燒焦硅片未烘干或者清洗不凈；硅片在進(jìn)爐前沒有完全烘干，由于硅片兩片中間的部分不容易蒸發(fā)，所以在硅片中間就形成了水珠或水蒸汽，當(dāng)遇到五氧化二磷時(shí)就生成了偏磷酸，附著在硅片

12、上，偏磷酸經(jīng)過高溫加熱分解，生成五氧化二磷氣體，熏黑硅片；4正面無異常，背面有發(fā)黃燒焦；正面或者背面有多點(diǎn)燒焦（不發(fā)藍(lán)、中心不發(fā)白）；清洗不凈；未及時(shí)裝舟；原料較臟；5同一組硅片擴(kuò)散完，在硅片上部同一位置，即倒片時(shí)或者裝舟時(shí)鑷子位置有燒焦若正反面均有，則為倒片時(shí)鑷子被污染所致；若只有擴(kuò)散面有，則為裝舟時(shí)鑷子被污染，導(dǎo)致硅片被污染而引起的燒焦；裝舟鑷子上有雜質(zhì)，裝舟時(shí)會在鑷子接觸硅片的部位受污染，導(dǎo)致硅片上裝舟鑷子接觸位置有較明顯的熏黑甚至發(fā)藍(lán)現(xiàn)象6手印燒焦制絨分片人員手套較臟或者分片不及時(shí)或者超凈裝舟時(shí)有人用手拿片，導(dǎo)致硅片表面有手套印引起的燒焦嚴(yán)重?zé)蛊?舟齒燒焦舟較臟造成8正面或者背面，有

13、3mm×3mm以上發(fā)藍(lán)燒焦現(xiàn)象；由于爐壁上以及石英門上會有一些偏磷酸殘留，所以當(dāng)偏磷酸經(jīng)過高溫加熱分解，生成五氧化二磷氣體，熏黑硅片，同時(shí)未分解的偏磷酸會使硅片上出現(xiàn)白色固體物質(zhì)。9同一組硅片擴(kuò)散完后，在某一位置，出現(xiàn)連續(xù)的20片左右的燒焦，中間最嚴(yán)重，兩邊慢慢變輕微至正常燒焦最嚴(yán)重的一片原料片較臟，表面有大量污物，在高溫下?lián)]發(fā)，導(dǎo)致其他臨近硅片均燒焦，但舟齒處因由舟杠保護(hù)，未燒焦10大塊發(fā)藍(lán)燒焦臟片造成；當(dāng)制絨時(shí)，兩片片子疊在一起或一片片子上疊著碎片，造成制絨機(jī)清洗的效果不好，疊在一起的位置殘留有水和其它化學(xué)物質(zhì)，烘干之后仍殘留，導(dǎo)致擴(kuò)散時(shí)燒焦。11兩片粘在一起燒焦疑為臟片或者制絨

14、后清洗不凈造成3.5 擴(kuò)散反片處理流程：定義：擴(kuò)散后擴(kuò)散面在未制絨面的硅片，為裝舟時(shí)裝反所致；A卸舟時(shí)發(fā)現(xiàn)擴(kuò)散反片時(shí)，操作人員應(yīng)將擴(kuò)散反片挑出，轉(zhuǎn)處理片后集中處理。B擴(kuò)散反片處理流程：4 機(jī)臺停復(fù)機(jī)流程4.1 擴(kuò)散爐停機(jī)機(jī)制：A 停機(jī)條件B 停機(jī)流程C 計(jì)劃性斷電停機(jī)流程1) 擴(kuò)散爐提前3h停止進(jìn)片。2) 將保護(hù)氮V8閥門打開，并關(guān)掉加熱開關(guān)。3) 關(guān)閉上、下位機(jī)。D 非計(jì)劃性斷電停機(jī)處理方法1) 斷電后立即通知動力，并詢問恢復(fù)時(shí)間2) 針對動力電源恢復(fù)時(shí)間，做一下處理方法4.3 擴(kuò)散爐復(fù)機(jī)流程超凈車間復(fù)機(jī)時(shí)，應(yīng)第一時(shí)間確認(rèn)潔凈度是否已達(dá)標(biāo)。A. 擴(kuò)散爐復(fù)機(jī)流程：a) 確認(rèn)設(shè)備狀態(tài)：確認(rèn)設(shè)備重

15、要參數(shù)列表，需標(biāo)明目標(biāo)設(shè)定值、容許偏差范圍，實(shí)際測量值，爐管氣密性，升溫完畢及設(shè)備交予工藝時(shí)間。b) 確認(rèn)工藝參數(shù)：1. 確認(rèn)恒溫區(qū)、舟托架及擋板的位置；2. 確認(rèn)源瓶是否已經(jīng)安裝好，檢查閥門是否有問題；3. 確認(rèn)工藝各參數(shù)設(shè)定值；c) 升好溫后，待溫區(qū)穩(wěn)定30min，拉恒溫區(qū)，記錄相應(yīng)的開始與完成時(shí)間及拉恒溫區(qū)前后各爐管的溫度補(bǔ)償值。d) 拉好恒溫區(qū)后，開始做飽和，飽和時(shí)間由停機(jī)時(shí)間的長短來定：各爐管工藝文件夾均有“恒溫+飽和”工藝，停機(jī)時(shí)間大于24h時(shí)，可以直接運(yùn)行該工藝進(jìn)行飽和及拉恒溫區(qū)；e) 工藝假片調(diào)試，調(diào)試正常后交付生產(chǎn)，并記錄交付時(shí)間。f) 復(fù)機(jī)后第一組硅片附實(shí)驗(yàn)單，控制方阻及跟

16、蹤效率。5.值班注意事項(xiàng)：5.1 返工片處理注意事項(xiàng)：a) 明確標(biāo)注硅片的正反面，不能混淆。b) 裝舟崗位要保證硅片烘干后再進(jìn)爐。c) 確保進(jìn)入爐管的硅片全部是清潔，干凈的。d) 若返工組數(shù)較多，需規(guī)定爐管，以便控制方阻；5.2 磷源注意事項(xiàng)a) 恒溫槽溫度設(shè)定值為20±0.5，超出此范圍會影響小N2對磷源的控制；b) 源瓶進(jìn)出氣管一定不要弄錯(cuò)，換源時(shí)按照“細(xì)進(jìn)粗出“的原則對接源瓶，源瓶閥門充分打開（完全打開后回旋半圈），單向閥定期檢查更換避免氣體逆流發(fā)生爆瓶事故；c) 源瓶液面低于3cm時(shí)，若生產(chǎn)不換源，需要求生產(chǎn)換源，否則停用該爐管；d) 生產(chǎn)換源后，工藝值班人員需做：減源（ 多晶經(jīng)驗(yàn)值為4060cc）-通源（手動界面完全參照工藝第四步設(shè)置通源1520min）-查看恒溫槽電源開關(guān)是否開啟；5.3 擋片注意事項(xiàng)a) 每班下班前需監(jiān)督生產(chǎn)清洗擋片，擋片嚴(yán)重發(fā)藍(lán)需清洗后再使用；b) 缺角超過十分之一的擋片不能再用；5.4 Ocap填寫注意事項(xiàng)a) 出現(xiàn)方阻異常，查找到原因時(shí)，需三方一起確認(rèn)，三方為：工藝，