半導(dǎo)體材料的基本特性概要_第1頁(yè)
半導(dǎo)體材料的基本特性概要_第2頁(yè)
半導(dǎo)體材料的基本特性概要_第3頁(yè)
半導(dǎo)體材料的基本特性概要_第4頁(yè)
半導(dǎo)體材料的基本特性概要_第5頁(yè)
已閱讀5頁(yè),還剩29頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、半導(dǎo)體的概念 從導(dǎo)電特性和電阻率來(lái)分: 超導(dǎo)體: 大于106(cm)-1 導(dǎo)體: 106104(cm)-1,容易導(dǎo)電的物體。如:鐵、銅等 絕緣體: 小于10-10cm)-1,幾乎不導(dǎo)電的物體。如:橡膠等 半導(dǎo)體: 10410-10(cm)-1 ,導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之 間的物體,在一定條件下可導(dǎo)電。 原子結(jié)構(gòu) 由三種不同的粒子構(gòu)成:中性中子和帶正電的質(zhì)子組成原子核,以及圍繞原子核旋轉(zhuǎn)的帶負(fù)電核的電子,質(zhì)子數(shù)與電子數(shù)相等呈現(xiàn)中性。 電子能級(jí) 原子級(jí)的能量單位是電子伏特,它代表一個(gè)電子從低電勢(shì)處移動(dòng)到高出1V的的電勢(shì)處所獲得的動(dòng)能。 價(jià)電子層 原子最外部的電子層就是價(jià)電子層,對(duì)原子的化學(xué)和物理

2、性質(zhì)具有顯著的影響,只有一個(gè)價(jià)電子的原子很容易失去這個(gè)電子,有7個(gè)價(jià)電子的原子容易得到一個(gè)電子,具有親和力。 不同元素的原子共有價(jià)電子形成的粒子鍵,原子通過(guò)共有電子來(lái)使價(jià)層完全填充變得穩(wěn)定。束縛電子同時(shí)受兩個(gè)原子的約束,如果沒(méi)有足夠的能量,不易脫離軌道半導(dǎo)體分類半導(dǎo)體分類本征半導(dǎo)體:幾乎不含任何雜質(zhì)的半導(dǎo)體。自由電子 當(dāng)導(dǎo)體處于熱力學(xué)溫度0K時(shí),導(dǎo)體中沒(méi)有自由電子。當(dāng)溫度升高或受到光的照射時(shí),價(jià)電子能量增高,有的價(jià)電子可以掙脫原子核的束縛,而參與導(dǎo)電,成為自由電子??昭?自由電子產(chǎn)生的同時(shí),在其原來(lái)的共價(jià)鍵中就出現(xiàn)了一個(gè)空位,原子的電中性被破壞,呈現(xiàn)出正電性,人們常稱呈現(xiàn)正電性的這個(gè)空位為空穴

3、。概念:摻入雜質(zhì)的本征半導(dǎo)體稱為雜質(zhì)半導(dǎo)體。N型半導(dǎo)體:在本征半導(dǎo)體中摻入五價(jià)雜質(zhì)元素,例如磷,氮自由電子多數(shù)載流子(由兩部分組成)空穴少數(shù)載流子雜質(zhì)半導(dǎo)體 P型半導(dǎo)體 在本征半導(dǎo)體中摻入三價(jià)雜質(zhì)元素,如硼、鎵、銦等形成了P型半導(dǎo)體,也稱為空穴型半導(dǎo)體。自由電子少數(shù)載流子空穴多數(shù)載流子(由兩部分組成)電子的共有化運(yùn)動(dòng)滿足能量最低原理泡利不相容原理能帶結(jié)構(gòu)的形成 兩個(gè)原子靠近時(shí),電子波函數(shù)將重疊。這時(shí)泡利不相容原理不允許一個(gè)量子態(tài)上有兩個(gè)電子存在,于是一個(gè)能級(jí)將分裂為2個(gè)能級(jí),N個(gè)原子靠近時(shí),一個(gè)能級(jí)將分裂為N個(gè)相距很近的能級(jí),形成能帶能帶的特點(diǎn): 能帶的寬窄由晶體的性質(zhì)決定,與所含的原子數(shù)無(wú)關(guān)

4、。 能量較高的能帶比較寬,能量低的較窄。 每個(gè)能帶中的能級(jí)數(shù)目與晶體中的原子數(shù)有關(guān)。 能帶中能量不連續(xù)常見(jiàn)半導(dǎo)體硅硅是一種元素半導(dǎo)體 ,4個(gè)價(jià)電子,正好位于優(yōu)質(zhì)導(dǎo)體和絕緣體之間。 選擇硅的主要理由: 硅的豐富度 更高的熔化溫度允許更寬的工藝容限 更高的工作溫度范圍 氧化硅的自然形成半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)是在20世紀(jì)上半業(yè)開(kāi)發(fā)的技術(shù)上培育出來(lái)的,關(guān)鍵技術(shù)是在工業(yè)和學(xué)術(shù)網(wǎng)中獲取的。 集成電路的發(fā)展摩爾定律:1964年 ,戈登.摩爾,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)先驅(qū)者和英特爾公司的創(chuàng)始人,預(yù)言在一塊芯片上的晶體管數(shù)大約每隔一年翻一番。半導(dǎo)體工業(yè)為什么有如此的發(fā)展速度第一:集成電路業(yè)屬于

5、非資源耗盡型的環(huán)保類產(chǎn)業(yè),原始材料是地殼中的二氧化硅。第二:集成電路的設(shè)計(jì)與制造技術(shù)中高新技術(shù)含量和技術(shù)賦加值極高 ,產(chǎn)出效益好。第三:集成電路的設(shè)計(jì)與制造業(yè)是充滿技術(shù)驅(qū)動(dòng)的效益驅(qū)動(dòng)的高活性產(chǎn)業(yè) 提高芯片性能 提高芯片的可靠性 降低芯片的成本提高芯片的性能關(guān)鍵尺寸 芯片上的最小物理尺寸 芯片上器件尺寸的相應(yīng)縮小是按比例進(jìn)行的,僅減小一個(gè)尺寸是不可接受的。 每塊芯片上的元件數(shù) 減小一塊芯片的關(guān)鍵尺寸使得可以在硅片上制造更多的元件 ,由于芯片數(shù)增加性能也得到提高。 摩爾定律 功耗 真空管耗費(fèi)很大功率,而半導(dǎo)體器件確實(shí)耗用很小的功率,隨著器件的微型化,功耗相應(yīng)減小,盡管晶體管數(shù)以驚人的速度增長(zhǎng),但是

6、功耗卻在不斷的下降。 芯片可靠性 芯片可靠性致力于趨于芯片壽命的功能的能力,通過(guò)嚴(yán)格的諸如無(wú)顆粒空氣凈化間的使用以及控制化學(xué)試劑的純度來(lái)控制玷污 由于特征尺寸的減小使得硅片上集成的晶體管增多降低了成本。 半導(dǎo)體產(chǎn)品市場(chǎng)大幅度增長(zhǎng)引入了制造的規(guī)模經(jīng)濟(jì)微電子技術(shù)發(fā)展展望微電子技術(shù)發(fā)展展望縱觀20世紀(jì)中硅基微電子技術(shù)的發(fā)展歷程,未來(lái)微電子技術(shù)將主要表現(xiàn)為:1、器件的特征尺寸繼續(xù)縮小2、系統(tǒng)集成芯片將是將來(lái)一段時(shí)間內(nèi)發(fā)展的重點(diǎn)3、微電子與其它學(xué)科的結(jié)合將誕生新的技術(shù)交叉點(diǎn)和產(chǎn)業(yè)增長(zhǎng)點(diǎn)。集成電路的概念 將若干個(gè)二極管、晶體管、電阻和電容等元件按照特定的電路連接方式,焊接到一快半導(dǎo)體單晶片或陶瓷機(jī)片上,使

7、之成為一個(gè)整體以完成某一特定功能的電路組件。集成電路優(yōu)點(diǎn)集成電路優(yōu)點(diǎn)提高工作速度內(nèi)部連線短,縮短延遲時(shí)間,尺寸小,連線分布電容和PN結(jié)電容減小。降低功耗尺寸小,連線短,電阻小降低電子整機(jī)成本?減少印制電路和插接件體積小,質(zhì)量輕可靠性高縮短電子產(chǎn)品生產(chǎn)周期 集成電路的分類按器件結(jié)構(gòu)類型和工藝分雙極型集成電路,有源器件是雙極型晶體管,載流子是電子和空穴。一般用于模擬集成電路和中、小規(guī)模集成電路。優(yōu)點(diǎn):工作速度高、驅(qū)動(dòng)能力強(qiáng) MOS(metal-oxide-semiconductor)管集成電路,有源器件為MOS晶體管。載流子是電子或者空穴,又稱為單極型晶體管。優(yōu)點(diǎn):輸入阻抗高、抗干擾能力強(qiáng)、功耗低

8、、集成度高、制作工藝簡(jiǎn)單。 雙極型-MOS集成電路,兩者的混合電路 同時(shí)具有兩者的優(yōu)點(diǎn) 。按電路功能分 數(shù)字集成電路,傳遞和處理數(shù)字信號(hào)。 應(yīng)用范圍:計(jì)算機(jī)、通信處理機(jī) 模擬集成電路,傳遞和處理模擬信號(hào)。 應(yīng)用范圍:信號(hào)傳感器、A/D、D/A等 數(shù)模混合電路 微波集成電路,所傳遞和處理的信號(hào)頻率大于300MHz。應(yīng)用范圍:混頻器,振蕩器等集成電路對(duì)半導(dǎo)體材料的基本的要求 襯底必須是純凈的 單晶硅片 晶體的基本形態(tài) 單晶 多晶 非晶 綜合指標(biāo)要求 導(dǎo)電類型 N型或P型 硅片制造硅片制備硅片測(cè)試/揀選裝配與封裝終測(cè)硅片制備 在這一階段,將硅從沙中提煉并純化,經(jīng)過(guò)特殊工藝生產(chǎn)適當(dāng)直徑的硅錠,然后將硅錠切割。硅片制造 自硅片開(kāi)始的微芯片制作是第二階段,稱為硅片制造。裸露的硅片到達(dá) 硅片制造廠,然后經(jīng)過(guò)各種清洗、成膜、光刻、刻蝕和摻雜步驟,加工完的硅片具有永久刻蝕在硅片上的一套集成電路。硅片測(cè)試/揀選 硅片制造完成后,硅片被送到測(cè)試和揀選區(qū),在那里進(jìn)行單個(gè)芯片的探測(cè)和電學(xué)測(cè)試,揀選出不合格的芯片。裝配與封裝 硅片揀選和測(cè)試后,進(jìn)入裝

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫(kù)網(wǎng)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論