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1、專利保護(hù)程度對(duì)公司創(chuàng)新戰(zhàn)略的影響2012年第5期SCIENCE&TEclOL0GYINFORMATION0科教前沿0科技信息專利保護(hù)程度對(duì)公司創(chuàng)新戰(zhàn)略的影響方煒園童澤林2張凱樂(1.國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利局專利審查協(xié)作中心北京中心中國(guó)北京100084;2.武漢大學(xué)經(jīng)濟(jì)與管理學(xué)院湖北武漢430072)【摘要】本研究探討了專利保護(hù)對(duì)公司創(chuàng)新戰(zhàn)略的影響.我們通過文獻(xiàn)回顧的方法提出了專利保護(hù)程度是分析專利保護(hù)影響公司發(fā)展的前提條件.基于專利保護(hù)程度的視角,我們認(rèn)為在高專利保護(hù)程度的情況下,企業(yè)應(yīng)該采取市場(chǎng)創(chuàng)新戰(zhàn)略;但是在低專利保護(hù)程度的情況下,企業(yè)應(yīng)該采取技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略.【關(guān)鍵詞】專利保護(hù);
2、專利保護(hù)程度;技術(shù)創(chuàng)新;市場(chǎng)創(chuàng)新0引言對(duì)于學(xué)術(shù)界和企業(yè)界人士而言.公司創(chuàng)新的戰(zhàn)略選擇是一個(gè)值得思考的戰(zhàn)略問題.公司創(chuàng)新戰(zhàn)略通??梢苑譃榧夹g(shù)創(chuàng)新和市場(chǎng)創(chuàng)新.技術(shù)創(chuàng)新是指由于某個(gè)技術(shù)發(fā)明而創(chuàng)造了一個(gè)新的市場(chǎng)或新的服務(wù)機(jī)會(huì).同時(shí)該技術(shù)發(fā)明經(jīng)歷一系列開發(fā),生產(chǎn)和營(yíng)銷的過程來轉(zhuǎn)化為商業(yè)化的成果.市場(chǎng)創(chuàng)新是指新產(chǎn)品通過改進(jìn)現(xiàn)有產(chǎn)品的功能,形式和特點(diǎn).為消費(fèi)者提供更多價(jià)值.那么公司該如何選擇創(chuàng)新戰(zhàn)略呢?已有研究表明.影響公司創(chuàng)新戰(zhàn)略選擇的因素包括:公司資源,顧客需求,市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)程度等等.但是,一個(gè)經(jīng)常被忽略的因素是專利保護(hù)程度.在知識(shí)經(jīng)濟(jì)時(shí)代,知識(shí)產(chǎn)權(quán)是公司競(jìng)爭(zhēng)的重要資源,所以,公司在選擇創(chuàng)新戰(zhàn)略時(shí),可用專利
3、保護(hù)作為創(chuàng)新戰(zhàn)略選擇的依據(jù).本研究將首先解析專利保護(hù)影響公司發(fā)展的前提條件是專利保護(hù)程度.然后具體分析了公司創(chuàng)新戰(zhàn)略的內(nèi)涵.最后根據(jù)專利保護(hù)程度具體探討公司創(chuàng)新戰(zhàn)略的選擇1專利保護(hù)是影響公司發(fā)展的前提條件一般而言.專利保護(hù)對(duì)公司發(fā)展具有重要的影響力.在某一行業(yè)中.如果一個(gè)公司長(zhǎng)期擁有大量的專利所有權(quán).那么其他公司模仿該產(chǎn)品的成本將非常高.因此,專利保護(hù)通常被認(rèn)為是阻礙競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手進(jìn)入的壁壘.它可以為專利所有者創(chuàng)造暫時(shí)的壟斷地位.從而獲取大量的利潤(rùn).并彌補(bǔ)因?yàn)閯?chuàng)新而投入的資金和時(shí)間但是.Seherer和Ross(1990)認(rèn)為專利保護(hù)對(duì)公司的影響是非常有限的.其原因在于某一產(chǎn)品的技術(shù)解決方案可能是多
4、種的,所以.競(jìng)爭(zhēng)公司可以繞過專利保護(hù)的壁壘.尋求新的技術(shù)解決方法.在實(shí)踐活動(dòng)中.許多研發(fā)人員也認(rèn)為專利保護(hù)對(duì)于公司競(jìng)爭(zhēng)力的影響是非常有限的有調(diào)查顯示.只有14%的專利對(duì)于公司競(jìng)爭(zhēng)力有緊密關(guān)系基于以上分析.在學(xué)術(shù)界.專利保護(hù)對(duì)于公司的影響并未達(dá)成一致的看法.為了化解爭(zhēng)議.在考察專利保護(hù)對(duì)公司的影響時(shí),應(yīng)該首先區(qū)分其特定的前提條件.即行業(yè)的專利保護(hù)程度當(dāng)公司所處行業(yè)專利保護(hù)程度高時(shí),專利保護(hù)對(duì)公司發(fā)展具有顯著影響.例如,在信息,醫(yī)藥和航天等行業(yè).專利保護(hù)有利于公司獲取競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì).但是.當(dāng)公司所處行業(yè)專利保護(hù)程度低時(shí).專利保護(hù)對(duì)公司發(fā)展的影響將不顯著例如.傳統(tǒng)手工藝,制衣加工等行業(yè).所以,下文將以專利
5、保護(hù)程度為前提條件.去具體分析專利保護(hù)對(duì)公司創(chuàng)新戰(zhàn)略的影響2公司創(chuàng)新戰(zhàn)略公司創(chuàng)新戰(zhàn)略一般分為技術(shù)創(chuàng)新和市場(chǎng)創(chuàng)新.根據(jù)世界經(jīng)合組織(OECD)的定義,技術(shù)創(chuàng)新是指將自然科學(xué),應(yīng)用科學(xué)和工業(yè)研究中最先進(jìn)的發(fā)明應(yīng)用于實(shí)踐活動(dòng)之中.市場(chǎng)創(chuàng)新是指通過改進(jìn)現(xiàn)有產(chǎn)品的功能,形式和特點(diǎn),為消費(fèi)者提供更多價(jià)值.2.1技術(shù)創(chuàng)新特點(diǎn)第一.技術(shù)創(chuàng)新的推動(dòng)力是科學(xué)技術(shù)的發(fā)展.由于科學(xué)技術(shù)迅猛發(fā)展,新的發(fā)明成果不斷產(chǎn)生.當(dāng)這些發(fā)明創(chuàng)造應(yīng)用于規(guī)模化生產(chǎn)以后,公司就成功實(shí)現(xiàn)了技術(shù)創(chuàng)新.第二,技術(shù)創(chuàng)新有利于提高公司收入.如果技術(shù)創(chuàng)新取得成功.公司將在市場(chǎng)上獲得先發(fā)優(yōu)勢(shì).從而獲取豐厚的市場(chǎng)利潤(rùn).第三,技術(shù)創(chuàng)新面臨巨大的潛在風(fēng)險(xiǎn).
6、由于技術(shù)創(chuàng)新需要投資大量的人力和物力.技術(shù)創(chuàng)新一旦失敗.那么這些巨大的投資將付諸東流2.2市場(chǎng)創(chuàng)新特點(diǎn)80第一.市場(chǎng)創(chuàng)新的推動(dòng)力是市場(chǎng)的發(fā)展進(jìn)化.隨著市場(chǎng)需求的不斷發(fā)展升級(jí).消費(fèi)者的市場(chǎng)需求變得更加多樣化.這為市場(chǎng)創(chuàng)新提供了推動(dòng)力第二.市場(chǎng)創(chuàng)新技術(shù)相對(duì)成熟.市場(chǎng)創(chuàng)新不一定非要采用最先進(jìn)的技術(shù).該創(chuàng)新可以通過對(duì)現(xiàn)有技術(shù)成果進(jìn)行改良,然后去滿足市場(chǎng)的新興需求.第三.市場(chǎng)創(chuàng)新的風(fēng)險(xiǎn)在于消費(fèi)者是否接受該創(chuàng)新成果因?yàn)槭袌?chǎng)創(chuàng)新通常需要改變現(xiàn)有消費(fèi)習(xí)慣.如果消費(fèi)者很難接受新的消費(fèi)行為.那么市場(chǎng)創(chuàng)新就可能失敗.3專利保護(hù)影響公司創(chuàng)新戰(zhàn)略選擇結(jié)合技術(shù)創(chuàng)新和市場(chǎng)創(chuàng)新特點(diǎn).我們以專利保護(hù)程度為前提條件.發(fā)現(xiàn)專利保護(hù)
7、對(duì)于公司創(chuàng)新戰(zhàn)略選擇具有重要影響.Rasmusen(1989)提出的博弈理論模型指出.公司并不愿意馬上推出創(chuàng)新技術(shù)(無論是技術(shù)創(chuàng)新或市場(chǎng)創(chuàng)新).因?yàn)楣緦?duì)已有技術(shù)的收益預(yù)期遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于創(chuàng)新產(chǎn)品的收益預(yù)期.所以.公司在決策具體創(chuàng)新戰(zhàn)略時(shí),應(yīng)該權(quán)衡技術(shù)創(chuàng)新和市場(chǎng)創(chuàng)新的投入產(chǎn)出比.然后再做出選擇.3.1高專利保護(hù)程度有利于市場(chǎng)創(chuàng)新雖然高專利保護(hù)程度看似有利于技術(shù)創(chuàng)新.但是高專利保護(hù)程度卻更加有利于市場(chǎng)創(chuàng)新.一般而言.在專利保護(hù)程度高的行業(yè),專利保護(hù)對(duì)公司發(fā)展具有重要影響.于是,各家公司相互競(jìng)爭(zhēng)技術(shù)創(chuàng)新的投入.以期望超出競(jìng)爭(zhēng)公司的技術(shù)水平.最終形成競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì).但是,根據(jù)Rasmusen的博弈理論模型.高專利
8、保護(hù)程度其實(shí)更加有利于推動(dòng)公司選擇市場(chǎng)創(chuàng)新戰(zhàn)略.其原因如下:(1)高專利保護(hù)程度削弱技術(shù)創(chuàng)新動(dòng)力高專利保護(hù)程度有利于公司延長(zhǎng)專利產(chǎn)生市場(chǎng)價(jià)值的周期因?yàn)樵趯@Wo(hù)程度高的行業(yè).相對(duì)容易產(chǎn)生技術(shù)壁壘.從而導(dǎo)致進(jìn)入門檻較高.這就使得公司所處行業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)環(huán)境比較平穩(wěn).那么擁有專利所有權(quán)的公司就可以延長(zhǎng)已有專利所產(chǎn)生利潤(rùn)的周期所以.高專利保護(hù)程度削弱公司技術(shù)創(chuàng)新的動(dòng)力(2)高專利保護(hù)程度提高市場(chǎng)創(chuàng)新動(dòng)力高專利保護(hù)程度更容易推動(dòng)公司盡量開發(fā)現(xiàn)有專利的市場(chǎng)化應(yīng)用.而不是進(jìn)行技術(shù)升級(jí).因?yàn)榧夹g(shù)創(chuàng)新的成本投入非常巨大,一旦開發(fā)出創(chuàng)新技術(shù)并得到專利保護(hù)以后.公司自然會(huì)選擇在更多市場(chǎng)中應(yīng)用該項(xiàng)技術(shù).獲取更多收入.而不
9、愿意進(jìn)行新一輪的技術(shù)創(chuàng)新投入.所以.高專利保護(hù)程度增加了公司進(jìn)行市場(chǎng)創(chuàng)新的動(dòng)力綜上所述.在專利保護(hù)程度高的行業(yè),高專利保護(hù)程度會(huì)削弱公司技術(shù)創(chuàng)新的動(dòng)力.但是卻提高了公司市場(chǎng)創(chuàng)新的動(dòng)力.所以,我們認(rèn)為高專利保護(hù)程度有利于公司選擇市場(chǎng)創(chuàng)新戰(zhàn)略3.2低專利保護(hù)程度有利于技術(shù)創(chuàng)新在低專利保護(hù)程度的行業(yè).Rasmusen的博弈理論模型的指導(dǎo)意義將明顯減弱.因?yàn)樵诘蛯@Wo(hù)程度的行業(yè).公司已有技術(shù)的收入預(yù)期大大減低,所以公司會(huì)尋求技術(shù)創(chuàng)新的方式來獲得更多收益.其原因具體如下:(1)低專利保護(hù)程度降低專利市場(chǎng)應(yīng)用的獲利能力在專利保護(hù)程度低的行業(yè).公司已有專利無法長(zhǎng)期獲利由于專利保護(hù)程度低的行業(yè).競(jìng)爭(zhēng)公司相對(duì)
10、比較容易繞過公司已有的專利保護(hù).從而降低了專利形成技術(shù)壁壘的作N-;使得公司無法依靠已有專利去獲取長(zhǎng)期利潤(rùn)所以.公司會(huì)尋求技術(shù)創(chuàng)新的辦法來提高公司獲利能力(2)低專利保護(hù)程度凸顯了技術(shù)創(chuàng)新的作用(下轉(zhuǎn)第79頁(yè))科技信息.科教前沿0SCIENCE&TECHNOLOGYINFORMATION2012年第5期等不良地質(zhì)發(fā)育堤段布設(shè)了4條測(cè)線,測(cè)線布設(shè)如表1所示.野外測(cè)得的數(shù)據(jù)是每條剖面線的多個(gè)剖面數(shù)據(jù)文件.為了形象地表達(dá)每條剖面線下的地層特性.利用專門軟件將多個(gè)剖面文件連接成完整的電阻率剖面,數(shù)據(jù)經(jīng)過反演以后,具體結(jié)果詳見下圖._n_自蜘-_Hp岫哪圖3102+900104+100堤
11、段電阻率反演圖圖4106+500107+550堤段電阻率反演圖霜口.I_I.一t'圖595+00095+128堤段臨,背河電阻率反演圖6成果解譯及地層特性評(píng)價(jià)1)第1條測(cè)線(圖3)中巖層表現(xiàn)為低電阻率特征.分界面視電阻率約為l70n.m.巖質(zhì)地層(圖中黑粗線所示,下同)起伏較大,最淺約為7m.最深約為25m.從剖面圖上可以看出巖層內(nèi)電阻率變化較大.說明巖層均勻性較差.2)第2條測(cè)線(圖4)中巖層表現(xiàn)為高電阻率特征.由于該巖層為強(qiáng)風(fēng)化灰?guī)r.其電性與上層土層相差較小.因此電阻率方法無法判斷出該層巖層的分界面.只能分辨出與土層電性相差較大的中風(fēng)化巖石界面.從圖中可以看出巖質(zhì)地層起伏較大,最淺
12、約為5.0m,最深約為18.0m.巖層內(nèi)電阻率變化相對(duì)較小,說明巖層均勻性較好.在600m處可能存在直徑為4.0m的空洞3)第3條測(cè)線(臨河,沿鉆孑L布設(shè))和第4條測(cè)線(I晦村莊與第3條測(cè)線平行布設(shè))(圖5)為同一目標(biāo)的平行測(cè)試,兩條測(cè)線相隔約5m.從圖中可以明顯看出95+062處堤頂下1lm深度處存在一空洞.寬度約為4.0m.但是測(cè)線4表明這個(gè)空洞可能并不貫通于大堤.在95+076處則存在完全貫通于大堤的空洞.埋深約為10.0m.寬度約為3.0m.7成果應(yīng)用根據(jù)物探結(jié)果.我院對(duì)上述4條測(cè)線所在堤段調(diào)整了勘察方案.有針對(duì)性地對(duì)上述堤段進(jìn)行了勘察.鉆孔揭露地層顯示,測(cè)線1和測(cè)線2巖層出露線與物探
13、結(jié)果基本一致.95+062和95+076處空洞位置略有出入.鉆探揭露空洞位置在樁號(hào)95+05995+060處.這可能與使用測(cè)尺不同有關(guān).但總體而言.本次物探對(duì)質(zhì)地勘察的指導(dǎo)意義是十分明顯和重要的.責(zé)任編輯:王靜(上接第8O頁(yè))在專利保護(hù)程度低的行業(yè),技術(shù)創(chuàng)新的相對(duì)優(yōu)勢(shì)更容易凸顯出來由于專利保護(hù)程度低的行業(yè).競(jìng)爭(zhēng)公司的模仿成本很低.大量競(jìng)爭(zhēng)公司進(jìn)入該行業(yè).使得該行業(yè)擁有大量市場(chǎng)創(chuàng)新的產(chǎn)品.在這種情況下公司繼續(xù)保持市場(chǎng)創(chuàng)新戰(zhàn)略則無法產(chǎn)生相對(duì)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì).但是公司如果采取技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略.一旦技術(shù)創(chuàng)新取得成功就可以擺脫競(jìng)爭(zhēng)公司的糾纏.走向利潤(rùn)豐厚的藍(lán)海市場(chǎng).并最終取得相對(duì)競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì).所以.在專利保護(hù)程度低的行
14、業(yè).選擇技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略會(huì)更加有效.總之.在專利保護(hù)程度低的行業(yè).低專利保護(hù)程度一方面降低了專利市場(chǎng)化應(yīng)用的獲利能力.另一方面凸顯了技術(shù)創(chuàng)新的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì).所以,我們認(rèn)為低專利保護(hù)程度有利于公司選擇技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略.4總結(jié)公司在制定創(chuàng)新戰(zhàn)略時(shí).應(yīng)該充分意識(shí)到專利保護(hù)程度的重要影響.就專利對(duì)公司發(fā)展的影響而言.我們認(rèn)為專利保護(hù)程度是需要考慮的前提條件只有在專利保護(hù)程度高的行業(yè).專利保護(hù)才對(duì)公司發(fā)展產(chǎn)生重要作用同時(shí)結(jié)合Rasnnlsen博弈理論模型的觀點(diǎn).我們認(rèn)為專利保護(hù)程度對(duì)公司創(chuàng)新戰(zhàn)略的選擇具有重要影響具體而言.在高專利保護(hù)程度的情況下.公司應(yīng)該采取市場(chǎng)創(chuàng)新戰(zhàn)略:在低專利保護(hù)程度的情況下,公司應(yīng)該采取技術(shù)
15、創(chuàng)新戰(zhàn)略.l【參考文獻(xiàn)】1OECD.Thenatureofinnovationandtheevolutionoftheproductivesystem,technologyandproductivity-thechallengeforeconomicpolicy.Paris:OECD.1991:303-l4.2Garcia.R.andR.Calantone.Acriticallookattechnologicalinnovationtypologyandinnovativenessterminology:aliteraturereview.JournalofProductInnovationM
16、anagement.2o02.19(21:110132.3Sehererand,F.M.andDavidROSS.Industrialmarketstructureandeconomicperformance.3rded.Dallas.TX:HoughtonMimin.1990.4汪啟航,廖風(fēng)霞,盧曉萍.基于SWTO框架的中藥企業(yè)專利戰(zhàn)略分析冊(cè).科技管理研究,2009.1:210211.5陸毅.后金融危機(jī)時(shí)代企業(yè)專利戰(zhàn)略幾個(gè)問題的思考田.科技創(chuàng)新與生產(chǎn)力,2010,7:14.注釋:Zhou,K.andcK.YimTheeffectsofstrategicorientationsontechnologyandmar
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