關(guān)于破壞實驗的具體設(shè)計

1、關(guān)于破壞實驗的具體設(shè)計存在問題：新藥或仿制藥申報時其中質(zhì)量研究部分下專屬性試驗里的破壞試驗該如何實施，比如：1 .強堿破壞試驗，用多少濃度，加多少量，加完后需要加熱破壞還是常溫震搖？2 .破壞試驗是將供試品預(yù)先加熱還是配成供試品溶液再加熱？3 .破壞試驗是在多大的光強度照射下進行？4 .雙氧水破壞用多大量，破壞后怎么取出雙氧水？問題解答：1.堿降解采用0.1mol/L1mol/L的氫氧化鈉溶液，具體濃度和量，視降解程度而定，對于采用HPLC法測定降解產(chǎn)物時，以主成分計算，一般降解10左右；為了加快反應(yīng)或者提高降解強度，必要時可以加熱或提高濃度；2 .對于原料藥一般直接進行，有時可考慮水溶液或混

2、懸液的降解；3 .光照試驗條件可采用4500LX；4 .氧化降解通常采用30%的過氧化氫溶液，用量也是視降解程度而定。首先你應(yīng)該明確破壞性試驗的目的：一是通過考察藥品在一系列劇烈條件下的穩(wěn)定性，了解該藥品內(nèi)在的穩(wěn)定特性及其降解途徑與降解產(chǎn)物。其二，這些試驗也能在一定程度上對有關(guān)物質(zhì)分析方法用于檢查降解產(chǎn)物的專屬性進行驗證。既然試驗的目的是確定可能出現(xiàn)雜質(zhì)的來源，并證明分析方法專屬性強，雜質(zhì)與主峰分離度良好。因此對于強酸、強堿及強氧化劑的濃度及時間、取樣方式等沒有明確的規(guī)定。具體品種具體模索，初步試驗了解樣品對影響的因素，酸、堿、氧化等條件基本穩(wěn)定情況后，進一步調(diào)整破壞試驗條件，只要，使藥物有一

3、定量的降解，并對可能的降解途徑和降解機制進行分析，保證實驗的意義即可。實驗一般的濃度范圍為：強酸：0.11.0mol/LHCL溶液或視情況調(diào)節(jié)強堿：0.11.0mol/LNaOH溶液或視情況調(diào)節(jié)強氧化劑：30%的H2O2或視情況配置不同濃度的溶液但在研究中應(yīng)注意如下的問題：1、 破壞條件太劇烈，主藥峰太低，提供的色譜圖主峰與降解物或降解物間分離不好，甚至主峰消失，失去破壞性試驗意義。一般樣品含量控制在85%90%范圍（歸一化法）主成份含量占絕大部分，已產(chǎn)生一定量的降解產(chǎn)物與樣品長期放置的降解情況較接近，此情況下，破壞性試驗的結(jié)果更具有實際意義，像樓主所說的堿破壞主藥基本沒有的結(jié)果是不能采用的。

4、2、 在進行酸、堿、強氧化破壞試驗時，每個試驗最好都要做相應(yīng)的空白破壞溶劑的試驗作為輔助。用過氧化氫氧化過后，即使有峰，只要在在前3分鐘左右出峰，不影響主藥峰和降解產(chǎn)物峰就行。具體用量要試驗摸索，一般用30%的濃度，同時要注意反應(yīng)時間的長短。1、另外做破壞試驗HPLC檢測時應(yīng)作空白溶劑的檢測以做對照，正像樓主說的，雙氧水是不用除去的，加一個同樣條件下的雙氧水空白檢測其出峰情況，然后在主成分圖譜里去掉該峰就可以了。2、樓主對破壞試驗的目的不是很明確，建議閱讀以下蔣琬博士的美國FDA的CGMP現(xiàn)場檢查一書或ICH指導(dǎo)原則?；蛟S對你的問題有所幫助。3、你的試驗是按照CP標(biāo)準(zhǔn)還是EP或USP標(biāo)準(zhǔn)？是國

5、內(nèi)還是國際注冊，搞清楚這些再對你要做的試驗方案重新設(shè)計。峰純度要用DAD檢測器吧。我做的破壞性試驗時，原料很穩(wěn)定，我都采用的6mol/l的鹽酸和氫氧化鈉，以及30%的雙氧水，而且加入了水浴的條件。還有一些甚至需要回流的。其實破壞條件要根據(jù)藥物的性質(zhì)而定。采用酸堿氧化等破壞的強度以主峰面積歸一化純度達到85%90%為準(zhǔn)二極管陣列，全波段掃描，有三維立體圖，主峰純度曲線要三個九才算合格破壞試驗，也稱為強制降解試驗（stressingtest），在人為設(shè)定的特殊條件下，如酸、堿、氧化、高溫、光照等，引起藥物的降解，通過對降解產(chǎn)物的測定，驗證檢測方法的可行性，同時分析藥物可能的降解途徑和降解機制。破壞

6、性試驗的設(shè)計常結(jié)合具體藥物的特點，選擇合適的條件，使藥物在每種環(huán)境下盡可能都有一定量的降解，并根據(jù)劑型的特點充分分析藥物的降解途徑和降解機制，保證試驗的意義。對于相對穩(wěn)定的藥物，可增強破壞的強度，至少在1種條件下的降解達到10%，很少有藥物對所有條件都穩(wěn)定。1 .酸破壞試驗一般選擇0.11mol/L的鹽酸，在室溫或加熱條件下進行考察。一般配制2倍濃度溶液，測定時以方便用等濃度的堿溶液調(diào)節(jié)pH值至中性。2 .堿破壞試驗一般選擇0.11mol/L的氫氧化鈉溶液，在室溫或加熱條件下進行考察。一般配制2倍濃度溶液，測定時以方便用等濃度的酸溶液調(diào)節(jié)pH值至中性。3 .高溫破壞試驗（熱破壞）分別在固體和溶

7、液狀態(tài)下進行考察。固體一般60或者80下1530天，溶液可水浴或者130c烘箱下放置數(shù)小時。4 .光破壞試驗分別在固體和溶液狀態(tài)下進行考察（考察1530天）。5 .氧化破壞試驗主要在溶液狀態(tài)下進行考察，氧化劑可采用飽和的氧氣或不同濃度的過氧化氫（雙氧水），分別在室溫或加熱條件下進行考察。需要同法進行空白試驗，如為原料破壞可僅進行氧化破壞空白。試驗結(jié)束后需要報告得出明確的結(jié)論：藥品在各種條件下的穩(wěn)定特性、降解途徑與降解產(chǎn)物，有關(guān)物質(zhì)分析方法是否可用于檢查降解產(chǎn)物等。破壞試驗常規(guī)要求：1 .對于采用HPLC法測定降解產(chǎn)物時，以主成分計算一般降解10即可。并需要采用有效的方法對降解產(chǎn)物進行檢測，需要

8、報告測定的回收量，通常應(yīng)達到90左右，以證明檢測方法的有效性。2 .對于破壞性試驗時降解量較大的降解產(chǎn)物，建議結(jié)合穩(wěn)定性研究中加速試驗和長期試驗的具體雜質(zhì)數(shù)據(jù)，參考ICH對新原料藥中雜質(zhì)的規(guī)定（每日服用最大劑量不超過2克時，鑒定閾值為0.10；每日服用最大劑量超過2克時，鑒定閾值為0.05），必要時進行定性分析，并作為已知雜質(zhì)，根據(jù)安全性數(shù)據(jù)，采用已知雜質(zhì)對照，確定合理的限度，訂入質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。不能采用已知雜質(zhì)進行對照時，可通過測定降解產(chǎn)物、主成分在測定波長處的吸收系數(shù)，分析兩者的差異。若兩者吸收系數(shù)相差較大時，建議采用響應(yīng)因子校正后進行有效控制；如果兩者吸收系數(shù)相差較小，建議采用自身對照法或峰面

9、積歸一化法進行有效控制。3 .破壞性試驗產(chǎn)生的降解產(chǎn)物的個數(shù)比較多，采用HPLC法測定時，需考慮主成分與降解產(chǎn)物之間、降解產(chǎn)物相互之間的分離度，保證降解產(chǎn)物峰與主峰、降解產(chǎn)物峰之間有良好的分離度。另外，對于原料藥，分離度符合要求也應(yīng)考慮到主藥與起始原料、各合成中間體是否有良好的分離度；對于制劑，應(yīng)注意輔料、輔料降解產(chǎn)物的干擾。需要值得一提的是色譜條件的確定通常以最難分離的兩個降解產(chǎn)物或降解產(chǎn)物與主成分之間的分離度符合要求作為依據(jù)之一。4 .對于創(chuàng)新藥物的破壞性試驗來說，峰純度分析非常重要，一是可以了解降解產(chǎn)物的特性；二是可以有效地檢出和控制雜質(zhì)。檢測峰純度通常采用二級管陣列檢測器或者液質(zhì)連用技

10、術(shù)分析測定各色譜峰的純度，說明在主峰中、各降解產(chǎn)物峰中有沒有包含其它峰。簡單地通過觀察峰形判斷峰的純度沒有說服力。5 .如輔料破壞出峰，不能從樣品破壞峰中扣除，溶劑峰除外（譬如雙氧水的峰）。參考案例：破壞試驗對本品進行酸破壞、堿破壞、氧化破壞、高溫破壞及光破壞試驗，了解本品的降解途徑，同時考察破壞產(chǎn)物峰與主峰的分離情況，以驗證方法的專屬性。取本品10片，研細，備用；取按處方比例混合的輔料適量，備用。酸破壞：精密稱取本品細粉適量（約相當(dāng)于XXX15mg），置30ml刻度試管中，加入1mol/L鹽酸溶液15ml，置水浴中加熱5小時，調(diào)節(jié)pH值至中性，加流動相稀釋至30ml，濾過，取續(xù)濾液作為酸破壞

11、溶液。堿破壞：精密稱取本品細粉適量（約相當(dāng)于XXX15mg），置30ml刻度試管中，加入1mol/L氫氧化鈉溶液15ml,置水浴中加熱5小時，調(diào)節(jié)pH值至中性，加流動相稀釋至30ml,濾過，取續(xù)濾液作為堿破壞溶液。氧化破壞：精密稱取本品細粉適量（約相當(dāng)于XXX15mg），置30ml刻度試管中，加入5%雙氧水溶液5ml，置水浴中加熱1小時，加流動相稀釋至30ml，濾過，取續(xù)濾液作為氧化破壞溶液。高溫破壞：精密稱取本品細粉適量（約相當(dāng)于XXX15mg），置30ml刻度試管中，加水15ml，置水浴中加熱5小時，加水稀釋至30ml，濾過，取續(xù)濾液作為溶液高溫破壞溶液；取本品細粉適量，于60下放置15天，精密稱取適量，加流動相制成每1ml約含0.5mg的溶液，濾過，取續(xù)濾液作為固體高溫破壞溶液。光破壞：精密稱取本品細粉適量（約相當(dāng)于XXX15mg），置30ml刻度