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文檔簡介

1、電容觸摸屏流程介紹觸摸屏事業(yè)部制造：WALLAgendao 電容觸摸屏介紹o 鍍膜o 蝕刻介紹o 單面ITO結(jié)構(gòu)o 雙面ITO結(jié)構(gòu)o 網(wǎng)印可剝膠及切割o 后段流程介紹電容觸摸屏工作原理 普通電容式觸摸屏的感應屏是一塊四層復合玻璃屏，玻璃屏的內(nèi)表面和夾層各涂有一層導電層，最外層是一薄層矽土玻璃保護層。當我們用手指觸摸在感應屏上的時候，人體的電場讓手指和和觸摸屏表面形成一個耦合電容，對于高頻電流來說，電容是直接導體，于是手指從接觸點吸走一個很小的電流。這個電流分從觸摸屏的四角上的電極中流出，并且流經(jīng)這四個電極的電流與手指到四角的距離成正比，控制器通過對這四個電流比例的精確計算，得出觸摸點的位置。電

2、容觸摸屏分類o 表面電容式o 由一個普通的ITO層和一個金屬邊框，當一根手指觸o 摸屏幕時，從面板中放出電荷。感應在觸摸屏的四角o 完成，不需要復雜的ITO圖案o 投射電容式感應電容式）o 采用1個或多個精心設計的、被蝕刻的ITO層，這些ITO層通過蝕刻形o 成多個水平和垂直電極o 自感應電容式o 互感應電容式電容觸摸屏分類自感應電容觸摸屏結(jié)構(gòu)互感應電容觸摸屏結(jié)構(gòu)鍍膜基板ITO鍍膜金屬鍍膜Sputter原理圖Remark：金屬鍍在錫面 基板上光阻曝光顯影Mask光阻蝕刻去光阻ITO蝕刻-單面制程ITO 基板上光阻曝光 顯影(搭橋)上光阻曝光金屬蝕刻-單面制程鍍金屬層顯影蝕刻去光阻搭橋所用光阻為負光阻，ITO&金屬蝕刻使用正光阻搭橋結(jié)構(gòu)示意圖ITO絕緣材料金屬 基板上光阻曝光顯影Mask光阻蝕刻去光阻金屬蝕刻-雙面制程(Metal First)金屬ITO 基板上光阻曝光顯影蝕刻去光阻金屬面ITO蝕刻-雙面制程 基板上光阻曝光顯影蝕刻去光阻非金屬面ITO蝕刻-雙面制程雙層結(jié)構(gòu)示意圖金屬面ITO金屬非金屬面ITO 網(wǎng)印可剝膠鍍SiO2不鍍SiO2 切割功能測試后段流程介紹ICSensorACF

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