半導體集成電路知識產(chǎn)權的法律保護

1、半導體集成電路知識產(chǎn)權的法律保護郭 禾 中國人民大學法學院 教授上傳時間:2004-6-5摘要集成電路作為一種工業(yè)產(chǎn)品應當受到相關知識產(chǎn)權法的保護。但是,傳統(tǒng)的知識產(chǎn)權法律,如專利法、著作權法、商標法等均難以給予其適當?shù)谋Ｗo。于是有國家提出了特別法保護的模式。本文具體論述了專利法、著作權法、商標法、外觀設計法等可能給集成電路提供的保護及這些保護方式存在的問題。在此基礎上對特別法保護模式和集成電路布圖設計權的屬性進行了具體分析,進而推定布圖設計權在知識產(chǎn)權體系中的地位。布圖設計權作為一種獨立的知識產(chǎn)權,其專有效力居于專利權與著作權之間。關鍵詞集成電路;布圖設計權;知識產(chǎn)權現(xiàn)代信息技術以計算機技術

2、為基礎。而所謂計算機技術分為軟件技術和硬件技術。關于軟件技術對知識產(chǎn)權制度的影響,本文不予討論。而在硬件技術中,集成電路技術則是最為重要的核心技術。早在20世紀70年代末,美國就曾有人斷言:“像現(xiàn)在(石油輸出國組織)左右世界一樣,將來掌握了半導體技術的國家將左右整個世界?！?正因為如此,各國對于集成電路的開發(fā)都給予了足夠的重視。但與此同時,也有一些廠商采取非法手段獲取他人技術秘密或者仿制他人產(chǎn)品,以牟取暴利。一般而言,開發(fā)一種普通的超大規(guī)模集成電路至少需要投入數(shù)百萬美元,花費兩三年的時間2;而非法仿制則只需花兩三萬美元,不到半年的時間,不法廠商便可以低價傾銷其產(chǎn)品。這種情況致使研制開發(fā)商血本無

3、歸。因此,不少國家呼吁加強集成電路的法律保護。我國政府曾積極參與起草世界知識產(chǎn)權組織關于集成電路的知識產(chǎn)權條約,并努力促成了該條約通過。中國加入世界貿(mào)易組織后,與貿(mào)易有關的知識產(chǎn)權協(xié)議就對中國有了約束力,其中也包括集成電路知識產(chǎn)權的法律保護。為保護集成電路知識產(chǎn)權,我國已頒布了集成電路保護條例。討論集成電路的知識產(chǎn)權保護問題不僅有理論意義,更具有現(xiàn)實意義。集成電路是一種電子產(chǎn)品,是指將晶體管、電阻、電容等其他元器件及其相互的連線固化在一固體材料上,從而使其具備某種電子功能的成品或半成品。集成電路一般分為混合集成電路和半導體集成電路。其中,半導體集成電路無論在用途、功能、產(chǎn)量、市場份額等方面都絕

4、對占有統(tǒng)治地位,以至于人們常常以半導體集成電路作為電子工業(yè)發(fā)展水平的里程碑或者標志。20世紀50年代以來,電子計算機的發(fā)展就一直是以集成電路的發(fā)展水平作為其標志的。3本文中所稱集成電路除特別注明外,均指半導體集成電路。一、傳統(tǒng)知識產(chǎn)權法對集成電路的保護1.專利法的保護原則上講,凡工業(yè)產(chǎn)品只要滿足專利法的有關規(guī)定,就可以受到專利法的保護。但是,由于集成電路產(chǎn)品自身的特點,使其絕大多數(shù)難以滿足專利制度所提出的要求。具體地講,主要在于專利法所規(guī)定的保護條件,對于集成電路而言過于苛刻。無論在哪個國家,其專利法都要求受保護的技術方案必須具備實用性、新穎性和創(chuàng)造性。集成電路產(chǎn)品對于實用性和新穎性要求都不會

5、有太大問題,問題的癥結在于創(chuàng)造性。依照專利法的要求,具備創(chuàng)造性的產(chǎn)品必須在技術上具有突出的實質性特點和顯著的進步。也就是說,對于本專業(yè)普通技術人員而言,該集成電路在設計上必須不是顯而易見的,或者說不是從現(xiàn)有技術中通過常規(guī)的邏輯推理所必然得出的結果。這一要求導致大多數(shù)集成電路品種無法得到專利法的保護。具體原因有:第一,集成電路的制造者和使用者,在通常情況下最為關心的是集成電路的集成度或者集成規(guī)模的大小,也就是一個集成電路芯片()上所包含的電子元器件數(shù)量的多少。集成規(guī)模的大小不僅是集成電路本身技術水平高低的標志,而且計算機劃代也是以其硬件所采用的不同規(guī)模的集成電路為標準的。世界上僅有少數(shù)幾家企業(yè)正

6、在生產(chǎn)或研制256位和1位以上的芯片,這是目前集成度最高、技術上最先進的芯片。但是,如果就這種產(chǎn)品作為一個整體去申請專利,未必都能通過創(chuàng)造性審查,因為簡單的規(guī)模擴展是不具備創(chuàng)造性的。半導體存儲器從大規(guī)模到超大規(guī)模,繼而再到特大規(guī)模、巨大規(guī)模,盡管在一定階段其設計方案會有一些變化或改進,但從存儲器整體上看,其基本技術在相當大程度上仍為已有技術。因此,它未必能作為一個整體受到專利法的保護。集成電路產(chǎn)業(yè)中用來衡量技術發(fā)展水平的標準集成度,與專利法中的創(chuàng)造性標準間的關系并不協(xié)調。其表現(xiàn)為,集成度高的集成電路產(chǎn)品未必就一定具備專利法上的創(chuàng)造性。第二,在集成電路設計中,尤其是設計一些規(guī)模較大的電路時,設計

7、人常常采用一些現(xiàn)成的單元電路進行組合。如今,設計集成電路布圖全部采用計算機輔助設計()方法,有關的常規(guī)單元電路均被收入工具之中。這些單元電路在實踐中已為人們所熟知,其中一些已經(jīng)是最優(yōu)化設計,其表現(xiàn)形式是有限的,甚至是惟一的。有時候,設計人為了追求電路的最佳功能狀態(tài)可能只有一種選擇,即采用這些已經(jīng)成型的單元電路。事實上,現(xiàn)在已沒有人再用傳統(tǒng)的刻制紅膜的方法制作版圖?，F(xiàn)在的集成電路布圖設計幾乎都是以“搭積木”的方式將現(xiàn)有的電路單元組合而成。在專利法中,由各種現(xiàn)有單元電路模塊組合成的集成電路即可視為一種組合發(fā)明。這類單元電路組合所得結果,在通常情況下根據(jù)已有知識可以事先預測,不會產(chǎn)生意想不到的結果。

8、而在專利審查中,組合發(fā)明要通過創(chuàng)造性審查,必須取得對該發(fā)明創(chuàng)造所屬技術領域的普通技術人員來說是預先難以想到的效果。4這對大多數(shù)集成電路產(chǎn)品來講,是難以達到的。以上兩種情況在集成電路設計中是十分常見的。這使眾多集成電路因為創(chuàng)造性達不到要求而不能受到專利法的保護。尤其是第一種情況,可能會導致最先進、最尖端的集成電路產(chǎn)品得不到法律保護。當然,這絕不意味著所有的集成電路發(fā)明創(chuàng)造都不受專利法保護,那些確實具備創(chuàng)造性的集成電路產(chǎn)品仍可申請專利以尋求保護。比如,第一個發(fā)明電荷耦合器件()的發(fā)明人便可就其發(fā)明創(chuàng)造申請專利,因為在其發(fā)明時與原有的其他器件相比確有其實質性特點。應當承認,專利法作為保護技術方案的傳

9、統(tǒng)法律,在保護的力度上確實十分強。如能獲得專利權,仍為保護集成電路產(chǎn)品的上佳選擇。盡管大多數(shù)集成電路產(chǎn)品獲得專利存在著一定的困難,但對制造集成電路的工藝技術,仍可作為方法專利獲得保護。僅靠方法專利不可能使集成電路得到充分保護。因為在同樣的工藝下,改變布圖設計便可生產(chǎn)出不同的集成電路芯片或產(chǎn)品;反過來,相同品種的集成電路也可用不同的工藝方法來制造。比如,離子注入技術既可用在淺結微波電路制造中,也可用于生產(chǎn)半導體存儲器。即便是方法專利的效力延及用該方法制造的產(chǎn)品,制造商也很容易規(guī)避方法專利的侵權問題。專利法固然在原則上可以適用于集成電路的保護,但在實際操作中仍然存在著不盡如人意的地方。因為集成電路

10、產(chǎn)品在技術構成方面更注重規(guī)模的擴張,即量的增加。而專利法的創(chuàng)造性條件則要求受保護的發(fā)明創(chuàng)造必須具備質的變化,即必須具備其自身的實質性特點。這一要求便把眾多集成電路產(chǎn)品擋在了專利法大門之外。2.著作權法的保護正因為專利法對集成電路的保護不盡如人意,人們不得不另辟蹊徑來保護集成電路。1979年,美國眾議院議員愛德華()、麥克羅斯基()和米內塔()三人聯(lián)合首次提出采用修改著作權法的方式來保護集成電路芯片的議案。這一議案要求拓寬著作權法的保護范圍,即將著作權法的保護范圍擴充到集成電路的掩模圖形。（3）通過保護布圖設計的方式來達到保護集成電路的目的。由于著作權法的保護從不涉及作品的實用功能,故在聽證會上

11、這一議案引起了激烈的爭論。反對者認為用著作權法保護集成電路將構成對技術開發(fā)的限制。因為在芯片開發(fā)過程中,常采用反向工程的方法來了解其他廠商的產(chǎn)品性能和技術水平,從而開發(fā)出與已有芯片兼容或性能更優(yōu)越的產(chǎn)品。若用著作權法保護集成電路,則實施反向工程的行為即構成侵權。他們還認為,此議案將使美國的集成電路工業(yè)淪為弱者,因為該議案只能禁止美國境內實施反向工程行為,而地處美國境外的制造商則不受此限制。5最后,這一議案被否決。所謂布圖設計是指一種體現(xiàn)了集成電路中各種電子元件(包括有源元件和無源元件)的三維配置方式的圖形。這種“配置方式”本身是可以以一種信息狀態(tài)存在于世的,不像其他有體物占據(jù)一定空間。但當它附

12、著在一定的載體上就可為人所感知。布圖設計在集成電路芯片中表現(xiàn)為一定的圖形。同樣,在掩模版上,布圖設計也是以圖形方式存在的。計算機輔助設計技術的發(fā)展,使布圖設計可以數(shù)字化代碼的方式存儲在磁盤或磁帶中。在計算機控制的離子注入機或者電子束曝光裝置中,布圖設計也是以一系列的代碼方式存在。人們可通過一定的設備感知這些數(shù)字化代碼信息。在不同的載體上,布圖設計可以不同的信息狀態(tài)存在。制造集成電路的過程就是把布圖設計所表現(xiàn)的圖形結構通過特定的工藝方法,如刻蝕、摻雜等,“固化”在硅片之中。由于集成電路必須根據(jù)其功能需求設計,因而不同功能的集成電路,其布圖設計也是不同的。從這個意義上說,通過對特定布圖設計的保護也

13、就實現(xiàn)了對特定集成電路的保護。愛德華等的議案盡管被美國國會否決,但它對后來集成電路保護的立法仍然有重要意義,因為它首次提出了通過保護布圖設計的方式來實現(xiàn)保護集成電路的目的的思想。集成電路設計制造過程中的每一步都與布圖設計密切相關。而布圖設計又具有著作權保護對象所必須具備的可復制性這一特征。當載體為掩模版時,只需對全套掩模版加以翻拍,即可復制出全部的布圖設計。當布圖設計以磁盤或磁帶為載體時,同樣可以用通常的磁帶或磁盤拷貝方法復制布圖設計。當布圖設計被“固化”到已制成的集成電路產(chǎn)品之中時,仍然以圖形方式存在,仍可采用“反向工程”或“還原工程”的方法加以復制。正是這種可復制性直接導致了著作權法的某些

14、保護原則和手段可以適用于集成電路布圖設計。但是,布圖設計畢竟不同于普通作品,將這種具有實用性的布圖設計單純地依靠著作權法所能提供的方式來保護,其結果肯定難如人意。從理論上講,主要表現(xiàn)在以下幾個方面。第一,集成電路布圖設計的價值,主要體現(xiàn)在其實用功能上,這已超出著作權法所保護的范圍。采用先進的布圖設計便可能生產(chǎn)出性能優(yōu)良的集成電路,從而給布圖設計的使用人帶來豐厚的利益。真正有價值的是那些在技術上確實先進的布圖設計。布圖設計的價值依托于包含在布圖設計中的技術因素之中,真正需要保護的也正是這種技術因素。但這是著作權法所不能及的。長期以來,在工業(yè)產(chǎn)權和著作權之間一直存在著一條非常明確的界限,即實用與非

15、實用的二分法。著作權法所調整的對象僅限于非實用的作品。傳統(tǒng)意義上的作品在其構成上也僅為非實用的符號按特定規(guī)則的組合。即使某些組成部分存在著工業(yè)產(chǎn)權上的實用功能,當其被作為作品看待時,也僅僅將該組成部分作為非實用的符號看待,而不去理會其實用功能。這對布圖設計而言顯然不妥。比如,在設計集成電路布圖時,圓形結的擊穿電壓較之矩形結的擊穿電壓要高。這導致在布圖設計中不同圖形會有不同的技術效果。著作權法對于這種技術效果顯然無能為力。第二,著作權法對所保護的對象沒有像專利法中的新穎性和創(chuàng)造性要求,這種保護模式不利于技術進步和創(chuàng)新。對作品而言,只要是作者獨立創(chuàng)作完成的,不論其藝術水平高低,也不論此前是否有相同

16、或類似作品問世,一律受到著作權法的保護。而集成電路布圖設計具有極為濃厚的技術色彩,其價值的高低取決于該布圖設計在技術上的難和新。法律應當保護那些在技術上有一定難度或者有所創(chuàng)新的布圖設計。如果對那些平庸的、為專業(yè)技術人員所熟知的布圖設計進行保護, 不僅起不到促進技術發(fā)展進步的作用,反而會扼制技術人員在現(xiàn)有技術基礎上進一步創(chuàng)新,這與立法保護集成電路的宗旨是相悖的。第三,采用著作權法保護布圖設計,可能導致破壞思想與表現(xiàn)二分原則的后果。對于普通作品,其表現(xiàn)形式通常是沒有限制的,同一思想或觀點,不同的作者可以采用完全不同的形式來表達。而集成電路不同于作品,它是一種電子產(chǎn)品,其電子功能的實現(xiàn)有賴于布圖設計

17、特定圖形的組合。換言之,布圖設計直接與一定的電子功能相聯(lián)系,因此受到來自技術、功能、材料、自然規(guī)律等諸多因素的制約。這種表現(xiàn)形式的有限性主要表現(xiàn)在以下幾個方面:(1)布圖設計圖形的形狀及其大小受到集成電路功能參數(shù)要求的限制。比如,用于功率放大的集成電路,其中功放管圖形的面積必須較大,使之得以承受大電流的沖擊;具有較高的擊穿電壓的集成電路,其晶體管的基區(qū)圖形設計通常為圓形,這有利于克服結面曲率半徑較小處電場過強的影響。(2)布圖設計還受著生產(chǎn)工藝水平的限制。為了提高集成電路的集成度或者追求高頻特性,常常需將集成電路中各元件的面積減小。這樣,布圖設計的線條寬度也相對較細。但如果將線條設計得太細,以

18、致工藝難度太大,將會大大地降低集成電路成品率和可靠性,這是極不經(jīng)濟的。相反,一味地追求功率參數(shù),將芯片面積增大,也會降低集成電路的成品率。因為芯片材料的缺陷密度與材料的制作工藝水平直接相關。芯片面積越大,其中包含缺陷的概率也越大,從而導致成品率降低。(3)布圖設計還受到一些物理定律以及材料類及其特性等多種因素的限制。比如,晶體管可能因為基區(qū)自偏壓效應而導致梳狀發(fā)射極間的電位不等。為克服基區(qū)自偏壓效應,則需在布圖設計中加上均壓圖形等。所有這些都可能限制布圖設計的表現(xiàn)形式。將這樣一種表現(xiàn)形式可能有限的布圖設計作為著作權法的保護對象顯然是不妥的。這違背了思想與表現(xiàn)的二分原則。因為對這種有限的表現(xiàn)形式

19、的保護,必然導致對思想的壟斷。第四,依照著作權法,實施“反向工程”的行為將被禁止。未經(jīng)著作權人同意,任何人不得隨意復制他人作品。由此可以推知,實施“反向工程”的行為是違背著作權法規(guī)定的。然而,在集成電路產(chǎn)業(yè)中,反向工程的方法已成為世界各國廠商普遍采用的了解他人產(chǎn)品信息,進而開發(fā)出兼容或者更為先進的產(chǎn)品的一種手段。這對產(chǎn)業(yè)發(fā)展和技術進步是十分必要的。如果實施反向工程,不是單純地為復制他人布圖設計以便仿制他人產(chǎn)品,而是通過解剖、分析,了解他人產(chǎn)品的功能、參數(shù)特性,以便設計出與之兼容的產(chǎn)品,或者在他人產(chǎn)品的基礎上做進一步的改進,從而制造出在技術上更加先進的集成電路,則應當認為是合理、合法的。雖然著作

20、權法中已有合理使用的規(guī)定,但合理使用僅僅適用于復制他人作品的一部分,或者完全屬于個人使用的目的。而反向工程則可能會復制出他人集成電路的全部布圖設計,并且可能是為進一步開發(fā)新的商業(yè)化產(chǎn)品做準備。故而,布圖設計的保護不宜直接照搬著作權法中有關復制權、演繹權的規(guī)定,而應當在一定條件下給予實施反向工程的特許。事實上,允許在一定條件下實施反向工程的規(guī)定,更類似于專利法中關于改進發(fā)明的規(guī)定。作為工業(yè)產(chǎn)權保護對象之一的專利技術是對全社會公開的。專利法設置專門的公開渠道,是為了便于他人在現(xiàn)有技術的基礎上完成更新更優(yōu)的發(fā)明創(chuàng)造。如果也像專利法一樣規(guī)定專門的公開程序將布圖設計圖形公之于世,權利人將難以控制其布圖設

21、計。權利人不僅會在產(chǎn)品的成本方面喪失優(yōu)勢,甚至會連搶占市場的時間優(yōu)勢都喪失殆盡。因此,在布圖設計保護制度中不宜專門設立公開渠道。但是,保護布圖設計的終極目的畢竟還是為了促進技術進步,因此還應當照顧到公共利益,以便他人在一定程度上可以借鑒現(xiàn)有的先進技術。在一定條件下的反向工程的特許便是起著與專利法中公開程序等效的作用。這是對公眾利益的一個補償。法律應當允許有關當事人為分析、研究集成電路的技術、特性目的而復制他人布圖設計的行為,但并不允許將復制的布圖設計直接再投入集成電路的生產(chǎn)。對于反向工程的特許,是考慮到現(xiàn)階段技術發(fā)展水平、平衡權利人和公眾利益的結果。這種平衡并非永恒的,它必將隨著生產(chǎn)力的進步而

22、被打破。到那時,法律必將通過修訂在新的條件下尋求一個新的平衡支點。以上幾個方面足以說明,盡管布圖設計在外在特征上具備作品的可復制性,但若直接適用著作權法保護布圖設計肯定達不到預期的目的。3.其他知識產(chǎn)權法的保護在現(xiàn)有的知識產(chǎn)權法框架中,還有實用新型法、外觀設計法、商標法、反不正當競爭法、商號或企業(yè)名稱保護法、原產(chǎn)地名稱保護法,等等。其中有的法律與集成電路不相干,如原產(chǎn)地名稱保護制度與集成電路這種純粹的工業(yè)產(chǎn)品間似乎沒有關系,不可能用來保護集成電路或者布圖設計。在現(xiàn)有的諸多知識產(chǎn)權法律門類中,實用新型法雖然是保護技術產(chǎn)品的法律,但是絕大多數(shù)國家和地區(qū)(法國、澳大利亞等國除外)的法律都要求受保護的

23、實用新型都必須是具備固定形狀或者結構的產(chǎn)品;有的還要求實用新型也必須具備創(chuàng)造性。而集成電路產(chǎn)品的創(chuàng)新點往往并不體現(xiàn)在產(chǎn)品的外在結構和形狀上,加之集成電路在創(chuàng)造性標準上可能難以過關,一些國家實用新型的保護期又非常短,故從總體上看實用新型法似乎并不適合集成電路的保護。 外觀設計法所保護的是產(chǎn)品的新穎外觀。而集成電路產(chǎn)品似乎并不靠外觀來招徠客戶,況且集成電路的外觀往往千篇一律,猶如蜈蚣般的眾多的插腳或管腿從一小塊薄薄的塑料片或陶瓷片的兩邊或四周伸出。這樣的設計毫無新意可言。即使就集成電路芯片而言,盡管在芯片表面上附著集成電路的最上層的布圖設計圖形,但恐怕任何一個國家的外觀設計法都不會對這種只有在顯微

24、鏡下才能看清楚的圖形加以保護。商標法的保護對象決無任何技術成分可言。商標法所保護的只是特定標記與特定產(chǎn)品間的聯(lián)系。很顯然這不是集成電路保護所討論的問題。不過,商標法仍可以從商標的角度對集成電路給予保護。這就是商標權人可以在其商品或商品的包裝、裝潢、廣告中使用其商標,并可禁止他人未經(jīng)其許可在相同或者類似商品上使用該商標。對于集成電路而言,權利人還可將其商標使用在布圖設計上。至于反不正當競爭法、商號或企業(yè)名稱保護法等在集成電路保護上所發(fā)揮的作用應當與在其他領域中的作用相當。無論是詆毀他人商業(yè)信譽、竊取他人商業(yè)秘密,或者盜用他人企業(yè)名稱等,在集成電路產(chǎn)業(yè)中的表現(xiàn)一般不具有特殊性。惟有布圖設計的圖形上

25、可以刻上文字或者圖形,這使企業(yè)名稱權的行使多了一種方式。由于現(xiàn)行知識產(chǎn)權法律框架中的所有門類在保護集成電路方面都存在著各自的問題,致使人們對集成電路保護方式爭論不休,最終選擇了以特別法的方式保護集成電路。1984年11月8日,美國頒布了半導體芯片保護法,該法列在美國法典第17編第9章,但并不屬于第17編中的版權法,而是一部獨立的法律。這是世界上第一部專門的集成電路保護法。此后,日本、西歐各國相繼效仿,都以特別法的形式頒布了各自的集成電路保護法。日本在1985年,瑞典在1986年,聯(lián)邦德國、法國、荷蘭、英國、丹麥等國在1987年,西班牙、奧地利、盧森堡在1988年,葡萄牙、意大利在1989年均已

26、立法保護集成電路。比利時也于1990年頒布了集成電路保護法。歐共體在1986年曾發(fā)布過關于集成電路保護的指令。有學者認為,美國半導體芯片保護法是繼拿破侖法典之后,為各國法律引用最多的法律。6我國政府長期以來對集成電路知識產(chǎn)權保護問題給予高度重視。在積極參與華盛頓條約制定的同時,便開始研究國內立法的問題。1991年由原電子工業(yè)部牽頭,成立了集成電路布圖設計保護條例起草組。起草組研究了當時各國已經(jīng)頒布的有關集成電路保護的法律,并對比了華盛頓條約與世界貿(mào)易組織的協(xié)定,經(jīng)過十年的努力,完成了立法任務。在2001年3月28日國務院第36次常務會議上,我國的集成電路布圖設計保護條例獲得通過,于4月2日以國

27、務院第300號令的形式公布。這個條例的公布,不僅標志著我國已經(jīng)結束了集成電路布圖設計保護無法可依的時代,同時也直接反映出我國政府迎接信息時代、發(fā)展信息產(chǎn)業(yè)的決心。二、布圖設計權及其在知識產(chǎn)權體系中的地位1.布圖設計權的內容從各國及國際組織已頒布的國內法和國際法中對于布圖設計權的規(guī)定來看,布圖設計權在內容上可分為兩大部分,即復制權和商業(yè)實施權。所謂“復制權”是指布圖設計權人有權復制或許可他人復制其布圖設計之一部或全部;除法律另有規(guī)定外,未經(jīng)權利人許可,任何第三人不得復制受保護的布圖設計,無論是復制局部或者全部。這里的復制權的外在表現(xiàn)與著作權法中的復制權相同,但仔細研究其效力,還是有一定差別的。在

28、集成電路產(chǎn)業(yè)界,采用反向工程的方法了解他人產(chǎn)品已成為慣例。如果簡單地對此加以限制,必將抑制集成電路技術的發(fā)展速度。所以,布圖設計保護法中把利用反向工程而復制的行為作為例外來處理,這與著作權中的復制權是不同的。即單純?yōu)榉治?、研究或者教學目的而復制他人受保護的布圖設計不視為侵權。不僅如此,為了鼓勵技術改進,對于在此基礎上,根據(jù)分析、研究結果再設計出具有獨創(chuàng)性的布圖設計也不視為侵權。臺灣地區(qū)積體電路線路布局保護法明確了“為研究、教學或反向工程目的,分析、評估他人之電路布局,而加以復制者”不侵害布圖設計權。世界上其他國家和國際組織制定的國內法和國際條約中無不有類似規(guī)定。我國的集成電路布圖設計保護條例亦

29、有類似規(guī)定。在集成電路保護法中單獨設置一項布圖設計的復制權,是為了適應集成電路產(chǎn)業(yè)化分工越來越細的發(fā)展趨勢。集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展到今天,已逐漸分化成三大組成部分,即設計業(yè)、芯片制造業(yè)和后道封裝業(yè)。這導致集成電路設計逐漸獨立出來成為專門的一個行業(yè)。這種分化是集成電路產(chǎn)業(yè)走向成熟的表現(xiàn)。因此,在法律上應當對這種分工精細化予以肯定。為了充分地保護設計人的權益,有必要專門規(guī)定布圖設計的復制權。所謂“商業(yè)實施權”是指布圖設計權人可以或者授權他人將其受保護的布圖設計投入商業(yè)實施;反過來,布圖設計權人有權禁止他人將受保護的布圖設計投入商業(yè)實施。布圖設計的價值只能通過商業(yè)實施來實現(xiàn),如果布圖設計人不享有這一權利,

30、就難以充分保護其權益。探討商業(yè)實施權至少應當從兩個方面來考慮,一是從權利內容,二是從權利效力。商業(yè)實施權可以包括這樣一些內容:布圖設計權人有權為商業(yè)目的進口、銷售、出租、許可實施或者為進口、銷售、出租、許可實施而展示以及以其他方式擴散受保護的布圖設計,或者禁止他人未經(jīng)其許可而有前述行為。這就是說,布圖設計權人可以享有進口權、銷售權、出租權、許可權、展示權等權利。但在實踐中,并非所有國家和地區(qū)在法律上都對這些權利作了詳細的規(guī)定,有關集成電路的國際條約也沒有這樣詳細的規(guī)定權利內容。一般而言,國內法未作詳細規(guī)定往往是出于各國國情的考慮,而國際法未作詳細規(guī)定則常常源于考慮到各方利益后的妥協(xié)。比如,在歐

31、洲最早頒布集成電路保護法的瑞典在其半導體產(chǎn)品電路的布圖設計保護法7第1條中就明文規(guī)定:“任何創(chuàng)作了半導體電路布圖設計的人享有如下權利:通過銷售、出租、出借或任何其他向公眾擴散的方式使布圖設計或者包含有布圖設計的產(chǎn)品可被公眾獲得?！痹谶@一規(guī)定中,明確了銷售、出租、出借等項權利,再加之以“任何向公眾擴散的方式”,可謂滴水不漏。瑞典制定集成電路保護法并不是因為歐共體發(fā)出了指令,而是因為其國內自身的需求。這從其國內法與歐共體指令發(fā)布的時間上可以看出。（4）臺灣地區(qū)的積體電路線路布局保護法中對于權利內容的規(guī)定看似簡潔,但其內容并不簡單。該法第17條規(guī)定:“電路布局權人專有排除他人未經(jīng)其同意而為左列各款行

32、為之權利:一、復制電路布局之一部或全部。二、為商業(yè)目的輸入、散布電路布局或含該電路布局之積體電路?！币来艘?guī)定,布圖設計權人享有進口權和散布權兩項內容。而所謂“散布”依法是指:“買賣、授權、轉讓或為買賣、授權、轉讓而陳列”（5）?？梢姴煌瑖液偷貐^(qū),對于實施權的界定是不同的。從權利效力上看,商業(yè)實施權的效力原則上可以延伸到直接使用布圖設計的物品,比如,集成電路產(chǎn)品或者含有布圖設計的磁盤、磁帶、掩模板等物質載體。對此,各國法律以及現(xiàn)有的相關國際條約均無異議。關鍵在于這一權利的效力能否無限制地延伸至使用了包含有受保護的布圖設計的集成電路的物品。比如一臺電子儀器,它本身并不直接使用布圖設計,但它可能會

33、使用某種集成電路產(chǎn)品,而該集成電路產(chǎn)品中可能包含有受保護的布圖設計。發(fā)達國家主張將布圖設計權的效力無限延伸,希望在任何一個環(huán)節(jié)都可以追究侵權責任;而發(fā)展中國家則主張有限延伸,不希望在電子產(chǎn)品的整機階段還受布圖設計權人的牽制。兩種觀點都有自己的理由。8在國際上對這一問題的協(xié)調完全不可能以“理”服人。各種學術理論在這里只是微不足道、一折即斷的枯枝,因為在這背后有著各自的利益。在這里,真正起決定作用的是“利”,而不是“理”。在世界知識產(chǎn)權組織外交會議上討論集成電路知識產(chǎn)權條約草案時,各方就曾針對權利效力問題爭論不休。到1989年1月31日,草案關于保護范圍中需要取得權利人授權的行為還是:“(1)復制

34、受保護布圖設計(拓撲圖)全部或者實質性部分的行為;(2)在微電子芯片上使用受保護的布圖設計(拓撲圖)或者其實質性部分的行為;(3)為商業(yè)目的進口、銷售或者其他擴散受保護的布圖設計(拓撲圖)或者含有受保護布圖設計(拓撲圖)的微電子芯片,而不管該微電子芯片是作為其他物品的一部分或者單獨進口、銷售或者以其他方式擴散的行為?！辈莅钢械倪@一規(guī)定顯然采取的是權利效力無限延伸的思想。經(jīng)過發(fā)展中國家主要是七十七國集團和中國代表的努力,在最終文本上沒有采用這種寫法,而只將權利效力延伸到直接使用受保護的布圖設計的集成電路產(chǎn)品上。這樣的行文較之上面草案中的內容,權利效力顯然要弱得多。在世界貿(mào)易組織的與貿(mào)易有關的知識

35、產(chǎn)權協(xié)定中,有關集成電路布圖設計的保護范圍被界定為:為商業(yè)目的進口、銷售或者以其他方式擴散受保護的布圖設計、含有受保護的布圖設計的集成電路以及含有該集成電路的物品(僅以其持續(xù)包含非法復制的布圖設計為限)。根據(jù)該協(xié)定,布圖設計權的效力顯然被理解為可以無限延伸。應該說世貿(mào)組織的協(xié)定在整體上反映了發(fā)達國家尤其是美國的意志。而中國已經(jīng)加入世界貿(mào)易組織,因此在集成電路的國內法方面也必須滿足協(xié)定的要求。2.布圖設計權產(chǎn)生的條件考慮到布圖設計既具有圖形作品的外在特征,又兼?zhèn)涔I(yè)產(chǎn)權保護對象的技術功能,其專有權利產(chǎn)生的實質條件,應當既不同于專利法所規(guī)定的新穎性、創(chuàng)造性和實用性條件,也不能完全照搬著作權法中純粹

36、的獨創(chuàng)性要求。一個恰當?shù)姆绞绞遣扇≌壑蟹桨?即在著作權法獨創(chuàng)性原則的基礎上,輔之以一定的創(chuàng)造高度要求。具體而言,就是受法律保護的集成電路布圖設計必須是設計人獨立創(chuàng)造,且這種布圖設計在集成電路行業(yè)中還必須是非普通或者是非常規(guī)的設計。這里的非普通或非常規(guī)比起專利法中的創(chuàng)造性要求要低得多。目前這一原則已為世界上頒布了關于集成電路布圖設計保護法的各國所認可。美國的半導體芯片保護法第902條中對于不具備獨創(chuàng)性或在半導體工業(yè)中司空見慣、普通的或熟知的設計,或者從整體組合來看并無獨創(chuàng)性的這種布圖設計的各類變化形式不給予法律保護?，F(xiàn)有的兩個與集成電路知識產(chǎn)權有關的國際公約也都采用這一原則（6）,我國的立法也不

37、例外。關于布圖設計權產(chǎn)生的形式條件,通常包括以下三點:第一,該布圖設計必須投入商業(yè)實施。集成電路作為一種工業(yè)產(chǎn)品,只有通過商業(yè)實施才能實現(xiàn)其價值,故而這一要求是合情合理的。這與著作權法的要求不同。如果將布圖設計視為一種圖形作品,依著作權法可以不必投入商業(yè)實施,但這時所享有的權利也只能是著作權。第二,受保護的布圖設計必須固化到集成電路芯片中。這一要求是由布圖設計的特性所決定的,因為布圖設計不僅具有著作權保護對象的外在特性,更主要的是還具備工業(yè)產(chǎn)權保護對象的特性。世界知識產(chǎn)權組織關于集成電路知識產(chǎn)權條約對以上兩點予以認可。同樣,世界貿(mào)易組織的知識產(chǎn)權協(xié)議中則直接援引了關于集成電路知識產(chǎn)權條約中的條

38、款。第三,受保護的布圖設計必須辦理登記手續(xù)。布圖設計是一種技術性設計,對于這類保護對象通常要求當事人辦理有關登記手續(xù)。世界各國已頒布的有關法律中都有這一要求。如果國內法不將登記作為權利產(chǎn)生的前提,亦并不違背關于集成電路知識產(chǎn)權條約和與貿(mào)易有關的知識產(chǎn)權協(xié)定的精神。我國集成電路布圖設計保護條例第8條規(guī)定:“布圖設計專有權經(jīng)國務院知識產(chǎn)權行政部門登記產(chǎn)生?！薄拔唇?jīng)登記的布圖設計不受本條例保護。”關于集成電路布圖設計權的保護期問題,世界知識產(chǎn)權組織關于集成電路知識產(chǎn)權條約的最低要求是不低于8年。目前各國立法中多規(guī)定為10年。在世界貿(mào)易組織的知識產(chǎn)權協(xié)議中,關于集成電路布圖設計的保護期規(guī)定為10年。為

39、適應世貿(mào)組織的要求,我國規(guī)定了10年的保護期。3.布圖設計權在知識產(chǎn)權體系中的地位盡管各國的立法在集成電路布圖設計權的效力模式上大多采取了“無限延伸論”的做法,但僅就理論而言,布圖設計權的效力還是不應當采用“無限延伸論”。具體言之,就是布圖設計權的效力在延伸至集成電路產(chǎn)品本身之后,是否還應當更進一步延伸到用集成電路產(chǎn)品組裝出的產(chǎn)品(如儀器、設備等整機)的問題,應當結合布圖設計權在知識產(chǎn)權體系中的地位來進行分析。集成電路保護法所保護的直接對象是布圖設計。因為布圖設計具有作品的外在特征,因此在保護方式中引入了著作權法中的一些原則和方法,比如原創(chuàng)性原則、保護復制權的方法等。這使布圖設計作為一種技術方

40、案比其他技術獲得專利的保護要容易得多。法律是各種社會利益關系的平衡器。對集成電路保護法而言,一方面要保護布圖設計人的利益,另一方面也要考慮到公眾利用集成電路的方便。不能因為保護集成電路布圖設計人的權利,而造成不合理的技術壟斷的局面。與專利權相比,布圖設計權的產(chǎn)生條件已經(jīng)降低了很多。因此,考慮到公眾的利益,布圖設計權人的權利效力或專有性程度就應當比專利權低。相應地,與著作權法相比,由于布圖設計受保護的條件高于著作權法對普通作品的要求,因此布圖設計權的專有性效力就應當高于著作權。這是一種利益平衡的結果,這種利益平衡的原則應當適用于整個法律體系。另一方面,對于專利法而言,任何國家的專利法都要求被授予專利的技術必須清楚、完整