電子行業(yè)廢水研究匯總

1、注：電子行業(yè)包含很多行業(yè)，半導體行業(yè)、電子元件行業(yè)(其中包括電容器、電阻器、電感器、電位器、電路板、電子變壓器、磁性材料和電子敏感元件等)、平板顯示器行業(yè)(其中包括TFT-LCD和PDP等)。半導體行業(yè)廢水研究一、廢水來源在制備晶圓時，需要使用超純水沖洗，無機藥劑需要用到鹽酸、氨水、硫酸和氫氟酸，有機藥劑需要用到光阻劑：乙酸丙二醇單甲基醍酯PGMEA(C6H12。3)和乳酸乙酯EL(C5H10O3)；顯影劑：氫氧化四甲基俊TMAH(C4H13NO);去光阻劑：一甲基-2-比喀NMP(C5H9NO);光阻制程用藥：酚(C6H6O);晶片干燥過程用藥：異丙醇IPA(C3H80)。在使用藥劑的過程中

2、就會產(chǎn)生廢水。二、廢水水質(zhì)1、含氟廢水常見水質(zhì)：分析里白渡度頻平均值碼1.0-3.02.5F-(mg/L)500-30001750SS(mg/L)50300175SO產(chǎn)(mgZL)1000-22001600P0產(chǎn)(mg/L)<532、酸堿廢水酸堿廢水中，常含有SS,所以在處理時需要注意是否另行添加去除顆粒度的設備，或是和研磨廢水合流處理。3、有機廢水4、研磨廢水5、氨氮廢水6、含銅廢水具體水質(zhì)可參看上海華立項目和大連英特爾項目三、出水水質(zhì)1、國家標準污水綜合排放標準2、行業(yè)標準PH6-t企業(yè)度次母揖放口At浮能70企業(yè)或水總推放口生it軍機-BOD，21企業(yè)覆水總措.放口牝?qū)W-穗里COD

3、Cr)90企業(yè)境術自棒放口總氤化勘0.1S企業(yè)現(xiàn)支總州.放口snttw小曲堂K總拜放口被氯企非快表忠擅.里口eft15上帝域表總抻放口0_5企業(yè)梗家總值成口樂怩物9企業(yè)懂表總關放n0.2企W貨表總排我口EM0.1或步產(chǎn)裝置用雌口電結05-'-0.1亭間城上產(chǎn)棺放口總砰02隼聞或生產(chǎn)較量便故口0.5辛閭成一產(chǎn)裝置用/口總保05亭間城生產(chǎn)第置用股口苴艙0.1，.同或13、企業(yè)標準有些企業(yè)考慮到最終排放水質(zhì)要與生活污水合流排放，或是響應國家號召，會出現(xiàn)與國家標準和行業(yè)標準不相同的標準。四、工藝流程參考上海華立項目和大連英特爾項目。電子元件行業(yè)廢水研究一、廢水來源電子元件，以印制電路板行業(yè)為主

4、要介紹對象。技路圖形底片制作丁總底片底片基板f+-制乍工算電工段（化學 銅和一次境炯）外曇線路制作工段表面加工最終處成型工段 理丁轅圖2,考層印制%珞板制作流程在上述印制電路板的過程中，會產(chǎn)生有機廢水、酸性廢水、堿性廢水、含氧廢水、絡合廢水、含銅廢水和研磨廢水。二、廢水水質(zhì)廢水水質(zhì)：表1印制電路板廢水水質(zhì)水量分類表（單位：mg/L,pH除外）序號廢水種類比例（%）PHCODCuNiCNNH3-N說明1磨板廢水153057<30<32絡合廢水3810200300<50化學鍍銅等清洗水，含EDTA等絡合物3高濃度有機廢水36>10500015000210顯影、剝膜、除膠廢液

5、和顯影首級清洗水4一般有機廢水1015<10200600脫膜、顯影工序的二級后清洗水；貼膜、氧化后、鍍錫后以及保養(yǎng)清洗水5電鍍廢水152035<6010506綜合廢水203035803002035一般清洗水7含氧廢水0.11.08103050<200撓性板含氧廢水較多8含銀廢水0.11.025<80<100鍍饃清洗水9含氨廢水1581060200堿性蝕刻清洗水廢液成分序號廢液種類PHCOD總Cu廢液成分1油墨廢液>12500020000沖板機顯影阻焊油墨渣2褪膜廢液>12500020000（38）%NaOH,溶解性干膜或濕膜3化學鍍銅廢液>123

6、00020000200010000CaSO4,NaOH,EDTA,甲醛4掛架褪鍍廢液5M酸5010080000硝酸銅，濃硝酸5堿性蝕刻廢液950100130000150000Cu(NH3)2C126酸性蝕刻廢液2M酸50100150000CuCl2,HCl表2印制電路板廢液分類及成份表（單位：mg/L,pH除外）7褪錫鉛廢液5M酸501001001000Sn(NO3)2,HNO3(或者氫氟酸/氟化氫胺)8微蝕廢液<150100<30000過硫酸鏤APS(過硫酸鈉NPS)+(23)%硫酸；或硫酸+雙氧水9高鎰酸鉀廢液>D20003000100300高鎰酸鉀，膠渣10棕化廢液0.

746)%H2SO4,有機添加劑11預浸廢液酸性501008001500SnCl2,HCl,NaCl,尿素12助焊劑廢液34100002000010002000松香，焊劑載體，活性劑，稀釋劑(熱風整平前使用)13抗氧化劑廢液(OSP)341500010002000烷基苯駢咪座，有機酸，乙酸鉛，CaCg苯駢三氮唾，咪唾14膨脹廢液方10000020000010100有機溶劑丁基卡必醇等15堿性除油廢液>D200080001020堿性，有機化合物，表面活性劑(乳化劑，磷酸三鈉，碳酸鈉)16酸性除油廢液<12000500050300硫酸，磷酸，有機酸，表面活性劑17

8、顯影類廢液>124000300500Na2CO3（褪膜液為NaOH）18廢酸3%酸5010030100H2SO4,HCl,檸檬酸19廢耙液(活化液)<1501004080PdCl2,HCl,SnCl2,Na2SnO3三、出水水質(zhì)1、國家標準污水綜合排放標準2、行業(yè)標準4、企業(yè)標準有些企業(yè)考慮到最終排放水質(zhì)要與生活污水合流排放，或是響應國家號召，會出現(xiàn)與國家標準和行業(yè)標準不相同的標準。四、工藝流程1、廢水處理1)、分流原則：(1)含一類污染物、氧化物等廢水應單獨分流；(2)離子態(tài)銅與絡合態(tài)銅應分流后分別處理；(3)顯影脫膜(退膜、去膜)廢液含高濃度有機物，應單獨分流；一般有機物廢水根

9、據(jù)實際需要核算排放濃度后確定分流去向；(4)含氧化物廢水須避免鐵、饃離子混入；(5)廢液應單獨分流收集；(6)具體分流應根據(jù)處理需要和當?shù)丨h(huán)保部門要求，確定工程的實際分流種類。2)、分步流程(1)銅的去除印制電路板行業(yè)廢水中銅有多種存在形式：離子態(tài)銅、絡合態(tài)銅或螯合態(tài)銅，應按不同方法分別進行去除。離子態(tài)銅經(jīng)混凝沉淀去除。絡合態(tài)或螯合態(tài)銅經(jīng)過破絡以后混凝沉淀去除。1.1 離子態(tài)銅去除基本流程：含銅污泥圖1離子態(tài)銅的化學法處理流程中和混凝時設定控制pH值應根據(jù)現(xiàn)場調(diào)試確定，設計可按pH89進行藥劑消耗計算。1.2 絡合態(tài)或螯合態(tài)銅的去除常用破絡方法有：Fe3+可掩蔽EDTA,從而釋放Cu2+;其處

10、理成本廉價，應優(yōu)先采用。硫化物法可有效去除EDTA-Cu,過量的S可采用Fe鹽去除；Fenton氧化可破壞絡合劑的部分結構而改變絡合性能；重金屬捕集劑是螯合劑，能形成更穩(wěn)定的銅螯合物并且是難溶物；離子交換法可交換離子態(tài)的螯合銅，并將其去除。生化處理可改變絡合劑或螯合劑性能，釋放Cu2+,具有廣泛的適用性。具體設計應根據(jù)試驗結果確定破絡工藝。1.3 破絡反應基本流程絡合銅 廢水含銅污泥生化處理 或排放圖2絡合銅的基本處理流程三價鹽可掩蔽主要的絡合物EDTA;輔助破絡反應可采用硫化鈉，按沉淀出水Cu<2.0mg/L投加量控制；生化處理應便于排泥，以排出生化處理破絡后形成的銅沉淀物。如絡合銅廢

11、水在常規(guī)破絡后可達到排放要求，則不需進入生化系統(tǒng)處理。如果沒有破壞或者掩蔽絡合劑，絡合銅廢水處理后宜單獨排至出水計量槽，以免形成新的絡合銅。(2)氧化物的去除2.1 氧化物廢水的處理宜采用二級氯堿法工藝。破鼠后的廢水應再進行重金屬的去除。2.2 破鼠基本流程氧化劑氧化劑含氧廢水酸堿圖3含氧廢水基本處理流程2.3 處理含氧廢水的氧化劑可采用次氯酸鈉、漂白粉、漂粉精、二氧化氯、雙氧水或液氯。理論有效氯投加量：CN:NaClO=1:7.16。實際由于廢水中還有其它還原物或有機物會消耗有效氯，投藥量宜通過試驗確定。2.4 反應pH值條件：一級破鼠控制pH值1011,反應時間宜為(1015)分鐘；二級破

12、鼠控制pH值6.57,反應時間宜為(1015)分鐘。2.5 自動控制ORP參考值：一級破鼠約(+200+300)mV,二級破鼠約(+400+600)mV。由于廢水中所有還原性物質(zhì)都可能與氧化劑發(fā)生反應，因此對于實際ORP控制值，應根據(jù)CN的剩余濃度現(xiàn)場試驗確定。設定ORP值的原則是既保證殘余CN濃度小于排放要求，又不浪費氧化劑。(3)有機物的去除有機物的主要來源是膜材料(干膜或濕膜)、顯影廢液、油墨中的有機物和還原性無機物。高濃度有機物廢水主要來自褪膜廢液、顯影廢液和首次沖洗水。因其COD濃度高也稱為有機廢液、油墨廢水。3.1 脫膜、顯影廢液應首先采用酸析處理。酸析反應控制pH值35,具體數(shù)值

13、可現(xiàn)場調(diào)整確定。設定的原則是去除率提高平緩時，不再下調(diào)pH值。酸性條件使得膜的水溶液形成膠體狀不溶物，通過固液分離去除。3.2 酸析后的高濃度有機廢水可采用生化處理，也可根據(jù)情況采用化學氧化處理。3.3 高濃度有機廢水生化工藝基本流程好氧處理須注意控制進水濃度Cu<5.0mg/L,可以將破絡后的絡合廢水進入好氧池一同處理，通過排泥量控制混合液中的Cu<20mg/L。油墨 廢液酸析污泥物化污泥剩余污泥排放或再處理圖4高濃度有機廢水基本處理流程3.4 高濃度有機廢水厭氧處理水力停留時間(HRT)宜24h以上，投配負荷：(2.03.0)kgCOD/(m3?c)以下。33.5 局濃度有機廢

14、水好氧處理HRT宜16h以上，投配負荷：(0.30.6)kgCOD/(m?c)。3.6 除高濃度有機廢水以外的其它含有機物廢水，可直接采用好氧生物處理，HRT宜12h以上。(4)饃的去除4.1 宜采用堿沉淀法去除。4.2 當要求含饃廢水單獨處理并且單獨達標時，中和pH值應控制在9.5以上。(5)NH3-N的去除5.1 好氧生化處理能將NH3轉(zhuǎn)化為亞硝酸鹽氮或硝酸鹽氮，去除氨氮；缺氧反硝化處理可以脫氮。在硝化反應中碳源不足時可人工添加碳源。(6)廢液的處理與處置廢液含高濃度銅、絡合劑、COD和可能的氨、CN、Ni等。Au等貴重金屬廠家應自行回收。6.1 廢酸、廢堿應優(yōu)先作為資源再利用。6.2 蝕

15、刻液應優(yōu)先回收再生并重復使用。6.3 高濃度重金屬廢液應優(yōu)先進行資源回收再生。6.4 廢液宜按不同種類分別收集儲存，有利于回收和處理。6.5 無回收價值的廢液宜采用單獨預處理后小流量進入廢水處理系統(tǒng)。(7)污泥處理與處置7.1 普通清洗廢水處理后的污泥可采用廂式壓濾或帶式壓濾等方式脫水，濾出液返回普通清洗廢水池。7.2 絡合銅廢水采用簡單硫化物沉淀處理的污泥，宜單獨脫水，濾出液返回絡合廢水池。7.3 酸析后的污泥宜采用重力砂濾脫水或帶式壓濾機脫水。7.4 污泥的處置，須按危險廢物并根據(jù)危險廢物的相關規(guī)定進行處置。生化處理的剩余污泥中含有重金屬，禁止農(nóng)用。污泥轉(zhuǎn)移應遵循國家危險廢物管理有關規(guī)定。

16、3)總流程一一一一!一*I圖1S印割電路版償水處理典型I光治程圖2、回用水處理1)回用原則：(1)磨板廢水成份較簡單，可采用銅粉過濾后回用至磨板工序。(2)應采用優(yōu)質(zhì)清潔廢水作為回用水水源，宜按順序優(yōu)先采用電鍍清洗水、低濃度清洗水、一般清洗水。含高有機物、絡合物清洗水不宜作為回用水源。(3)應根據(jù)回用水水質(zhì)要求制訂回用處理工藝。一般宜采用預處理+反滲透工藝；(4)應當核算廢水回用后反滲透的濃水對排放水質(zhì)的影響，并依此調(diào)整廢水分流方式和整體處理工藝。(5)印制電路板企業(yè)應優(yōu)先考慮采用在線回用處理工藝，在線回用處理工藝包括膜法、離子交換法等。(6)一般可將處理達標后的綜合廢水作為回用水處理系統(tǒng)的水

17、源。(7)回用水處理系統(tǒng)的主要工藝過程包括多介質(zhì)過濾、超濾、反滲透等，應綜合考慮進水水質(zhì)、回用水水質(zhì)要求、回用率以及經(jīng)濟技術指標等因素確定合理的工藝組合。(8)回用水處理系統(tǒng)的產(chǎn)水需回用于生產(chǎn)線，水質(zhì)要求視企業(yè)情況而定，通常達到自來水水質(zhì)要求時即可回用至一般清洗工序；濃水可經(jīng)獨立處理系統(tǒng)處理后達標排放，也可將濃水排入生化處理系統(tǒng)作進一步處理。2)回用流程磨板廢水回用：用殖械的將板度小一收集而過他村*±括：仁|二美匕大，電旗M止山荻的甘板喳水.吐汽器-圖”的枚映水同用鉞吧鞫M工豈流程由電鍍廢水回用:取的量水濃水廊章舞臺娛水處理裝統(tǒng)舊J帆罐陵水g用咖HPftPIT芭旅程陽綜合廢水回用:薛

18、臺更水例II典工的EI用水處理I之近程平板顯示器行業(yè)廢水研究一、廢水來源TFT-LCD（薄膜晶體管液晶顯示器件）行業(yè)完整的TFT-LCD的生產(chǎn)工藝路程主要包括：陣列工程（Array）、彩膜工程（CF）、成盒工程（Cell）和模塊工程（Module）三大部分。PDP（等離子顯示器件）行業(yè)PDP的生產(chǎn)工藝路線主要包括：前板制程、后板制程以及組裝二、廢水水質(zhì)TFT-LCD行業(yè)1、Array工程所產(chǎn)廢水:序號村H戈琳使用的優(yōu)學餐fl目成的后事物麻水牲度再殺因干廢氣性不污染因千回收1堂.再基被度霜制離俄mso(二甲不翼1.cajjSO).己u芭iMEA；珥¥CH£Hq為由W電市、伊刁

19、COD.30D屆淡上門機*氣6）VOCi白氏史澄既-*業(yè)通3良,浦四甲尾氨氣地建（TMAHiCHjHNOHi梯整時QK門7r力PCMEi,早千區(qū)呈再_/CH,OCHCH：OHCH乙支PGStEAl內(nèi)二甲電機廢水的5:COD.BODfHXH.-K,性廢«(Oii(CHi的H中7.川端4充鼾粒JlFi主停珀整川器滅石蟹牛察牌照3代打加*七？0紀£，：羊甲里里因二/ch1oce7ch；oh；ch.k-ao*,£rPGMEAl西酉等更4酸?CH3aoeH73,：H0CH：.,HM2S電機現(xiàn)求8D.bod內(nèi)亂底氣V0C15幡精也甲乙基聞內(nèi)二砰.兩二科皿國學元和羋由機虞氣VO

20、Cs1處門同我AIM忡我仁額月明)Z-iCHOOHj詡酸iHNOJ由同戔水pH=第it.m朝a.人84BODiS.7h)展性景氣«幅第初,乙酸CH.COO出.R*(HNOrlE,卻一-W的鼻，若叫同收、7ITOM他橫3.45*-0(703幅忤強水pHi翼i酸性愎r&麻a二H.0.11HND5由卜笠FCODBOD也網(wǎng)世氣VOCsK,化BNF.NF,青fa帆pH.F有害度氣六技化黨西巴LI科策SiH.網(wǎng)S5善氮翼求NH.-N有等康氣14K15中二，PH男氣區(qū)rj-i.h：君醫(yī)用加1tdWWftH困Cli俄忖賽水'R殿聚性國HC1)7r.HMoALAL三峪一rro箕化期45

21、a。；2、CF工程所產(chǎn)廢水序號財利名好士化學物質(zhì)格成的號奧幗度水他L喊密咽于亶氣在質(zhì)沔期及7回性I域璃簞*2PGMEAi幃匕”PGMEAi?1腫主筆觸里CHjDOOCHfCH<HOCH,有利嗑氣VOCi5lTO'££w(m±:*#招線蒙“匐RC1保"仝-HNO.卅網(wǎng)竹打fepH汩利篇象mupt2加死二RGB-。血笈和匍PGME(丙腳玉士”CHOCH,CH(OE)CH.)nKQH：正5#»)有機也rpHCO®BODw唆，riHT座包VOCs>KOW斥我正*55K0H*il伊區(qū)*海)£0國織，比的#面器作常J

22、H、COD«na*tW)d0Pp.BMAGB也總可收3、Cell工程所產(chǎn)廢水序號材料名部磨累假格我嗣的M染物施小件腦另哂子廈氣林情沔染因子I節(jié)嚏網(wǎng)L：掩推AJBWhcetO3£可札比力COD、BOD£出外招2(捧黑地_»皿，百禮后卡8。BOD一,3NMP用甲基川傀毗即1行機虎斗CODBODVOCi冷清壯賽PDP行業(yè)序號L藝環(huán)節(jié)使用恂北學期金期成的污染物MttM厲犀因子或氣性防號鵬因子Htt1已用電林成型幣里.IPA.拜蘇杠首-；：的修，VOCi理斯電橫我輯Ae*#.服VOCi蠅斷電隹或型A身&X,值,必VOCs4揖電體私括鼻事里第、酶在：虎，VO

23、Ci5鼎饋膽野、甲E出空幔，*i,甲量、I?AV一正由停律總憑光世、舉用餐畛乾也木55一7酎臺城塘沱扁臺粒精帕節(jié)琉璃把度水SS一SHMDS六國縣二行之裝：(CH城地圖時心機涉基COD.BOD白機慢氣VOCs9<!'JINTNF備F境水曲F'白身僮/化的F10文更化以浜"匹U訐七¥四阪一5512NH畬覆發(fā)NHNXH,15MT；PH,氧氣叁r*PH.H.量胃.叟水2.M仃號&寸當15wet67起眼HQ17花材MflALAlNdtXErt1,；ITO氨化.也儀心:EDv%J一三、出水水質(zhì)1、國家標準污水綜合排放標準2、行業(yè)標準序號河染立項目本梅程持放

24、取值現(xiàn)有企業(yè)新建企業(yè)1pHJPa-5N融凈物70503"1F；化餐式BOD：3。204化學型¥l'CODcr100805右海賽5.03.56瓢氯15n,息氯20158總讖05仇5?10S10嫌離了會面活性幫50311黑乙螺0J0112甲聿0101二甲0.-10214急事050515一總管200.53總值201417息未0050.W1IR院革汞不用檢出不得檢出19劇果010120總培1.00521六卅格0J0222總神05D.2序號份如物項目本標準抵放陶值現(xiàn)有企業(yè)新建企業(yè)23總船100,5思庫1O0,525總破0.0050.00526總銀02015、企業(yè)標準有些企業(yè)考

25、慮到最終排放水質(zhì)要與生活污水合流排放，或是響應國家號召，會出現(xiàn)與國家標準和行業(yè)標準不相同的標準。四、工藝流程1、TFT-LCD企業(yè)A水質(zhì)：怦號名“水量gg主曹再聚的皿工】1HFRjKSJO融化物=450CODCF470BOD5"«R=15后事一工pHl-3IDFa=500a«=M03整班案本1420：ODcr=StBOD.=20?H=2-114指性期度很»D二QDsEEBOD,=1M,£*=H05省加愎術4170gD=1lOO£OD5=30U6一看如K洌COIXr=SO料H立木做：ODcr=5(rt耳口：DW子帥流程:留HF愛灰盤來有

26、機廢案再乩博一oE|行力撞|-Ci二二-|西色武|相也猛就事1&肉011二一2、企業(yè)Bf癟挈rRn書du強啞的其他流程，可參考BOE項目和南京熊貓項目。電真空行業(yè)廢水研究一、廢水來源在CRT行業(yè)中常用到的酸堿化學試劑有:名稼化學式用途形成的污染因子氫就酸HF玻璃清洗pH.F捻酸HCI逋用PH跋岐H2SO4通用PH硝懶HN5玻璃清洗pH.硝酸靛減磷酸HjPO4通用pH.磷蕊鹽草酸口式士口屋理口涂屏、蒸鋁出鼠培堿酸SOOHjNH,涂層工藝NHrN里格酸胺(NH4)nCrOr徐屏工藝NHr$總輅，C重鉛酸押K2C1O?馀解工藝忠搭.C:次氯酸津1NaClO涂辟工藝笆化物雙氧水涂屏工藝我化物郭輒化鈉NfiOH去油清洗pH,COD，石油類碳酸鈉Na2COi去油清洗pH,COD,石油類磷酸鈉Na3POj去油清洗瞬酸款萩化奴MH1Hp工清洗、滁屏NHj-N.F石鬢涂屏工藝、器加工SS熒光粉（紅粉）卜屏工藝SS熒光粉C眈粉3除屏工之SS熒光粉1綠粉）探屏工藝S$在CRT行業(yè)中常