光電子能譜原理及應(yīng)用

1、北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話： 原理及應(yīng)用X射線光電子能譜（XPS）程程 斌斌北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 1、歷史、歷史n1877年，赫斯（年，赫斯（heinrich Rudolf Hertz）發(fā)現(xiàn)光電效應(yīng)發(fā)現(xiàn)光電效應(yīng)n1907年，年，P.D.Inne用半球磁場(chǎng)和感光板用半球磁場(chǎng)和感光板記錄到不同速度電子記錄到不同速度電子n1954年，瑞典烏普沙拉（年，瑞典烏普沙拉（Uppsala）大）大學(xué)的凱學(xué)的凱.西格班（西格班（Kai M. Siegbahn）領(lǐng)導(dǎo)）領(lǐng)導(dǎo)的研究組得到第一張的研究組得到第一張XPS譜圖

2、譜圖北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） n1969年，凱年，凱.西格班和西格班和HP合作生產(chǎn)出第一合作生產(chǎn)出第一臺(tái)臺(tái)XPS儀器儀器n1981年，凱年，凱.西格班因?qū)ξ鞲癜嘁驅(qū)PS的貢獻(xiàn)獲諾的貢獻(xiàn)獲諾貝爾獎(jiǎng)金貝爾獎(jiǎng)金1、歷史、歷史北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 2、XPS應(yīng)用應(yīng)用n測(cè)定材料表面組成測(cè)定材料表面組成n測(cè)定元素在化合物中的化學(xué)態(tài)測(cè)定元素在化合物中的化學(xué)態(tài)北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 3、原理、原理3.1 光電效應(yīng)光電效

3、應(yīng)bkhvEE電子擺脫原子核束縛所需要的能量電子脫離樣品后的動(dòng)能北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） bE電子結(jié)合能(Binding Energy)原子中的電子變?yōu)檎婵罩械撵o原子中的電子變?yōu)檎婵罩械撵o止電子所需要的能量止電子所需要的能量特定原子、特定軌道上的電子特定原子、特定軌道上的電子的結(jié)合能為定值的結(jié)合能為定值bkEhvE3、原理、原理3.1 光電效應(yīng)北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 3.2 原子內(nèi)層電子的穩(wěn)定性原子內(nèi)層電子的穩(wěn)定性原子上電子分為： 1、價(jià)電子；2、內(nèi)層電子 1）內(nèi)層電子

4、的結(jié)合能在一個(gè)窄的范圍內(nèi)基本是一個(gè)常數(shù)，具有原子的特征性質(zhì)。2）內(nèi)層電子隨著原子化學(xué)環(huán)境的不同，仍有小的可以測(cè)量的變化。決定體系化學(xué)反應(yīng)決定體系化學(xué)反應(yīng)3、原理、原理北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 3.3、電子結(jié)合能化學(xué)位移、電子結(jié)合能化學(xué)位移 電子結(jié)合能位移：電子結(jié)合能位移： 原子的一個(gè)內(nèi)殼層電子的結(jié)原子的一個(gè)內(nèi)殼層電子的結(jié)合能受核內(nèi)電荷和核外電荷分布的的影響。任何引合能受核內(nèi)電荷和核外電荷分布的的影響。任何引起這些電荷分布發(fā)生變化的因素都有可能使原子內(nèi)起這些電荷分布發(fā)生變化的因素都有可能使原子內(nèi)殼層電子的結(jié)合能產(chǎn)生變化。殼層電子的結(jié)合

5、能產(chǎn)生變化。 化學(xué)位移：由于原子處于不同的化學(xué)環(huán)境化學(xué)位移：由于原子處于不同的化學(xué)環(huán)境( (如價(jià)如價(jià)態(tài)變化或與電負(fù)性不同的原子結(jié)合等態(tài)變化或與電負(fù)性不同的原子結(jié)合等) )發(fā)生改變，發(fā)生改變，所引起的結(jié)合能位移。所引起的結(jié)合能位移。 物理位移：由于物理因素物理位移：由于物理因素( (熱效應(yīng)、表面電荷、熱效應(yīng)、表面電荷、凝聚態(tài)的固態(tài)效應(yīng)等凝聚態(tài)的固態(tài)效應(yīng)等) )而引起的結(jié)合能的位移。而引起的結(jié)合能的位移。3、原理、原理北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 3.4、電子自由程、電子自由程 電子自由程為電子自由程為10nm10nm，只有表面上產(chǎn)生的光，

6、只有表面上產(chǎn)生的光電子可以溢出。電子可以溢出。3、原理、原理北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 4、X射線光電子能譜儀射線光電子能譜儀北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 4、X射線光電子能譜儀射線光電子能譜儀4.1 結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 4、X射線光電子能譜儀射線光電子能譜儀4.2 X射線源射線源金屬金屬e ex hvx hvAl k 1486eV Mg k 1253eV Al、 Mg北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京

7、化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 4、X射線光電子能譜儀射線光電子能譜儀 X射線射線Mg Al 能量能量(eV)相對(duì)強(qiáng)度相對(duì)強(qiáng)度能量能量(eV)相對(duì)強(qiáng)度相對(duì)強(qiáng)度K 11253.767.01486.767.0K 21253.433.01486.333.0K 1258.21.01492.31.0K 31262.19.21496.37.8K 41263.15.11498.23.3K 51271.00.81506.50.42K 61274.20.51510.10.28K 1302.02.01557.02.0北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜

8、（XPS） 4、X射線光電子能譜儀射線光電子能譜儀4.3 UHV室分析室室分析室目的：目的： 清潔樣品表面清潔樣品表面 減少空氣分子與電子的碰撞減少空氣分子與電子的碰撞機(jī)械泵擴(kuò)散泵分子泵升華泵機(jī)械泵擴(kuò)散泵分子泵升華泵北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 4、X射線光電子能譜儀射線光電子能譜儀122221R REeVRR4.4 電子能量分析器電子能量分析器R2R1Vke V北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 5、XPS儀一般性能儀一般性能5.1 XPS譜圖譜圖全掃描全掃描光光電電子子數(shù)數(shù)結(jié)合能結(jié)

9、合能北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 高分辨掃描高分辨掃描5、XPS儀一般性能儀一般性能北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 5.2 檢測(cè)元素檢測(cè)元素Li（3）U（92） 5、XPS儀一般性能儀一般性能北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） X X射線光電子能譜射線光電子能譜(XPS)(XPS)4、X射線光電子能譜儀射線光電子能譜儀北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 5.3 測(cè)試厚度測(cè)試厚度金

10、屬金屬 0.5-2nm0.5-2nm氧化物氧化物 2-4nm2-4nm有機(jī)物和聚合物有機(jī)物和聚合物 4-10nm4-10nm5、XPS儀一般性能儀一般性能北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 5.4 靈敏度靈敏度檢測(cè)限：0.1%1%5、XPS儀一般性能儀一般性能北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6、XPS分析分析6.1 能量標(biāo)定能量標(biāo)定 Al K Mg K Cu 3pAu 4f7/2Ag 3d5/2Cu L3MMCu 2p3/2Ag M4NN 75.14 0.02 83.98 0.02 36

11、8.27 0.02 567.97 0.02 932.67 0.021128.79 0.02 75.13 0.02 84.00 0.01 368.29 0.01 334.95 0.01 932.67 0.02 895.76 0.02北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.2 荷電效應(yīng)荷電效應(yīng) 表面電子逸出后，絕緣樣品表面電子逸出后，絕緣樣品表面帶正電荷，形成額外電場(chǎng)。表面帶正電荷，形成額外電場(chǎng)。使使XPSXPS鐠線結(jié)合能偏離正常位置，鐠線結(jié)合能偏離正常位置，稱(chēng)為荷電效應(yīng)。稱(chēng)為荷電效應(yīng)。6、XPS分析分析北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)

12、分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.2.1 標(biāo)定標(biāo)定標(biāo)準(zhǔn)樣：Ag3d5/2 368.2eV Au4f7/2 84.0eV污染炭： C1s 284.8eV離子注入： Ar2p3/2 245.0eV6、XPS分析分析6.2 荷電效應(yīng)北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.2.2 電荷補(bǔ)償電荷補(bǔ)償 低能電子槍低能電子槍 發(fā)射電子，將內(nèi)標(biāo)補(bǔ)償?shù)綐?biāo)準(zhǔn)位置發(fā)射電子，將內(nèi)標(biāo)補(bǔ)償?shù)綐?biāo)準(zhǔn)位置 電子離子槍電子離子槍 可同時(shí)發(fā)射電子和離子，將內(nèi)標(biāo)補(bǔ)償?shù)綐?biāo)可同時(shí)發(fā)射電子和離子，將內(nèi)標(biāo)補(bǔ)償?shù)綐?biāo)準(zhǔn)位置準(zhǔn)位置6、XPS分析分析6.2 荷電效應(yīng)北京化工大學(xué)大型

13、精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.3 深度分析深度分析材料不同深度上元素及鍵合態(tài)的分析材料不同深度上元素及鍵合態(tài)的分析采用采用Ar轟擊的方法剝蝕樣品表面轟擊的方法剝蝕樣品表面優(yōu)點(diǎn)：可以得到任意深度的信息優(yōu)點(diǎn)：可以得到任意深度的信息缺點(diǎn)：樣品化學(xué)態(tài)改變?nèi)秉c(diǎn)：樣品化學(xué)態(tài)改變 不同材料刻蝕速度不同不同材料刻蝕速度不同 用用Ar+不能剝蝕有機(jī)材不能剝蝕有機(jī)材料料6.3.1 離子濺射離子濺射6、XPS分析分析北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6、XPS分析分析6.3 深度分析6.3.1 離子濺射北京化工大學(xué)大

14、型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.3.2 改變電子逸出角度改變電子逸出角度eX-raylX-raycoslllll6、XPS分析分析6.3 深度分析北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 優(yōu)點(diǎn)：非破壞性，不改變樣品的狀態(tài)優(yōu)點(diǎn)：非破壞性，不改變樣品的狀態(tài)缺點(diǎn)：分析深度有限缺點(diǎn)：分析深度有限 角度旋轉(zhuǎn)后，分析面積變化角度旋轉(zhuǎn)后，分析面積變化6、XPS分析分析6.3 深度分析6.3.2 改變電子逸出角度北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.3.3 角分辨角

15、分辨XPSX-rayeee6、XPS分析分析北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.4 特異峰特異峰6.4.1 衛(wèi)星峰（衛(wèi)星峰（satellite peaks） X射線一般不是單一的特征射線一般不是單一的特征X射線，射線，而是還存在一些能量略高的小伴線，而是還存在一些能量略高的小伴線，所以導(dǎo)致所以導(dǎo)致XPS中，除中，除K 1,2所激發(fā)的主所激發(fā)的主譜外，還有一些小峰。譜外，還有一些小峰。 6、XPS分析分析北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6、XPS分析分析6.4.1 衛(wèi)星峰（satell

16、ite peaks）北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.4.2 鬼峰（鬼峰（ghost peaks） 由于由于X X射源的陽(yáng)極可能不純或被污染，射源的陽(yáng)極可能不純或被污染，則產(chǎn)生的則產(chǎn)生的X X射線不純。因非陽(yáng)極材料射線不純。因非陽(yáng)極材料X X射線射線所激發(fā)出的光電子譜線被稱(chēng)為所激發(fā)出的光電子譜線被稱(chēng)為“鬼峰鬼峰”。6、XPS分析分析北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.4.3 能量損失峰能量損失峰 對(duì)于某些材料，光電子在離開(kāi)樣品對(duì)于某些材料，光電子在離開(kāi)樣品表面的過(guò)程中，可能與表面的

17、其它電子相表面的過(guò)程中，可能與表面的其它電子相互作用而損失一定的能量，而在互作用而損失一定的能量，而在XPSXPS低動(dòng)能低動(dòng)能側(cè)出現(xiàn)一些伴峰，即能量損失峰側(cè)出現(xiàn)一些伴峰，即能量損失峰。6、XPS分析分析北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6、XPS分析分析6.4.3 能量損失峰北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 6.5 定量分析定量分析 I I nfAnfA 式中：式中：I I 峰強(qiáng)度峰強(qiáng)度 n n 每每cmcm2 2的原子數(shù)的原子數(shù) f f X X射線通量（光子射線通量（光子cmcm2 2

18、s s） 光電截面積（光電截面積（cmcm2 2） 與與X X射線和出射光電子的夾角有關(guān)因子射線和出射光電子的夾角有關(guān)因子 光電產(chǎn)額（光電子光電產(chǎn)額（光電子光子）光子） A A 采樣面積（采樣面積（cmcm2 2） T T 檢測(cè)系數(shù)檢測(cè)系數(shù) 光電子的平均自由程（光電子的平均自由程（cmcm）6、XPS分析分析北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 111222nI SnIS令 S =A 為靈敏度因子 xxxxiiiiinISCnI S已知已知Si, 測(cè)得測(cè)得I6、XPS分析分析6.5 定量分析北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心

19、電話：X射線光電子能譜（XPS） 7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展7.1 單色化單色化XPSX射線不純所造成的不利影響：射線不純所造成的不利影響： 1、衛(wèi)星峰、衛(wèi)星峰 2、分辨率不高、分辨率不高 3、譜圖背底高、譜圖背底高 北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 7.1.1 單色化原理單色化原理7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展7.1 單色化XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 反射面法線2 sinnd布拉格方程布拉格方程（Bragg equation）7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展7.1 單色化

20、XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 原子面對(duì)X射線的反射并不是任意的，只有當(dāng)、d三者之間滿足布拉格方程時(shí)才能發(fā)生反射。7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展7.1 單色化XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 7.1.2 單色化單色化XPS優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn)nX射線的寬度從射線的寬度從0.9eV降低到降低到0.25eV,單色化后的單色化后的XPS的分辨率高出很多，的分辨率高出很多，達(dá)到達(dá)到0.47eV。能得到更多化合態(tài)信。能得到更多化合態(tài)信息息n衛(wèi)星峰、鬼峰消失衛(wèi)星峰、鬼峰消失n樣品受到樣品受到X射線

21、傷害較少。射線傷害較少。7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展7.1 單色化XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 7.2 小束斑小束斑XPSTorroidal CrystalAnodeElectron Gun7.2.1 原理原理7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） X X射線在樣品上的光斑大小射線在樣品上的光斑大小與電子打在金屬（陽(yáng)極）上的與電子打在金屬（陽(yáng)極）上的光斑大小近似。調(diào)節(jié)電子斑大光斑大小近似。調(diào)節(jié)電子斑大小即可調(diào)節(jié)小即可調(diào)節(jié)X X射線光斑大小。射線光斑大小

22、。聚焦電子束，調(diào)節(jié)電子斑尺聚焦電子束，調(diào)節(jié)電子斑尺寸。寸。7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展7.2 小束斑XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 7.2.2 特點(diǎn)特點(diǎn)nX射線光斑尺寸射線光斑尺寸20m500 m可調(diào)可調(diào)n單色化單色化X射線，射線，XPS分辨率達(dá)到分辨率達(dá)到0.47eVn樣品受到樣品受到X射線傷害較少。射線傷害較少。 7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展7.2 小束斑XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 7.2.3 應(yīng)用應(yīng)用n特定區(qū)域分析特定區(qū)域分析n線分布或面分布線分布或面分布7

23、、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展7.2 小束斑XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展7.2 小束斑XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展線線掃掃描描7.2 小束斑XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 7.3 成像成像 XPS原理原理n用平行成像法進(jìn)行成像用平行成像法進(jìn)行成像XPS XPS 分析分析時(shí)時(shí), ,光電子進(jìn)入多通道板光電子進(jìn)入多通道板, ,經(jīng)過(guò)放經(jīng)過(guò)放大后變成電子脈

24、沖信號(hào)大后變成電子脈沖信號(hào), ,后者打在后者打在熒光板上產(chǎn)生光信號(hào)熒光板上產(chǎn)生光信號(hào), ,并存儲(chǔ)于相并存儲(chǔ)于相應(yīng)的像元中應(yīng)的像元中7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 7、XPS儀器新進(jìn)展儀器新進(jìn)展SiSiSiOSiO2 27.3 成像 XPS北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.1 XPS功能功能北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8.2 表面（界面）元素及化合物測(cè)定 C1sO1sFe2p

25、金屬鐵金屬鐵8. XPS應(yīng)用應(yīng)用Fe3O4北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.2 表面（界面）元素及化合物測(cè)定 涂層北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.2 表面（界面）元素及化合物測(cè)定 涂層北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.2 表面（界面）元素及化合物測(cè)定 北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.

26、2 表面元素及化合物測(cè)定 應(yīng)用于：應(yīng)用于： 材料改性材料改性 表面工程表面工程 腐蝕與防護(hù)腐蝕與防護(hù) 涂層涂層 催化劑組成催化劑組成 微電子和半導(dǎo)體材料表面成份和污染微電子和半導(dǎo)體材料表面成份和污染 ￥%#%#* *&* *北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. X射線光譜儀功能射線光譜儀功能8.3 表面元素化學(xué)態(tài)測(cè)定 323/222CoO MoOMgO Al OCOH OHCO北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. X射線光譜儀功能射線光譜儀功能8.3 表面元素化學(xué)態(tài)測(cè)定 北京化工大學(xué)

27、大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.3 表面元素化學(xué)態(tài)測(cè)定 化學(xué)態(tài)不化學(xué)態(tài)不僅僅是價(jià)僅僅是價(jià)態(tài)哦態(tài)哦北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用應(yīng)用于：應(yīng)用于： 催化劑活性成份、組分間相互作用機(jī)催化劑活性成份、組分間相互作用機(jī)理、失效機(jī)理；理、失效機(jī)理； 表面反應(yīng)，表面改性；表面反應(yīng)，表面改性； 表面工程表面工程 腐蝕與防護(hù)腐蝕與防護(hù) c_#%$,?/_c_#%$,?/_8.3 表面元素化學(xué)態(tài)測(cè)定 北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電

28、子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.4 表面修飾和改性 XPS survey scan spectra: a. pristine MWCNTs, b. oxidized MWCNTs, c. DEA-functionalized MWCNTs d, purified-MWCNTs treated by DEACNTCNT表面修飾表面修飾北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） C1s scan spectra: a. pristine MWCNTs, b. oxidized MWCNTs, c. DEA-functionalized MWCN

29、Ts d, purified-MWCNTs treated by DEA 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.4 表面修飾和改性 COOHCOOHNHCONH2+北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 心臟瓣膜用肝磷酯處理 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.4 表面修飾和改性 北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 心臟瓣膜用肝磷酯處理 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.4 表面修飾和改性 北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用應(yīng)用于：應(yīng)用于： 生物材料；生物材料； 填料；填料； 納米器件；納米器件； c+c+* *_#%$._#%$. ，北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.5 元素及化合物表面分布（覆蓋） 聚酯覆膜紙張北京化工大學(xué)大型精密儀器講座 北京化工大學(xué)分析測(cè)試中心電話：X射線光電子能譜（XPS） 8. XPS應(yīng)用應(yīng)用8.6 深度分析 0.00E+002.00E+034.00E+036.00E+038.00E+031.00E+041.20E+041.40E+041.60E+041.80E+042