專利知識培訓(xùn)

1、專利知識培訓(xùn)2 2 2技術(shù)交底書的撰寫內(nèi)部專利提報流程專利審查流程專利根底知識外觀設(shè)計的申請目錄目錄3 3專利根底知識1 1、什么是專利？、什么是專利？ 專利是國家按照專利法的要求，授予專利是國家按照專利法的要求，授予申請人在一定時間內(nèi)，對其創(chuàng)造創(chuàng)造成果所享申請人在一定時間內(nèi)，對其創(chuàng)造創(chuàng)造成果所享有的獨(dú)占、使用和處分的權(quán)利。有的獨(dú)占、使用和處分的權(quán)利。 特點(diǎn)：獨(dú)占性特點(diǎn)：獨(dú)占性 + + 地域性地域性 + + 時間性時間性 獨(dú)占性：僅能由專利權(quán)人或其許可人獨(dú)占性：僅能由專利權(quán)人或其許可人實(shí)施實(shí)施 地域性：在哪里申請受哪里保護(hù)地域性：在哪里申請受哪里保護(hù) 時間性：專利權(quán)有保護(hù)期限，無法續(xù)時間性：專

2、利權(quán)有保護(hù)期限，無法續(xù)展展4 42 2、專利有哪幾種？、專利有哪幾種？ 創(chuàng)造創(chuàng)造實(shí)用新型實(shí)用新型外觀設(shè)計外觀設(shè)計對產(chǎn)品、方法或者其改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案對產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案 對產(chǎn)品的形狀、圖案、色彩或者其結(jié)合所作出的富有美感并適于工業(yè)上應(yīng)用的新設(shè)計產(chǎn)品 方法 配方 工藝 20年產(chǎn)品產(chǎn)品10年10年專利根底知識5 53 3、什么樣的方案可以申請專利？、什么樣的方案可以申請專利？ 只要有方案且與現(xiàn)有技術(shù)方案有區(qū)別，并能帶來好的技術(shù)效果皆可申請專利。 不要忽略細(xì)微的改進(jìn)，申請專利 一切皆有可能 專利根底知識6 6例：只有四個螺釘可以申請專利嗎？值得申請專利嗎？

3、 看看LG怎么做的傳統(tǒng)做法是用四顆螺釘鎖住液晶面板的外框，鎖的很結(jié)實(shí)，但造成外框太厚專利根底知識7 7LG的方案是將四顆螺釘改從側(cè)面鎖住液晶面板的外框，減少了外框的厚度。為此LG在全球10幾個國家申請了基于該技術(shù)的液晶顯示器的專利、筆記本的專利、液晶顯示器的制造方法的專利、筆記本的制造方法的專利。 勿無視細(xì)節(jié)的專利申請 有價值皆可申請專利根底知識8 84 4、什么樣的方案可以授予專利權(quán)？創(chuàng)造、什么樣的方案可以授予專利權(quán)？創(chuàng)造+ +實(shí)用新型實(shí)用新型 實(shí)用性實(shí)用性 實(shí)用性是指該創(chuàng)造或者實(shí)用新型能夠在產(chǎn)業(yè)實(shí)用性是指該創(chuàng)造或者實(shí)用新型能夠在產(chǎn)業(yè)上制造或者使用，并且能夠產(chǎn)生積極效果。上制造或者使用，并且

4、能夠產(chǎn)生積極效果。例如：例如：“永動機(jī)永動機(jī) 專利根底知識三性的判斷三性的判斷實(shí)用性實(shí)用性 新穎性新穎性 創(chuàng)造性創(chuàng)造性9 94 4、什么樣的方案可以授予專利權(quán)？創(chuàng)造、什么樣的方案可以授予專利權(quán)？創(chuàng)造+ +實(shí)用新型實(shí)用新型 新穎性新穎性 新穎性是指該創(chuàng)造或者實(shí)用新型不屬于現(xiàn)新穎性是指該創(chuàng)造或者實(shí)用新型不屬于現(xiàn)有技術(shù)。例如：有技術(shù)。例如： 新申請方案現(xiàn)有1篇文獻(xiàn)方案新穎性情形一A+B+CA+B情形二A+B+CA+B+C 情形三A+B+CA+B+C+D 現(xiàn)有技術(shù)，現(xiàn)有技術(shù)，是指申請日以前在國內(nèi)外為公眾所知的技術(shù)單獨(dú)比照單獨(dú)比照專利根底知識1010 創(chuàng)造性 創(chuàng)造性是指與現(xiàn)有技術(shù)相比，該創(chuàng)造具有突出的實(shí)

5、質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步，該實(shí)用新型具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和進(jìn)步。 新申請方案現(xiàn)有文獻(xiàn)1方案現(xiàn)有文獻(xiàn)2方案創(chuàng)造性情形一A+B+CA+BC情形二A+B+CA+BC+D情形三A+B+CA+BD重要條件：重要條件：文獻(xiàn)1與文獻(xiàn)2相結(jié)合得到新申請方案對所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員來說是非顯而易見的結(jié)合比照結(jié)合比照要求：創(chuàng)造性上，創(chuàng)造要求：創(chuàng)造性上，創(chuàng)造實(shí)用新型實(shí)用新型專利根底知識11115 5、什么樣的方案可以授予專利權(quán)？外觀設(shè)計、什么樣的方案可以授予專利權(quán)？外觀設(shè)計 應(yīng)當(dāng)不屬于現(xiàn)有設(shè)計。應(yīng)當(dāng)不屬于現(xiàn)有設(shè)計。 相當(dāng)于相當(dāng)于創(chuàng)造與實(shí)用新型局部的新穎性創(chuàng)造與實(shí)用新型局部的新穎性 與現(xiàn)有設(shè)計或者現(xiàn)有設(shè)計特征的組合相比，應(yīng)當(dāng)具

6、有與現(xiàn)有設(shè)計或者現(xiàn)有設(shè)計特征的組合相比，應(yīng)當(dāng)具有明顯區(qū)別。明顯區(qū)別。 相當(dāng)于相當(dāng)于創(chuàng)造與實(shí)用新型局部的創(chuàng)造性創(chuàng)造與實(shí)用新型局部的創(chuàng)造性現(xiàn)有設(shè)計，是指申請日以前在國內(nèi)外為公眾所知的設(shè)現(xiàn)有設(shè)計，是指申請日以前在國內(nèi)外為公眾所知的設(shè)計。計。 專利根底知識單獨(dú)比照結(jié)合比照121212專利審查流程申請日18個月36個月初步審查實(shí)質(zhì)審查公開發(fā)發(fā) 明明遞交申請公開申請實(shí)審請求授權(quán)公告實(shí)審授權(quán)制實(shí)審授權(quán)制公司內(nèi)部公司內(nèi)部提報流程提報流程官方流程官方流程內(nèi)部流程內(nèi)部流程131313專利審查流程實(shí)用實(shí)用新型新型申請日授權(quán)公告初步審查遞交申請外觀外觀設(shè)計設(shè)計初審授權(quán)制初審授權(quán)制公司內(nèi)部公司內(nèi)部提報流程提報流程內(nèi)部流

7、程內(nèi)部流程官方流程官方流程1414從客戶需求中挖掘從專利文獻(xiàn)中挖掘從公司產(chǎn)品中挖掘從技術(shù)問題中挖掘從研發(fā)過程中挖掘從新興市場中挖掘?qū)＠麡?gòu)思專利構(gòu)思來源來源公司內(nèi)部專利申報流程1515起草自由公文時的本卷須知起草自由公文時的本卷須知1、公文名稱：流水號+創(chuàng)造名稱2、公文正文： 3、附件：掛技術(shù)交底書 專專 利利 申申 請請 表表序號序號填寫項(xiàng)目填寫項(xiàng)目具體內(nèi)容具體內(nèi)容均為必填，附件掛技術(shù)交底書1流水號發(fā)明名稱例如：D999 一種多功能豆?jié){機(jī)2發(fā)明點(diǎn) 簡要說明該專利申請的發(fā)明點(diǎn)3發(fā)明人 第一發(fā)明人：XXX第二發(fā)明人：YYY第三發(fā)明人：ZZZ4聯(lián)系方式公司內(nèi)部專利申報流程161616技術(shù)交底書的撰寫

8、1 1、什么是技術(shù)交底書？、什么是技術(shù)交底書？ 技術(shù)交底書是揭露一項(xiàng)專利申請的完整技術(shù)方案的文檔，它包括技術(shù)交底書是揭露一項(xiàng)專利申請的完整技術(shù)方案的文檔，它包括特定的組成局部，由研發(fā)工程師起草，是整個專利流程的發(fā)起端。特定的組成局部，由研發(fā)工程師起草，是整個專利流程的發(fā)起端。2 2、技術(shù)交底書給誰看？、技術(shù)交底書給誰看？ 技術(shù)交底書是供事業(yè)部領(lǐng)導(dǎo)、專利工程師、知識產(chǎn)權(quán)部了解該項(xiàng)專利申請的具體技術(shù)方案的唯一文檔。3 3、技術(shù)交底書重要嗎？、技術(shù)交底書重要嗎？ 重要！重要！ 技術(shù)交底書是研發(fā)人員揭露其專利申請的唯一文檔，其撰寫的質(zhì)技術(shù)交底書是研發(fā)人員揭露其專利申請的唯一文檔，其撰寫的質(zhì)量上下直接影

9、響了專利人員對該專利申請的技術(shù)方案的理解與把握，是量上下直接影響了專利人員對該專利申請的技術(shù)方案的理解與把握，是左右專利人員起草專利申請文件的關(guān)鍵因素。左右專利人員起草專利申請文件的關(guān)鍵因素。171717技術(shù)交底書的撰寫一、名稱一、名稱 研發(fā)人員擬定出能夠表達(dá)出創(chuàng)造點(diǎn)的創(chuàng)造名稱，格式如下：研發(fā)人員擬定出能夠表達(dá)出創(chuàng)造點(diǎn)的創(chuàng)造名稱，格式如下： 流水號流水號+名稱名稱二、背景技術(shù)二、背景技術(shù) 詳細(xì)說明與本申請最接近的現(xiàn)有技術(shù)的方案是什么，并闡述其存在的缺陷，詳細(xì)說明與本申請最接近的現(xiàn)有技術(shù)的方案是什么，并闡述其存在的缺陷，該缺陷須是本申請能夠抑制的缺陷。該缺陷須是本申請能夠抑制的缺陷。三、技術(shù)方案

10、三、技術(shù)方案 本局部中，包括創(chuàng)造目的、優(yōu)選的技術(shù)方案和替代技術(shù)方案。本局部中，包括創(chuàng)造目的、優(yōu)選的技術(shù)方案和替代技術(shù)方案。 創(chuàng)造目的局部闡述本申請針對解決現(xiàn)有技術(shù)中的什么問題。創(chuàng)造目的局部闡述本申請針對解決現(xiàn)有技術(shù)中的什么問題。 優(yōu)選的技術(shù)方案可以是效果最正確的技術(shù)方案、本錢最低的技術(shù)方案或最有優(yōu)選的技術(shù)方案可以是效果最正確的技術(shù)方案、本錢最低的技術(shù)方案或最有可能實(shí)際應(yīng)用的技術(shù)方案等?？赡軐?shí)際應(yīng)用的技術(shù)方案等。 替代技術(shù)方案是次于優(yōu)選技術(shù)方案，但是同樣能夠解決技術(shù)問題的方案。替代技術(shù)方案是次于優(yōu)選技術(shù)方案，但是同樣能夠解決技術(shù)問題的方案。 技術(shù)方案的描述應(yīng)結(jié)合附圖。技術(shù)方案的描述應(yīng)結(jié)合附圖。4

11、 4、如何撰寫技術(shù)交底書？、如何撰寫技術(shù)交底書？181818技術(shù)交底書的撰寫四、附圖四、附圖 在技術(shù)交底書中插入對應(yīng)技術(shù)方案的附圖，并提供在技術(shù)交底書中插入對應(yīng)技術(shù)方案的附圖，并提供CAD格式的電子檔附圖。格式的電子檔附圖。注意注意1：技術(shù)方案局部中，對應(yīng)著每一個與現(xiàn)有技術(shù)不同的技術(shù)特征，須描述：技術(shù)方案局部中，對應(yīng)著每一個與現(xiàn)有技術(shù)不同的技術(shù)特征，須描述其有益效果。這很關(guān)鍵，對于專利申請的授權(quán)及授權(quán)后的穩(wěn)定性都至關(guān)重要。其有益效果。這很關(guān)鍵，對于專利申請的授權(quán)及授權(quán)后的穩(wěn)定性都至關(guān)重要。注意注意2：優(yōu)選的技術(shù)方案和替代技術(shù)方案越多，該專利申請的授權(quán)的可能和授：優(yōu)選的技術(shù)方案和替代技術(shù)方案越多

12、，該專利申請的授權(quán)的可能和授權(quán)后的穩(wěn)定性，以及保護(hù)范圍越大。權(quán)后的穩(wěn)定性，以及保護(hù)范圍越大。技術(shù)方案局部，無論說的如何詳細(xì)如何具體，特別是針對與現(xiàn)有技技術(shù)方案局部，無論說的如何詳細(xì)如何具體，特別是針對與現(xiàn)有技術(shù)區(qū)別之處的有益效果闡述，甚至是繁瑣都不過分術(shù)區(qū)別之處的有益效果闡述，甚至是繁瑣都不過分技術(shù)交底書例如：技術(shù)交底書例如：191919技術(shù)交底書的撰寫機(jī)械構(gòu)造類型的機(jī)械構(gòu)造類型的“技術(shù)方案技術(shù)方案如何撰寫？如何撰寫？ a.寫明構(gòu)成產(chǎn)品的零部件，并指明可以解決技術(shù)問題的最少零部寫明構(gòu)成產(chǎn)品的零部件，并指明可以解決技術(shù)問題的最少零部件；件； d.寫明零部件還可能涉及的材料、幾何形狀、尺寸、參數(shù)寫

13、明零部件還可能涉及的材料、幾何形狀、尺寸、參數(shù)202020技術(shù)交底書的撰寫電路類型的電路類型的“技術(shù)方案技術(shù)方案如何撰寫？如何撰寫？a.按照電路功能進(jìn)展模塊劃分，指出能夠解決技術(shù)問題的最少模塊按照電路功能進(jìn)展模塊劃分，指出能夠解決技術(shù)問題的最少模塊 模塊劃分例如：穩(wěn)壓電路、整流電路、濾波電路、分壓電路、開關(guān)電模塊劃分例如：穩(wěn)壓電路、整流電路、濾波電路、分壓電路、開關(guān)電路等等路等等 c.對于與現(xiàn)有技術(shù)相區(qū)別的模塊，闡述其具體器件構(gòu)成，并說明各對于與現(xiàn)有技術(shù)相區(qū)別的模塊，闡述其具體器件構(gòu)成，并說明各器件間的連接關(guān)系及信號處理關(guān)系器件間的連接關(guān)系及信號處理關(guān)系 d.對于與現(xiàn)有技術(shù)相區(qū)別的模塊，闡述能

14、夠?qū)崿F(xiàn)該模塊功能的其它對于與現(xiàn)有技術(shù)相區(qū)別的模塊，闡述能夠?qū)崿F(xiàn)該模塊功能的其它器件，這相當(dāng)于替代技術(shù)方案。器件，這相當(dāng)于替代技術(shù)方案。212121技術(shù)交底書的撰寫工藝方法類型的工藝方法類型的“技術(shù)方案技術(shù)方案如何撰寫？如何撰寫？ a.按照工藝方法的執(zhí)行過程，從開場到完畢順序?qū)懗稣麄€流程的步按照工藝方法的執(zhí)行過程，從開場到完畢順序?qū)懗稣麄€流程的步驟，結(jié)合工作流程圖；驟，結(jié)合工作流程圖； 并指出哪些步驟是解決技術(shù)問題最少的步驟并指出哪些步驟是解決技術(shù)問題最少的步驟 c.如果有的話，說明每個步驟中的限制條件及其范圍如果有的話，說明每個步驟中的限制條件及其范圍 例如：時間、溫度、壓強(qiáng)、頻率、功率、長度

15、等例如：時間、溫度、壓強(qiáng)、頻率、功率、長度等222222技術(shù)交底書的撰寫配方類型的配方類型的“技術(shù)方案技術(shù)方案如何撰寫？如何撰寫？指出能夠解決技術(shù)問題的核心組分指出能夠解決技術(shù)問題的核心組分按照重量份數(shù)來說明各個組分的含量，例如：按照重量份數(shù)來說明各個組分的含量，例如： XXX包含包含A、B、C、D，其中，其中A為為1025份，份，B為為510份，份，C為為8090份，份，D為為1015份。份。 原因：假設(shè)以百分比來表示，那么極易出錯。原因：假設(shè)以百分比來表示，那么極易出錯。 各組分含量之和應(yīng)等于各組分含量之和應(yīng)等于100%，應(yīng)同時滿足下面兩個關(guān)系式：，應(yīng)同時滿足下面兩個關(guān)系式： 單個組分的含

16、量上限單個組分的含量上限+其余各組分的含量下限應(yīng)其余各組分的含量下限應(yīng)=100%。2323專利申請文件的審核專利申請文件的審核 當(dāng)專利工程師撰寫完畢專利申請文件后，便會發(fā)送至研發(fā)工程師進(jìn)展審核，那么研發(fā)工程師到底該審核什么呢？審核權(quán)利要求書的權(quán)利要求1是否有非必要技術(shù)特征審核權(quán)利要求書有無描述不清楚之處審核整個專利申請文件有沒有錯誤的技術(shù)用語從技術(shù)角度，審核整個專利申請文件的描述是否有不當(dāng)之處公司內(nèi)部專利申報流程242424外觀設(shè)計的申請第一節(jié)外觀申請文件的保護(hù)策略第三節(jié)外觀申請件的范例第二節(jié)外觀設(shè)計申請需要準(zhǔn)備什么2525外觀設(shè)計的申請對于設(shè)計構(gòu)思比較新穎、獨(dú)特的單獨(dú)也要申請專利也要申請外觀

17、保護(hù)。多方位保護(hù)，多申請幾款相近或相似的外觀專利，設(shè)計時多考慮一些部件的變化和組合。按照常規(guī)方式處理。2626外觀設(shè)計申請需要準(zhǔn)備什么？需要準(zhǔn)備：外觀設(shè)計產(chǎn)品的六視圖、立體參考圖及外觀設(shè)計簡要說明。六視圖包括：主視圖、俯視圖、仰視圖、左視圖、右視圖、后視圖立體參考圖：能同時展示三個面的視圖簡要說明：1、外觀設(shè)計產(chǎn)品的名稱； 2、外觀設(shè)計產(chǎn)品的用途； 3、外觀設(shè)計的產(chǎn)品的設(shè)計要點(diǎn)形狀、圖案、色彩； 4、最能說明設(shè)計要點(diǎn)的圖片； 5、省略視圖說明，透明局部的說明，根本設(shè)計的指定。2727對于外觀設(shè)計圖片或照片的質(zhì)量要求：對于外觀設(shè)計圖片或照片的質(zhì)量要求：視圖尺寸是否符合要求(3x8cm-15x22

18、cm)。視圖與視圖名稱是否正確對應(yīng)，視圖投影關(guān)系是否正確。所有視圖是否有不可分辨的陰影。透明件的輪廓是否清晰，邊界不能模糊。照片應(yīng)防止反光、倒影、陰影，照片背景應(yīng)當(dāng)單一。不得以陰影線、指示線、虛線、中心線、尺寸線、點(diǎn)劃線來表達(dá)外觀設(shè)計。外觀設(shè)計圖片或照片有三種：外觀設(shè)計圖片或照片有三種：線條繪制視圖線條繪制視圖 照片視圖照片視圖 3D渲染效果圖渲染效果圖2828主打機(jī)型申請中的問題主打機(jī)型申請中的問題 根據(jù)新專利法的要求，對于設(shè)計相近似的多項(xiàng)不超過10項(xiàng)外觀設(shè)計可以合案申請。我公司對于主打機(jī)型的外觀申請，要求多構(gòu)思幾種相近似的外觀設(shè)計合案申請。什么是相近似的外觀設(shè)計？ 其區(qū)別通常在于局部細(xì)微變化、該類產(chǎn)品的慣常設(shè)計、設(shè)計單元重復(fù)排列或者僅色彩要素變化等情形。合案申請應(yīng)注意以下幾點(diǎn)：1、指明“根本設(shè)計在簡要說明的第5項(xiàng)中寫明2、其它設(shè)計應(yīng)與根本設(shè)計相近似3、各個設(shè)計的視圖名稱用“設(shè)計1主視圖、“設(shè)計2后視圖的樣式表示。4、合案申請的每項(xiàng)設(shè)計應(yīng)到都具備授權(quán)條件2929平面印刷品的外觀設(shè)計專利申請平面印刷品的外觀設(shè)計專利申請在設(shè)計之初，應(yīng)防止產(chǎn)品僅起到標(biāo)識作用的局部過重，而起到裝飾作用的局部過少。假設(shè)出現(xiàn)該情形，那么不予授權(quán)判斷方法：將起標(biāo)識作用的局部去掉例如商標(biāo)、判斷方法：將起標(biāo)識作用的局部去掉例如商標(biāo)、LOGO等，看剩余局等，看剩余