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圖2.1(a)正光阻,和(b)負(fù)光阻成像的比較 圖2.2光阻覆蓋製程 圖2.3(a)正光阻,(b)負(fù)光阻的特性比較 續(xù)圖2.3(a)正光阻,(b)負(fù)光阻的特性比較 圖2.4電漿預(yù)處理 圖2.5影像反轉(zhuǎn)製程和(a)以深紫外光照像,(b)曝光後,(c)矽離子植入,(d)氧離子植入,(e)最後是光罩中透明的部份被保管了。 圖2.6駐波現(xiàn)象 圖2.7(a)繞射現(xiàn)象和(b)降低繞射的比較 圖2.8一個(gè)光罩的例子 圖2.9光罩護(hù)膜 圖2.10接觸式曝光系統(tǒng) 圖2.11步進(jìn)照像系統(tǒng) 圖2.12在晶圓上步進(jìn)曝光 圖2.13霧狀晶圓的對(duì)準(zhǔn)原理 圖2.14(a)傳統(tǒng)光罩,和(b)相移光罩的成像的解析度比像 圖2.15數(shù)值孔徑的表示方法 圖2.16焦距深度的表示方法 圖2.17解析力的表示方法 圖2.18各種紫外光和可見(jiàn)光光譜 圖2.19x光微影技術(shù)用的光罩

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