高三化學(xué)一輪復(fù)習(xí)——碳、硅及其化合物_第1頁(yè)
高三化學(xué)一輪復(fù)習(xí)——碳、硅及其化合物_第2頁(yè)
高三化學(xué)一輪復(fù)習(xí)——碳、硅及其化合物_第3頁(yè)
高三化學(xué)一輪復(fù)習(xí)——碳、硅及其化合物_第4頁(yè)
高三化學(xué)一輪復(fù)習(xí)——碳、硅及其化合物_第5頁(yè)
已閱讀5頁(yè),還剩13頁(yè)未讀 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、碳、硅及其化合物碳、硅及其化合物無(wú)機(jī)非金屬材料無(wú)機(jī)非金屬材料考點(diǎn)考點(diǎn)1 硅單質(zhì)硅單質(zhì)1.存在:硅元素在自然界全部以化合態(tài)形式存在:硅元素在自然界全部以化合態(tài)形式存在,單質(zhì)硅有晶體硅和無(wú)定形硅兩種。存在,單質(zhì)硅有晶體硅和無(wú)定形硅兩種。2.物理性質(zhì):晶體硅的熔沸點(diǎn)高,硬度大。物理性質(zhì):晶體硅的熔沸點(diǎn)高,硬度大。3.化學(xué)性質(zhì):化學(xué)性質(zhì): 常溫下,硅能與常溫下,硅能與F2、HF、NaOH反應(yīng)反應(yīng) Si+2NaOH+H2O=Na2SiO3+2H2 加熱時(shí)加熱時(shí)Si可與可與O2、Cl2等非金屬反應(yīng)等非金屬反應(yīng)考點(diǎn)考點(diǎn)2 二氧化硅二氧化硅存在形式存在形式:硅石、石英、水晶、瑪瑙、沙子等:硅石、石英、水晶、瑪

2、瑙、沙子等(硅元素的親氧性)(硅元素的親氧性)物理性質(zhì)物理性質(zhì):熔點(diǎn)高、硬度大、難溶于水:熔點(diǎn)高、硬度大、難溶于水化學(xué)性質(zhì)化學(xué)性質(zhì):穩(wěn)定性好:穩(wěn)定性好 酸性氧化物:酸性氧化物:與與CaO、NaOH等反應(yīng);等反應(yīng);Na2CO3 特性:特性:SiO2+4HF=SiF4+2H2O用途用途:制造光導(dǎo)纖維、玻璃、光學(xué)儀器、鐘表等。制造光導(dǎo)纖維、玻璃、光學(xué)儀器、鐘表等??键c(diǎn)考點(diǎn)3 硅酸及其鹽硅酸及其鹽物理性質(zhì)物理性質(zhì):不溶于水,膠狀(硅膠):不溶于水,膠狀(硅膠)化學(xué)性質(zhì)化學(xué)性質(zhì):弱酸性:弱酸性:比碳酸酸性弱比碳酸酸性弱 H2SiO3+2NaOH=Na2SiO3+2H2O Na2SiO3+CO2+H2O=

3、Na2CO3+H2SiO3制備方法制備方法:Na2SiO3+2HCl=2NaCl+H2SiO3硅酸鹽硅酸鹽 Na2SiO3: 水玻璃水玻璃 a.貯存:盛貯存:盛Na2SiO3溶液的試劑瓶不能用玻璃溶液的試劑瓶不能用玻璃塞,原因是:塞,原因是:SiO2+2OH-=SiO32-+H2O b.變質(zhì):變質(zhì): Na2SiO3溶液在空氣中易變質(zhì)溶液在空氣中易變質(zhì) SiO32-+CO2+H2O=CO32-+H2SiO31.二氧化硅(二氧化硅(SiO2)又稱硅石,是制備硅及其化)又稱硅石,是制備硅及其化合物的重要原料(如圖)。下列說(shuō)法正確的是合物的重要原料(如圖)。下列說(shuō)法正確的是ASiO2屬于兩性氧化物屬于

4、兩性氧化物 C硅膠吸水后不能重復(fù)再生硅膠吸水后不能重復(fù)再生 D圖中所示轉(zhuǎn)化反應(yīng)都是氧化還原反應(yīng)圖中所示轉(zhuǎn)化反應(yīng)都是氧化還原反應(yīng)在硅膠中加入在硅膠中加入CoCl2可顯示硅膠吸水是否失效可顯示硅膠吸水是否失效2. 將足量將足量CO2氣體通入水玻璃中,然后加氣體通入水玻璃中,然后加熱蒸干,再在高溫下充分燃燒,最后所得的熱蒸干,再在高溫下充分燃燒,最后所得的固體物質(zhì)是(固體物質(zhì)是( ) B. Na2CO3、Na2SiO3 C. Na2CO3、SiO2 D. SiO2要點(diǎn):高純硅的提取要點(diǎn):高純硅的提取1.粗硅的制備粗硅的制備 主要反應(yīng):主要反應(yīng): 說(shuō)明:反應(yīng)要隔絕空氣;炭的用量要合適;說(shuō)明:反應(yīng)要隔絕

5、空氣;炭的用量要合適;2.高純硅的制備高純硅的制備 方法一:將生成的粗硅和方法一:將生成的粗硅和Cl2反應(yīng)生成液態(tài)反應(yīng)生成液態(tài)SiCl4,通過(guò)蒸餾,通過(guò)蒸餾(或多次蒸餾或多次蒸餾),實(shí)現(xiàn),實(shí)現(xiàn)SiCl4和雜質(zhì)和雜質(zhì)的分離,得到的高純的分離,得到的高純SiCl4用用H2還原。還原。 主要反應(yīng):主要反應(yīng):2C+SiO2 2CO+Si高 溫2C+SiO2 2CO+Si高 溫Si+2Cl2 SiCl4SiCl4+2H2 Si+4HCl高 溫高 溫 方法二:將生成的粗硅在加熱條件下與方法二:將生成的粗硅在加熱條件下與HCl(g)反應(yīng),制成化合物反應(yīng),制成化合物SiHCl3,與雜質(zhì)分離;,與雜質(zhì)分離;再在

6、高溫條件下用再在高溫條件下用H2還原,重新得到高純硅和還原,重新得到高純硅和HCl。3.(2006津)晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備津)晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:純硅的主要步驟如下: 高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅;高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅;粗硅與干燥粗硅與干燥 HCl氣體反應(yīng)制得氣體反應(yīng)制得 SiHCl3: Si +3HCl =SiHCl3+H2SiHCl3 與過(guò)量與過(guò)量 H2 在在 10001100反應(yīng)制得純硅。反應(yīng)制得純硅。已知已知 SiHCl3能與能與 H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。 請(qǐng)回答下列問(wèn)題:請(qǐng)回答下列問(wèn)題: (

7、1)第)第步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為 _。 (2)粗硅與)粗硅與HCl反應(yīng)完全后反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸(沸點(diǎn)點(diǎn) 33.0)中含有少量)中含有少量 SiCl4(沸點(diǎn)(沸點(diǎn)57.6)和)和 HCl(沸點(diǎn)(沸點(diǎn)-84.7),提純),提純 SiHCl3 采用的方法為采用的方法為 。 300(3)用)用 SiHCl3 與過(guò)量與過(guò)量 H2反應(yīng)制備純硅的裝置反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):如下(熱源及夾持裝置略去): 裝置裝置 B中的試劑是中的試劑是 _。 裝置裝置 C中的燒瓶需要加熱,其目的是中的燒瓶需要加熱,其目的是 _。 反應(yīng)一

8、段時(shí)間后,裝置反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置 D中觀察到的現(xiàn)象是中觀察到的現(xiàn)象是 _,裝置,裝置 D不能采用普通玻璃管的原因不能采用普通玻璃管的原因是是_ ,裝置,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為為_(kāi) 。 為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及_ 。 為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫(xiě)字母代酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫(xiě)字母代號(hào))是號(hào))是_ 。 a. 碘水碘水 b氯

9、水氯水 cNaOH溶液溶液dKSCN溶液溶液 eNa2SO3 溶液溶液4.(2008粵粵)硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:列問(wèn)題: (1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下:過(guò)程示意圖如下: 寫(xiě)出由純寫(xiě)出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式:制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式:_。整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl3遇遇水劇烈反應(yīng)生成水劇烈反應(yīng)

10、生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配和另一種物質(zhì),寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式平的化學(xué)反應(yīng)方程式_;H2還原還原SiHCl3過(guò)程中若混有過(guò)程中若混有O2,可能引起的后果是,可能引起的后果是_。(2)下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是_(填字母填字母)。D普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制備的,普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制備的,其熔點(diǎn)很高其熔點(diǎn)很高E鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅單晶硅(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫(xiě)出于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋 。現(xiàn)象:生成白色膠狀沉淀,有刺激性氣味的氣體生成;現(xiàn)象:生成白色膠狀沉淀,有刺激性氣味的氣體生成;解釋:解釋:SiO32-與與NH4+發(fā)生雙水解反應(yīng),發(fā)生雙水解反應(yīng),SiO32-+2NH4+ +2H2O= 2NH3H2O+H2SiO3考點(diǎn)考點(diǎn)4 碳及其化合物碳及其化合物5.能說(shuō)明碳元素的非金屬性比硅元素強(qiáng)的是7、

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫(kù)網(wǎng)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論