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1、、名詞解釋1地震勘探:是以不同巖石、礦石間的彈性差異為基礎(chǔ),通過(guò)觀測(cè)和研究地震波在地下巖石中的傳 播特性,以實(shí)現(xiàn)地質(zhì)勘查目標(biāo)的一種研究方法。2震動(dòng)圖:用小t坐標(biāo)系統(tǒng)表示的質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移隨時(shí)間變化的圖形稱為地震波的震動(dòng)圖。3波剖面圖:某一時(shí)刻t質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移以隨距離x變化的圖形稱之為波剖面圖。4時(shí)間場(chǎng):時(shí)空函數(shù)所確定的時(shí)間t的空間分布稱為時(shí)間場(chǎng)。5等時(shí)面:在時(shí)間場(chǎng)中,如果將時(shí)間值相同的各點(diǎn)連接起來(lái),在空間構(gòu)成一個(gè)面,在面中任意點(diǎn)地 震波到達(dá)的時(shí)間相等,稱之為等時(shí)面。6橫波:彈性介質(zhì)在發(fā)生切變時(shí)所產(chǎn)生的波稱之為橫波,即剪切形變?cè)诮橘|(zhì)中傳播又稱之為剪切波 或S波。7縱波:彈性介質(zhì)發(fā)生體積形變(即拉伸或壓
2、縮形變)所產(chǎn)生的波稱為縱波,又稱壓縮波或P波,8頻譜分析:對(duì)任一非周期地震阻波進(jìn)行傅氏變換求域的過(guò)程。9波前面:惠更斯原理也稱波前原理,假設(shè)在彈性介質(zhì)中,已知某時(shí)刻ti波前面上的各點(diǎn),則可把這些點(diǎn)看做是新的震動(dòng)源,從ti時(shí)刻開(kāi)始產(chǎn)生子波向外傳播,經(jīng)過(guò)A t時(shí)間后,這些子波波前所構(gòu) 成的包攏面就是ti+At時(shí)刻的新的波前面。10視速度:沿觀測(cè)方向,觀測(cè)點(diǎn)之間的距離和實(shí)際傳播時(shí)間的比值,稱之為視速度。V11觀測(cè)系統(tǒng):在地震勘探現(xiàn)場(chǎng)采集中,為了壓制干擾波和確保對(duì)有效波進(jìn)行,X追蹤,激發(fā)點(diǎn)和接 收點(diǎn)之間的排列和各排列的位置都應(yīng)保持一定的相對(duì)關(guān)系,這種激發(fā)點(diǎn)和接收點(diǎn)之間以及排列和排 列之間的位置關(guān)系,稱
3、之為觀測(cè)系統(tǒng)。12水平疊加:又稱共反射點(diǎn)疊加或共中心點(diǎn)疊加,就是把不同激發(fā)點(diǎn)不同接收點(diǎn)上接收到的來(lái)自 同一反射點(diǎn)的地震記錄進(jìn)行疊加。13時(shí)距曲線:一種表示接收點(diǎn)距離和地震波走時(shí)的關(guān)系曲線,通常以接收點(diǎn)到激發(fā)點(diǎn)的距離為橫 坐標(biāo),地震波到達(dá)該接收點(diǎn)的走時(shí)為縱坐標(biāo)。14同向軸:在地震記錄上相同相位的連線。15波前擴(kuò)散:已知在均勻介質(zhì)中,點(diǎn)震源的波前為求面,隨著傳播距離的增大,球面逐漸擴(kuò)展,但是總能量保持不變,而使單位面積上的能量減少,震動(dòng)的振幅將隨之減小,這稱之為球面擴(kuò)散或波前擴(kuò)散。二、判斷題1.視速度小于等于真速度。X2,平均速度大于等于均方根速度。X3 .僅在均勻介質(zhì)時(shí),射線與波前面正交。x4
4、.縱波和橫波都是線性極化波。X5 .地震子波的延續(xù)時(shí)間長(zhǎng)度同它的頻帶寬度成正比。X6 .傾斜界面情況下,折射波上傾方向接收時(shí)的視速度等于下傾方向的視速度。X7 .折射波時(shí)距曲線是通過(guò)原點(diǎn)的直線,視速度等于界面速度。X12.瑞雷面波是線性極化波。X8 .折射波的形成條件是地下存在波阻抗界面。x9 .對(duì)水平多層介質(zhì),疊加速度是均方根速度。V10 .從各個(gè)方向的測(cè)線觀測(cè)到的時(shí)距曲線極小點(diǎn)位置,一般可以確定反射界面的大致傾向。V11 .相遇觀測(cè)系統(tǒng)屬于折射波法的觀測(cè)系統(tǒng),12 .將不能接收到折射波的區(qū)稱為盲區(qū),13 .反射界面越深,視速度越大,時(shí)距曲線越平緩。V14 .同一巖土介質(zhì)中,縱波的吸收系數(shù)和
5、橫波的吸收系數(shù)相等。X15 .地震波在傳播中高頻成份損失較快,而存留了較低的頻率成分。V16 .縱波傳播速度小于橫波傳播速度。X17 .地震勘探中檢波器記錄的是波剖面。X18一股來(lái)說(shuō),同一巖土介質(zhì)中,縱波的吸收系數(shù)大于橫波的吸收系數(shù)。V19物質(zhì)越致密,其泊松比越小。V20.繞射波時(shí)距曲線極小值位于繞射點(diǎn)正上方。V三、簡(jiǎn)答題1 .用文字和圖示的形式分析震動(dòng)圖和波剖面圖振動(dòng)圖如下圖所示,假設(shè)在離震源距離為 r1的A點(diǎn)觀測(cè)質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移隨時(shí)間的變化規(guī)律,用時(shí)間 t為橫坐標(biāo),質(zhì)點(diǎn)位移u為縱坐標(biāo)作圖,可得圖(b)所示的圖形。該點(diǎn)地震波振動(dòng)的位移大小稱之為振幅值變化、振動(dòng)周期( T)延續(xù)時(shí)間(?t)等特征。
6、這種用坐標(biāo) 系統(tǒng)表示的質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移隨時(shí)間變化的圖形稱為地震波的振動(dòng)圖。在實(shí)際地震記錄中,每一道記 錄就是一個(gè)觀測(cè)點(diǎn)的地震波振動(dòng)圖。波剖面圖如下圖所示,假定在某一確定的時(shí)刻t,在距離震源點(diǎn)。的一定范圍內(nèi)的各不同距離的點(diǎn)上,同時(shí)觀察它們的質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)的情況,并以觀測(cè)點(diǎn)與振源O的距離x為橫坐標(biāo),以質(zhì)點(diǎn)離開(kāi)平衡位置的位移u為縱坐標(biāo)作圖所得圖形如下圖(b)所示從圖中可以看出質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)的波長(zhǎng) 地該時(shí)亥起振點(diǎn)X2 (波前)及停振點(diǎn)X1 (波尾)等特征。描述 某一時(shí)刻t質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)位移u隨距離x變化的圖形稱之為波剖面圖。2 .什么是視速度?什么是真速度?它們之間有什么關(guān)系?沿波射線傳播的速度是真速度(2分),沿測(cè)線方向
7、傳播的速度是視速度(2分)。視速度與真速度之間的關(guān)系稱視速度定理,其表達(dá)式為:V =V/sina ,其中V為視速度,V為真速度,a是射線與地面法線間的夾角3 .折射波法有哪些觀測(cè)系統(tǒng)?單支時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)、相遇時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)、多重相遇時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)以及追逐時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)。4 .什么是多次覆蓋系統(tǒng)?每激發(fā)一次,激發(fā)點(diǎn)和整個(gè)排列怎樣向前移動(dòng)?多次覆蓋觀測(cè)系統(tǒng)是根據(jù)水平疊加技術(shù)的的要求而設(shè)計(jì)的。水平疊加的概念:又稱共反射點(diǎn)疊加或共中心點(diǎn)疊加,就是把不同激發(fā)點(diǎn)、不同接收點(diǎn)上接收到的來(lái)自同一反射點(diǎn)的地震記錄 進(jìn)行疊加。這樣可以壓制多次波和各種隨機(jī)干擾波,從而大大提高了信噪比和地震剖面的質(zhì)量,并且可
8、以提取速度等重要參數(shù)。選定偏移距和檢波距之后,每激發(fā)一次,激發(fā)點(diǎn)和整個(gè)排列都同時(shí)向前移動(dòng)一個(gè)距離,直到測(cè)算全部剖面。5 .影響地震波速度的主要因素有哪些?巖石的密度孔隙度壓力和溫度埋藏深度和地質(zhì)年代其它因素包括地質(zhì)構(gòu)造運(yùn)動(dòng),巖層的風(fēng)化侵蝕等。6 .單層傾斜界面折射波時(shí)距曲線的特點(diǎn)是什么?(1)上傾與下傾方向時(shí)距曲線斜率不同, 其視速度不同,上傾方向視速度大于下傾方向的視速度。(2)上傾與下傾方向觀測(cè)到的初至區(qū)距離和盲區(qū)大小不同,在下傾方向接收時(shí),初至區(qū)距離和盲區(qū)較小,截距時(shí)間也要小些。在上傾方向接收時(shí),初至區(qū)距離和盲區(qū)要大些,截距時(shí)間也要大些。據(jù)此可以判斷界面的傾向。(3)當(dāng)i+?90o時(shí)若在
9、下傾方向接收,折射波射線將無(wú)法返回地面,這時(shí)盲區(qū)無(wú)限大。而在上傾方向接收,則入射角總是小于臨界角,無(wú)法形成折射波。*Vi*ViV 二- V =-(4)上傾與下傾方向觀測(cè)的視速度分別為:sin(i -CP) sin(i +力 i=?v?(b) i<?V*為負(fù)(5)若已知Vi,則可根據(jù)相遇時(shí)距曲線的視速度求得傾角和臨界角以及V2 (V2=Vi/sini )。7.水平界面反射波時(shí)距曲線的特點(diǎn)是什么?(1)直達(dá)波的時(shí)距曲線為反射波時(shí)距曲線的漸近線;(2)若界面R同時(shí)是折射界面,在臨界點(diǎn)附近,反射波受到折射波的干擾;(3) V*的變化原因,在于反射波到達(dá)各觀測(cè)點(diǎn)的入射角不同;(4)反射界面越深,視
10、速度越大,時(shí)距曲線越平緩。8 .地震波在傳播過(guò)程中的衰減規(guī)律是什么?地震波由于受波前擴(kuò)散和吸收衰減的影響,在介質(zhì)中傳播的振幅變化規(guī)律可A = Aoe-: .r用下式表示: r上式中?(f)為頻率的函數(shù).除此以外,地震波在傳播過(guò)程中,當(dāng)遇到不同巖層的分界面時(shí),將產(chǎn)生波的透射、反射及波的轉(zhuǎn)換等,如果分界面不平整,還會(huì)產(chǎn)生波的散射(漫射),這些過(guò)程也會(huì)損耗地震波的能量,使波的振幅減.9 .什么是大地濾波作用?地震波在傳播過(guò)程中隨著距離或深度的增加,高頻成分會(huì)被很快地?fù)p失掉,而且波的振幅按指數(shù)規(guī)律衰減。實(shí)際地層對(duì)波的這種改造,通常稱為大地低通濾波器效應(yīng)。10 .寫出縱波、橫波、面波速度的大小關(guān)系?面波
11、 橫波 縱波12 .形成地震反射波和折射波的條件是什么?形成反射波的條件:界面上下有波阻抗差異;形成折射波的條件:界面下層速度大于上層速度,并且達(dá)到臨界角 i13 .如何確定反射波法的最大和最小炮檢距1 .最大炮檢距Xmax就是炮點(diǎn)與最遠(yuǎn)一道之間的距離,一般最大炮檢距應(yīng)大致等于最深目的層的深度h,或 mmax=(0.71.5)h2 .最大炮檢距太大會(huì)帶來(lái)寬角反射的畸變影響;3 .最小炮檢距Xmin是炮點(diǎn)與最近一道檢波器之間的距離,又稱偏移距;4 .X min不應(yīng)小于最淺目的層的深度;5 .X min大一些可以消除聲波和面波干擾。四、選擇題1 .振動(dòng)圖是A(A) 一個(gè)質(zhì)點(diǎn)在振動(dòng)過(guò)程中,位移隨時(shí)間
12、變化的曲線(B) 一個(gè)質(zhì)點(diǎn)在振動(dòng)過(guò)程中,位移隨空間變化的曲線(C)波傳播過(guò)程中某一時(shí)刻整個(gè)介質(zhì)中所有質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)隨空間變化的曲線(D)波傳播過(guò)程中某一時(shí)刻整個(gè)介質(zhì)中所有質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)隨時(shí)間變化的曲線2 .某時(shí)刻的波前是B(A)該時(shí)刻所有剛停止振動(dòng)的質(zhì)點(diǎn)組成的曲面(B)該時(shí)刻所有剛開(kāi)始振動(dòng)的質(zhì)點(diǎn)組成的曲面(C)該時(shí)刻所有正在振動(dòng)的質(zhì)點(diǎn)組成的曲面(D)以上說(shuō)法都不對(duì)3 .關(guān)于泊松比* 下列敘述不正確的是D(A)介質(zhì)的橫向應(yīng)變與縱向應(yīng)變的比值稱為泊松比(B)當(dāng)增大時(shí),對(duì)縱波的影響較大,對(duì)橫波的影響較小(C)已知介質(zhì)的泊松比,便可確定縱、橫波速度的比值(D)對(duì)于巖土介質(zhì)來(lái)說(shuō),越堅(jiān)硬致密,泊松比越大4 .地震波的
13、波長(zhǎng),是(A)的乘積A波速與周期B波速與頻率C波數(shù)與波速D波數(shù)與周期5.若a為波射線與地面法線之間的夾角,則視速度V與地震波傳播的真速度V的之間的關(guān)系為C(A) V = V /sini:(B) V =V /cos :(C) V = V /sin -(D) V =V/cos:6.滑行波是(B )A、以下層速度沿界面滑行的折射波B、以下層速度沿界面滑行的透射波C、以上層速度沿界面滑行的透射波6 .當(dāng)遇斷層破碎帶時(shí),地震波能量會(huì)變(B)A大B小C不變化7 .關(guān)于橫波,下面敘述錯(cuò)誤的是B(A)介質(zhì)發(fā)生切變時(shí)產(chǎn)生的波動(dòng)(B)當(dāng)其在介質(zhì)中傳播時(shí),會(huì)形成間隔出現(xiàn)的壓縮帶和稀疏帶(C)質(zhì)點(diǎn)的振動(dòng)方向與波的傳播
14、方向垂直(D)振動(dòng)強(qiáng)度隨波傳播距離的增大而減小8 .水平疊加時(shí)間剖面上,相鄰共反射點(diǎn)疊加輸出道(CDP的間隔是道間距 X的(B)A1B1/2C1/39 .下面不屬于折射波法觀測(cè)系統(tǒng)的是A(A)多次覆蓋觀測(cè)系統(tǒng)(B)相遇時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)(C)追逐時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)(D)多重相遇時(shí)距曲線觀測(cè)系統(tǒng)10 .不考慮波前擴(kuò)散和衰減,垂直入射時(shí),反射系數(shù)與透射系數(shù)之和等于(B)A2B1C1/2D1/311 .反射介面和反射波時(shí)距曲線之間存在如下關(guān)系D(A)反射界面越淺,視速度越小,時(shí)距曲線越平緩(B)反射界面越深,視速度越小,時(shí)距曲線越平緩(C)反射界面越淺,視速度越大,時(shí)距曲線越平緩(D)反射介面越深,視速
15、度越大,時(shí)距曲線越平緩12 .當(dāng)?shù)孛婧头瓷浣缑鏋槠矫鏁r(shí),共炮點(diǎn)反射波時(shí)距曲線極小點(diǎn)處的視速度為(A)A無(wú)窮大B真速度C零D界面速度13 .折射界面(B)A、埋藏越淺,折射波的盲區(qū)越大B、埋藏越淺,折射波的盲區(qū)越小G埋藏深度與盲區(qū)大小無(wú)關(guān)14 .動(dòng)校正的目的是(A)A將反射波時(shí)距曲線展成與地下界面一致的形狀B、消除多次波對(duì)時(shí)距曲線的干擾G消除地形起伏,地表低速帶和炮點(diǎn)深度對(duì)時(shí)距曲線的干擾15 .波剖面是C(A) 一個(gè)質(zhì)點(diǎn)在振動(dòng)過(guò)程中,位移隨時(shí)間變化的曲線(B) 一個(gè)質(zhì)點(diǎn)在振動(dòng)過(guò)程中,位移隨空間變化的曲線(C)波傳播某一時(shí)刻整個(gè)介質(zhì)中所有質(zhì)點(diǎn)振動(dòng)隨空間變化的曲線(D)波傳播某一時(shí)刻整個(gè)介質(zhì)中所有質(zhì)
16、點(diǎn)振動(dòng)隨時(shí)間變化的曲線16 .關(guān)于淺層地震地質(zhì)條件,下列說(shuō)法正確的是D(A)松散覆蓋層較厚的地區(qū)容易激發(fā)出能量較強(qiáng)或頻率較高的有效波。(B)激震點(diǎn)位于潛水面以下激發(fā)時(shí),所產(chǎn)生的地震波能量較弱(C)地震界面和地質(zhì)界面是一致的(D)地震標(biāo)志層必須在較大范圍內(nèi)分布穩(wěn)定,且具有明顯的地震波運(yùn)動(dòng)17 .瑞利波面波、橫波和縱波速度的大小關(guān)系為C(A) VR<Vs>Vp(B) VR>Vs>Vp(Q VR<Vs<Vp (D) VR>Vs<Vp18 .關(guān)于反射波時(shí)距曲線,下列說(shuō)法不正確的是D(A)反射波時(shí)距曲線方程為雙曲線(B)直達(dá)波時(shí)距曲線是反射波時(shí)距曲線的漸進(jìn)
17、線(C)反射界面越深,視速度越大(D)反射介面越淺,時(shí)距曲線越平緩19 .在盲區(qū)內(nèi)(B)A能同時(shí)接收到反射波和折射波 B接收不到折射波C接收不到反射波20 .當(dāng)無(wú)穿透現(xiàn)象時(shí),不同炮點(diǎn)激發(fā)的同一界面的追逐時(shí)距曲線(A)A相互平行B不相關(guān)C斜交五、計(jì)算題1 .已知水平兩層介質(zhì),上下兩層波速度分別為V=1000m/s, V=3000m/s,界面7知變?yōu)?0m求折射波盲區(qū)半徑R。sini =V1/V2折射波視速度等于V2、折射波的盲區(qū)半徑R=2htgi2 .已知上下兩層的速度 M=1000m/s, V2=2000m/s,截距時(shí)間t o=60m§求炮點(diǎn)處折射界面的法線深 度及盲區(qū)半徑r o3
18、.設(shè)有一均勻地層,其速度值為1000m/s。一組平行的波射線以與地面法線成 60°的方向入射,求 在地面觀測(cè)到的視速度為多少?*V =V /sin a ,4.已知地下深度為30m處有一水平速度分界面,上下兩層速度分別為V1=1000m/s, V=3000m/s,求折射波時(shí)距曲線的截距時(shí)間10。5.一個(gè)以女30出射的反射波的視周期 1=50ms,視波長(zhǎng)?*=300m,試計(jì)算其視頻率f*和介質(zhì)中的波速度V6 .請(qǐng)根據(jù)以下折射波相遇時(shí)距曲線和反射波時(shí)距曲線,判斷地下界面的形狀和傾向,并示意繪在圖的下方7 .將下列圖中各界面的編號(hào)標(biāo)在它們所對(duì)應(yīng)的折射波或反射波時(shí)距曲線上。三、電法勘探部分1
19、.名詞解釋電阻率是表征物質(zhì)導(dǎo)電性的基本參數(shù),某種物質(zhì)的電阻率實(shí)際上就是當(dāng)電流垂直通過(guò)由該物質(zhì)所 組成的邊長(zhǎng)為1m的立方體時(shí)而呈現(xiàn)的電阻。視電阻率,進(jìn)行測(cè)量的地段地下巖石電性分布不均勻時(shí), 計(jì)算結(jié)果稱之為視電阻率,并用ps表示。 電法勘探(人們常稱電法或電探)是勘探地球物理學(xué)中的一個(gè)分支,是電學(xué)、電磁學(xué)、電子學(xué)及電化學(xué)在解決地質(zhì)找礦及地質(zhì)學(xué)問(wèn)題中發(fā)展起來(lái)的一門應(yīng)用科學(xué)。縱向電導(dǎo),當(dāng)電流平行巖柱體底面流過(guò)時(shí),所測(cè)得的電導(dǎo)稱為縱向電導(dǎo)。用S來(lái)表示橫向電阻,當(dāng)電流垂直巖柱體底面流過(guò)時(shí),所測(cè)得的電阻稱為橫向電阻,用符號(hào)T來(lái)表示,單位為歐姆。積累電荷,在非均勻?qū)щ娊橘|(zhì)中,存在著電荷的體分布,這種電荷稱為積
20、累電荷。積累電荷主要存在于電阻率不同的介質(zhì)分界面上。電剖面法,電剖面法是用以研究地電斷面橫向電性變化的一類方法。電測(cè)深法,電測(cè)深法是在地表某點(diǎn)測(cè)量電極不動(dòng),按規(guī)定不斷加大供電極距,從而研究地表某點(diǎn)下方電性的垂向變化。正交點(diǎn),地電斷面,在電法勘探中,我們通常把按電性不同所劃分的地質(zhì)斷面稱為地電斷面。理想導(dǎo)體,電阻率為零的導(dǎo)體為理想導(dǎo)體,實(shí)際工作中當(dāng)良導(dǎo)地質(zhì)體的電阻率遠(yuǎn)小于圍巖電阻率時(shí), 良導(dǎo)地質(zhì)體可近似的看作理想導(dǎo)體。自然電場(chǎng)法,自然電場(chǎng)是一種直流電場(chǎng),在一定的地質(zhì)一地球物理?xiàng)l件下,地中存在的天然穩(wěn)定 電流場(chǎng)稱為自然電場(chǎng)。基于研究自然電場(chǎng)的分布規(guī)律來(lái)達(dá)到找礦或解決其它地質(zhì)問(wèn)題的一種方法 稱為自然
21、電場(chǎng)法。激發(fā)極化效應(yīng)激發(fā)極化效應(yīng):在充、放電的過(guò)程,由于電化學(xué)作用所引起的隨時(shí)間緩慢變化的附加 電場(chǎng)的現(xiàn)象。2 .判斷題1 .潛水面切割導(dǎo)體是電子導(dǎo)體產(chǎn)生自然電場(chǎng)的必要條件。V2 .電阻率法勘探只能探測(cè)導(dǎo)電性好的低阻體。(X )3.當(dāng)電流由低阻介質(zhì)流向高阻介質(zhì)時(shí),界面上積累負(fù)電荷,當(dāng)電流由高阻介質(zhì)流入低阻介質(zhì)時(shí),界面上積累正電荷。x4理想導(dǎo)體充電電場(chǎng)的空間分布取決于充電點(diǎn)的位置,與導(dǎo)體的形狀、大小、產(chǎn)狀及埋深無(wú)關(guān)。X7.電阻率測(cè)深法的勘探深度隨供電極距的增大而減小(X)5. 一般說(shuō)來(lái),供電極距 AB愈大,電法勘探深度也愈大。V6 .中間梯度法適合于尋找陡傾的高阻巖脈(,)7 .穩(wěn)定電流場(chǎng)中任一
22、點(diǎn)的電流密度與該點(diǎn)場(chǎng)強(qiáng)成正比,與介質(zhì)的電阻率成反,3、選擇題1 .關(guān)于穩(wěn)定電流場(chǎng)的基本規(guī)律,下面敘述錯(cuò)誤的是C(A)穩(wěn)定電流場(chǎng)中電流處處連續(xù)(B)穩(wěn)定電流場(chǎng)中電位處處有限且連續(xù)(C)穩(wěn)定電流場(chǎng)中任一點(diǎn)的電流密度與該點(diǎn)場(chǎng)強(qiáng)成反比,與介質(zhì)的電阻率成正比。(D)穩(wěn)定電流場(chǎng)中電荷的分布不隨時(shí)間而改變2 .聯(lián)合剖面法的電場(chǎng)屬于B(A) 一個(gè)點(diǎn)電源的電場(chǎng)(B)兩個(gè)異性點(diǎn)電源的電場(chǎng)(C)兩個(gè)同性點(diǎn)電源的電場(chǎng)(D)三個(gè)點(diǎn)電源的電場(chǎng)3 .QHK型曲線反映的地下幾層地電斷面D( A) 1 層( B) 2 層( C) 3 層( D) 5 層4 .視電阻率是B(A)某一電性層(或?qū)щ妿r、礦體)的電阻率(B)電場(chǎng)作用范
23、圍內(nèi)地形及各電性層(或?qū)щ妿r、礦體)電阻率的綜合反映(C)電場(chǎng)作用范圍內(nèi)各電性層(或?qū)щ妿r、礦體)的平均電阻率(D)測(cè)量電極M Nfr點(diǎn)正下方某一層的電阻率5 .視電阻率與下列哪些條件無(wú)關(guān)(C )。A 裝置的電極距b 圍巖的電阻率c 供電電流D 礦體的電阻率1 簡(jiǎn)答題(1 )簡(jiǎn)述影響巖、礦石電阻率的主要因素及巖、礦石電阻值變化的一般規(guī)律。自然狀態(tài)下,巖土的電阻率除了和組份有關(guān)外,還和其它因素有關(guān),如巖石的結(jié)構(gòu)、構(gòu)造、孔隙度及含水性等。由于主要的造巖礦物如長(zhǎng)石、石英、云母等電阻率均相當(dāng)高,因此,對(duì)于一股巖石來(lái)說(shuō),礦物骨架的電阻率是高的。一般巖石的電阻率要低于其所含礦物的電阻率。一股比較致密的巖石
24、,孔隙度較小,所含水分也較少,因而電阻率較高;結(jié)構(gòu)比較疏松的巖石,孔隙度較大, 所含水分也較多,因而電阻率較低。(2)穩(wěn)定電流場(chǎng)微分歐姆定律的表達(dá)及含義?Ej =穩(wěn)定電流場(chǎng)滿足歐姆定律,在微觀情況下,其微分形式是:穩(wěn)定電流場(chǎng)中任一點(diǎn)的電流密度與該點(diǎn)場(chǎng)強(qiáng)成正比,與介質(zhì)的電阻率成反比。(3)裝置系數(shù)的含義,當(dāng)AB=l00m,MN=10耐對(duì)稱四極裝置系數(shù)K值的大小。K為電極裝置系數(shù) k是一個(gè)只與電極的空間位置有關(guān)的物理量。(4)何謂電阻率和視電阻率?試說(shuō)明其異同點(diǎn)。當(dāng)?shù)叵掳肟臻g有低阻不均勻體存在時(shí),由于正常電流線被低阻體所吸引,使地表MNfc的實(shí)際電流密度減少,所以j MN<j 0 , ?s&
25、lt;?MN當(dāng)?shù)叵掳肟臻g有高阻體存在時(shí),用于正常電流線被高阻體所排斥,使地表MN小的實(shí)際電流密度增加,所以:s>:MN(5)決定和影響電阻率法勘探深度的因素是什么?勘探深度除了和極距有關(guān)外,還和地電斷面的性質(zhì)和結(jié)構(gòu)有關(guān)。能夠在地表產(chǎn)生可靠異常的最大 深度,即為所用電極裝置及相應(yīng)極距的勘探深度 。(6)何謂電剖面法?電剖面法中各種電極裝置形式的基本特征及相互間的關(guān)系怎樣?電剖面法是用以研究地電斷面橫向電性變化的一類方法。剖面法又分二極裝置、三極裝置、聯(lián)合 剖面裝置、對(duì)稱四極裝置、偶極裝置。二極裝置這種裝置的特點(diǎn)是供電電極 B和測(cè)量電極N均置于無(wú)窮遠(yuǎn)處接地三極裝置:只將供電電極 B置于無(wú)窮遠(yuǎn)
26、,而將AMN&測(cè)線排列進(jìn)行逐點(diǎn)觀測(cè)。三極裝置通常取MN 勺中點(diǎn)作為觀測(cè)結(jié)果的記錄點(diǎn)。對(duì)稱四極裝置:這種裝置特點(diǎn)是 AM=NB記錄點(diǎn)取在MN的中點(diǎn)。取AM=MN=NB時(shí),這種對(duì)稱等距 排列,成為溫納裝置,K=2lla。聯(lián)合剖面裝置由兩個(gè)三極裝置聯(lián)合組成,其中電源負(fù)極置于無(wú)窮遠(yuǎn),電源的正極可向A極,也可 向B極中間梯度法:此方法是裝置將供電電極 A和B固定在相距很遠(yuǎn)的地方,測(cè)量電極 MNft AB中段的 1/3的范圍內(nèi)逐點(diǎn)測(cè)量。(7)什么是正交點(diǎn)和反交點(diǎn)? p s曲線正、反交點(diǎn)的主要特征是什么?(8)電剖面法和電測(cè)深法的區(qū)別 電測(cè)深法是在地表某點(diǎn)測(cè)量電極不動(dòng),按規(guī)定不斷加大供電極距,從而研
27、究地表某點(diǎn)下方電性的 垂向變化。由于供電極距不斷加大,增大了供電電流在地下的分布范圍,實(shí)際上相當(dāng)于加大了勘 探深度電剖面法是用以研究地電斷面橫向電性變化的一類方法。一般采用固定的電極距,并使電 極裝置沿剖面移動(dòng),這樣便可觀測(cè)到在一定深度范圍內(nèi)視電阻率沿剖面的變化(9)視電阻率微分公式的表達(dá)及推導(dǎo)過(guò)程,并說(shuō)明式中各量的含義。 j0假設(shè)測(cè)量電極之間的距離為lNNk NNlUmn = Emn dl - JmN 'MN dl;sEmN dl - K j MN : MN dlMMIMM、KK MN .、:s = T EMN.MNjMN . :MNII. p s = JmN* p m/J o(2
28、分),p s:視電阻率(1 分);Jmn: MN|可頭際電流密度(1分);P mm測(cè)量電極MN間實(shí)際電阻率(1分);Jo:地下為均勻介質(zhì)時(shí),MN間的電 流密度(1分)。(10)充電法的應(yīng)用條件是什么?1)被研究的對(duì)象(充電體)至少已有一處被揭露或出露,以便設(shè)置充電點(diǎn);(2)充電體相對(duì)圍巖應(yīng)是良導(dǎo)電體;(3)充電體規(guī)模越大,埋藏越淺,應(yīng)用充電法的效果越理想。充電法的最大研究生度一般僅為充電體延伸長(zhǎng)度一半。(11)聯(lián)合剖面裝置的剖面曲線和相同極距的對(duì)稱剖面曲線什么關(guān)系?用圖示和公式表達(dá)出來(lái)。(12)什么是理想導(dǎo)體?理想導(dǎo)體充電電場(chǎng)有什么特點(diǎn)?(13)中間梯度法主要用來(lái)解決什么樣的地質(zhì)問(wèn)題?中間梯度
29、法主要用來(lái)尋找陡傾的高阻體,如石英脈、偉晶巖脈等。(14)積累電荷的特點(diǎn)是什么?在非均勻?qū)щ娊橘|(zhì)中,存在著電荷的體分布,這種電荷稱為積累電荷。由于在電法勘探中,主要 考慮分區(qū)均勻的電性分布情況,所以積累電荷主要存在于電阻率不同的介質(zhì)分界面上。在場(chǎng)中某 點(diǎn)附近取一閉合曲面,若流入、流出該曲面的電流密度通量不等于零,便出現(xiàn)電荷的積累。積累電荷的大小除了和該點(diǎn)電流密度有關(guān)外,還和界面兩側(cè)電阻率的差異有關(guān)。(15)充電法的可以解決哪些地質(zhì)問(wèn)題?(1)確定已揭露(或出露)礦體隱伏部分的形狀、產(chǎn)狀、規(guī)模、平面分布位置及深度;(2)確定已知相鄰礦體之間的連接關(guān)系;(3)在已知礦體附近找盲礦體;(4)利用單井
30、測(cè)定地下水的流向和流速;(5)研究滑坡及追蹤地下金屬管線等。(16)何謂等價(jià)原則?怎樣解釋H(或A)型曲線和K (或Q)型曲的G等價(jià)和T2等價(jià)現(xiàn)象? 在電測(cè)深法的實(shí)際工作中,由于觀測(cè)誤差的存在,經(jīng)常會(huì)遇到地電斷面參數(shù)不同而視電阻率曲線&和T2等卻完全相同的現(xiàn)象,把這種情況稱為電測(cè)深曲線的等價(jià)現(xiàn)象。對(duì)于三層地電斷面,存在價(jià)現(xiàn)象。1.H型(或A型)斷面的Q等價(jià)現(xiàn)象當(dāng)hi、?、一定,而2較小的情況下,淮曲線中段極小值不明顯,只要保持中間層縱向電導(dǎo)&不變,則k=兀 AM*AN/MN(2) AB=200米,MN/2=10米的對(duì)稱四極視電阻率測(cè)量中, 測(cè)得供電電流為0.314A,電位差為2
31、0mV 求出視電阻率的大???若供電電流加大一倍時(shí),結(jié)果有無(wú)變化?為什么?若供電電流增大一倍,結(jié)果無(wú)變化,因?yàn)殡娏髟龃箅娢徊钜簿€性增大但其比值保持不變,所以結(jié)果不變。(3)作圖題繪出下列地質(zhì)剖面對(duì)應(yīng)的 p s測(cè)深曲線示意圖。AIn p s(QM)lnAB/2飽和粘土卵石粉質(zhì)粘土 曲線類型。(3)中間層橫向電阻T2等于多少?(4)當(dāng) h2=25mrjp 2=360。.m時(shí):雁挈有吏庫(kù)?9m什么?(5)若 p2=180。. m,h2=30m時(shí)曲線發(fā)生了怎樣的變化?p 2=30OQ .h=i0mj探1.1.名詞解釋重力勘探以地殼中不同巖、M220緊度m異為基礎(chǔ),通過(guò)觀測(cè)與研究天然重力場(chǎng)的變化規(guī)律以查明
32、地質(zhì)構(gòu)造和尋找礦產(chǎn)的一種物探方法重力異常在重力勘探中,將由于地下巖石、礦物密度分布不均勻所引起的重力變化稱為重力異常。緯度改正 地球表面的重力值隨緯度(?)而變化,為了消除由于測(cè)點(diǎn)所在的緯度不同而引起的重力變化,必須進(jìn)行緯度改正,地形改正即把測(cè)點(diǎn)平面以上的物質(zhì)除去,并把測(cè)點(diǎn)平面以下的空缺填補(bǔ)起來(lái),這項(xiàng)工作叫地形改正,中間層改正,由于測(cè)點(diǎn)與基點(diǎn)之間還存在一定的高差,故測(cè)點(diǎn)到基準(zhǔn)面(基點(diǎn)所在的水平面)電測(cè)深曲線的形狀也不變。對(duì)于A型三層斷面,同樣遵循 &等價(jià)原則。K型(或Q型)斷面的T2等價(jià)現(xiàn)象當(dāng)hi、?、為一定,2較小的情況下,公曲線的極大值不明顯,只要保持中間層橫向電阻 T2不變,則,曲線的形狀也不變。對(duì)于 Q型三層斷面,第二層中的電流也近似于垂直層面流動(dòng),同樣遵循T2等價(jià)原則3.綜合題(1)用對(duì)稱四極剖面法測(cè)得某測(cè)的得! M=10mVI=40mA,已知供電電極AB=110m測(cè)量電極MN=10m 試求該點(diǎn)視電阻率P s值。根據(jù)地電斷面內(nèi)異常體的特征繪制聯(lián)合剖面曲線p 112<1(4)繪出H、K、A、Q型對(duì)稱四極電測(cè)深曲線,并給出各類型地電斷面所對(duì)應(yīng)的層數(shù)及電性關(guān)系,并說(shuō)明這四種曲線類型分別可能反應(yīng)哪種等價(jià)現(xiàn)象。(7)有如下地
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