非晶態(tài)金屬的制備方法_61207226

1、研究生選修課研究生選修課清華大學(xué)清華大學(xué)材料學(xué)院材料學(xué)院非晶態(tài)金屬非晶態(tài)金屬陳娜陳娜Tsinghua University第三章第三章 非晶態(tài)金屬的制備方法非晶態(tài)金屬的制備方法 內(nèi)容提要：內(nèi)容提要： 本章重點介紹非晶態(tài)金屬的常用制備方法，本章重點介紹非晶態(tài)金屬的常用制備方法，以及在制備非晶態(tài)金屬過程中需要注意的關(guān)鍵因以及在制備非晶態(tài)金屬過程中需要注意的關(guān)鍵因素。素。 學(xué)習(xí)目標(biāo)：學(xué)習(xí)目標(biāo)： 本章重點掌握非晶態(tài)金屬的常用制備方法。本章重點掌握非晶態(tài)金屬的常用制備方法。Tsinghua UniversityPage 33.13.1 液體極冷技術(shù)液體極冷技術(shù) 液體極冷或快速凝固液體極冷或快速凝固（ra

2、pid solidification）采用比常規(guī)凝固工采用比常規(guī)凝固工藝快得多的冷卻速度，使得金屬或合金熔體以極快的冷卻速度由液體轉(zhuǎn)變藝快得多的冷卻速度，使得金屬或合金熔體以極快的冷卻速度由液體轉(zhuǎn)變?yōu)楣腆w的過程。為固體的過程。 銅輥甩帶和銅模鑄造法銅輥甩帶和銅模鑄造法 19601960年，年，DuwezDuwez等制備首例等制備首例Au-SiAu-Si非晶態(tài)金屬條帶。非晶態(tài)金屬條帶。 u 冷速可達(dá)冷速可達(dá)106k/su 首次報道液體急冷結(jié)構(gòu)、形貌、大小的變化規(guī)律首次報道液體急冷結(jié)構(gòu)、形貌、大小的變化規(guī)律u 激活了非晶態(tài)金屬領(lǐng)域激活了非晶態(tài)金屬領(lǐng)域Nature 187:869 (1960)Tsi

3、nghua UniversityPage 43.13.1 液體極冷技術(shù)液體極冷技術(shù) 3.1.1 3.1.1 超快極冷超快極冷銅模鑄造銅模鑄造Die-casting熔體甩帶熔體甩帶Melt-spinning熔體淬滅熔體淬滅Splat-quenching激光冷淬激光冷淬Pulsed laser quenching電流脈沖電流脈沖Electric pluse-quenching冷卻速度(k/s)10110310510610910101012101310131014Dc (mm)1100.0030.1310-510-410-6310-510-7310-6c2c10RD單質(zhì)非晶態(tài)金屬單質(zhì)非晶態(tài)金屬Ta

4、MG, Nature 512 (2014) 177.Tsinghua UniversityPage 53.13.1 液體極冷技術(shù)液體極冷技術(shù) 3.1.2 3.1.2 深過冷快速凝固深過冷快速凝固Turnbull D et al. J. Appl. Phys. 21, 804 (1950) and 魏炳波等航空學(xué)報魏炳波等航空學(xué)報12，A214 (1991). 深過冷：深過冷：通過避免或消除異質(zhì)晶核，同時抑制均質(zhì)形核使液體金屬獲得常規(guī)凝固條件通過避免或消除異質(zhì)晶核，同時抑制均質(zhì)形核使液體金屬獲得常規(guī)凝固條件下難以達(dá)到的過冷度。下難以達(dá)到的過冷度。 熔劑包覆法：熔劑包覆法：去除異質(zhì)核心去除異質(zhì)核心

5、m0.2TTmaxTurnbull: 懸浮凝固法：懸浮凝固法：去除異質(zhì)核心去除異質(zhì)核心Philos. Mag. A 82,1207 (2002). Pd43Ni10Cu27P20 BMGTsinghua UniversityPage 63.13.1 液體極冷技術(shù)液體極冷技術(shù) 3.1.3 3.1.3 霧化法霧化法霧化：霧化：通過噴嘴或者高速氣流使得液體分散成微小液滴。通過噴嘴或者高速氣流使得液體分散成微小液滴。 微米或納米尺度非晶態(tài)金屬粉末微米或納米尺度非晶態(tài)金屬粉末 非晶態(tài)金屬納米線非晶態(tài)金屬納米線Scri. Mater. 13, 673 (1979)Nano Lett. 12, 2404 (

6、2012).)(/)(TTDVLL:spinnability length, D:wire diameter, V:spinning velocity: viscosity, :surface tension.Tsinghua UniversityPage 73.13.1 液體極冷技術(shù)液體極冷技術(shù) 3.1.3 3.1.3 霧化法霧化法霧化：霧化：通過噴嘴或者高速氣流使得液體分散成微小液滴。通過噴嘴或者高速氣流使得液體分散成微小液滴。 非晶態(tài)金屬納米線非晶態(tài)金屬納米線Scri. Mater. 13, 673 (1979)Nano Lett. 12, 2404 (2012).Tsinghua Un

7、iversityPage 83.23.2 氣相沉積氣相沉積 3.2.1 3.2.1 物理氣相沉積物理氣相沉積物理氣相沉積：物理氣相沉積：采用物理方法，將材料源采用物理方法，將材料源固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體或部分電離成離子，并通過低壓氣體( (或等離子體或等離子體) )過程，在基體表面沉積具有某種特殊過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。功能的薄膜的技術(shù)。 真空蒸鍍真空蒸鍍 惰性氣體冷凝惰性氣體冷凝 濺射濺射 等離子體鍍等離子體鍍 離子鍍離子鍍 分子束外延分子束外延 激光輔助原子層沉積激光輔助原子層沉積MG

8、thin filmsAnn. Phys. 19:37 (1934)Nanoscale 7, 6607 (2015)Nanoscale 7, 6607 (2015)Acta Mater 59, 6433 (2011)基體基體物質(zhì)輸運物質(zhì)輸運能量輸運能量輸運氣態(tài)氣態(tài)Tsinghua UniversityPage 93.23.2 氣相沉積氣相沉積 3.2.1 3.2.1 物理氣相沉積物理氣相沉積 惰性氣體冷凝惰性氣體冷凝納米晶的制備納米晶的制備-Prof. Herbert GleiterProg. Mater. Sci. 33 (1989) 223-3152121s2121MRTpMRTppnNan

9、o Today 9, 17 (2014).Tsinghua UniversityPage 103.23.2 氣相沉積氣相沉積 3.2.1 3.2.1 物理氣相沉積物理氣相沉積磁控濺射：磁控濺射：電子在電子在電場電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子原子發(fā)生碰撞，發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，氬離子電場下加速撞擊靶材表面，轟出靶材原子。磁場電離出大量的氬離子和電子，氬離子電場下加速撞擊靶材表面，轟出靶材原子。磁場可以束縛電子和氬離子，增強(qiáng)等離子體和電離，同時減少原子到達(dá)基板過程中的碰撞?？梢允`電子和氬離子，增強(qiáng)等離子體和電離，同時減少原子到達(dá)基板過程中的

10、碰撞。優(yōu)點優(yōu)點 沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小 金屬、半導(dǎo)體、絕緣體所有材料金屬、半導(dǎo)體、絕緣體所有材料 薄膜與基片結(jié)合較好薄膜與基片結(jié)合較好 薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好薄膜純度高、致密性好、成膜均勻性好 濺射工藝可重復(fù)性好，厚度濺射工藝可重復(fù)性好，厚度可控可控 大面積均勻薄膜的濺射大面積均勻薄膜的濺射 多靶共濺射，多靶共濺射，不同金屬、合金、氧化物混合濺不同金屬、合金、氧化物混合濺射射 易于實現(xiàn)工業(yè)化易于實現(xiàn)工業(yè)化缺點缺點 形成環(huán)狀溝槽，靶材利用率低形成環(huán)狀溝槽，靶材利用率低 等離子體不穩(wěn)定等離子體不穩(wěn)定 強(qiáng)磁體材料難以實現(xiàn)低溫高速濺射強(qiáng)

11、磁體材料難以實現(xiàn)低溫高速濺射ETsinghua UniversityPage 113.23.2 氣相沉積氣相沉積 3.2.1 3.2.1 物理氣相沉積物理氣相沉積脈沖激光輔助物理氣相沉積：脈沖激光輔助物理氣相沉積：脈沖激光氣化高分子材料進(jìn)行薄膜沉積。脈沖激光氣化高分子材料進(jìn)行薄膜沉積。Refs: Nat. Mater. 11, 267 (2012);Nat. Mater. 11, 337 (2012) and Nat. Mater. 12,139 (2013).Tsinghua UniversityPage 123.23.2 氣相沉積氣相沉積 3.2.2 3.2.2 化學(xué)氣相沉積化學(xué)氣相沉積化

12、學(xué)氣相沉積化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposition)：一種氣相生長方法，它是把一種氣相生長方法，它是把一種或幾種含有構(gòu)成薄膜元素的化合物、單質(zhì)氣體通入放置有基材的反應(yīng)室，借助空間氣一種或幾種含有構(gòu)成薄膜元素的化合物、單質(zhì)氣體通入放置有基材的反應(yīng)室，借助空間氣相化學(xué)反應(yīng)在基體表面上沉積固態(tài)薄膜或涂層的工藝技術(shù)。相化學(xué)反應(yīng)在基體表面上沉積固態(tài)薄膜或涂層的工藝技術(shù)。CVD法制備法制備TiC薄膜薄膜四個重要階段四個重要階段 反應(yīng)氣體向基體表面擴(kuò)散反應(yīng)氣體向基體表面擴(kuò)散 反應(yīng)氣體吸附于基體表面反應(yīng)氣體吸附于基體表面 氣相副產(chǎn)物脫離基體表面氣相副產(chǎn)物脫離基體表面 反應(yīng)物覆蓋基體表面

13、形成薄膜反應(yīng)物覆蓋基體表面形成薄膜優(yōu)點優(yōu)點 大面積沉積大面積沉積 高純高純、成分成分、性能可控性能可控 薄膜和器件薄膜和器件 易于實現(xiàn)工業(yè)化易于實現(xiàn)工業(yè)化缺點缺點 沉積速度沉積速度低低 高溫條件高溫條件 反應(yīng)氣體有毒反應(yīng)氣體有毒 不能用于局部沉積不能用于局部沉積Tsinghua UniversityPage 133.23.2 氣相沉積氣相沉積 3.2.2 3.2.2 化學(xué)氣相沉積化學(xué)氣相沉積化學(xué)氣相沉積化學(xué)氣相沉積(chemical vapor deposition)：一種氣相生長方法，它是把一種氣相生長方法，它是把一種或幾種含有構(gòu)成薄膜元素的化合物、單質(zhì)氣體通入放置有基材的反應(yīng)室，借助空間氣

14、一種或幾種含有構(gòu)成薄膜元素的化合物、單質(zhì)氣體通入放置有基材的反應(yīng)室，借助空間氣相化學(xué)反應(yīng)在基體表面上沉積固態(tài)薄膜的工藝技術(shù)。相化學(xué)反應(yīng)在基體表面上沉積固態(tài)薄膜的工藝技術(shù)。分類分類 溫度：高溫和低溫溫度：高溫和低溫CVDCVD 壓強(qiáng)：高壓和低壓壓強(qiáng)：高壓和低壓CVDCVD 激發(fā)方式：熱激發(fā)方式：熱CVDCVD、等離子體增強(qiáng)、等離子體增強(qiáng)CVDCVD、激光誘導(dǎo)、激光誘導(dǎo)CVDCVD用于沉積氧化硅、氮化硅、非晶或多晶硅及難用于沉積氧化硅、氮化硅、非晶或多晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體熔金屬硅化物等多種薄膜，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路工藝中的多層布線、表面鈍化等工藝。集成電路工藝中的多

15、層布線、表面鈍化等工藝。尤其適用于高性能薄膜研究及新材料科學(xué)研究尤其適用于高性能薄膜研究及新材料科學(xué)研究工作。工作。 平板型等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備平板型等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備 Tsinghua UniversityPage 143.33.3 電鍍電鍍 電鍍電鍍(electron plating)：就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電化學(xué)反應(yīng)使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的金屬或合金的過程，是利用電化學(xué)反應(yīng)使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化（如銹蝕），提高耐磨性、導(dǎo)

16、電性、反光性、抗腐蝕性及增工藝從而起到防止金屬氧化（如銹蝕），提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增進(jìn)美觀等作用。進(jìn)美觀等作用。電鍍工藝要求電鍍工藝要求 鍍層與基體金屬鍍層與基體金屬鍍層與鍍層之間有好的結(jié)合力鍍層與鍍層之間有好的結(jié)合力 鍍層表面平整鍍層表面平整厚度均勻可控，少的孔隙率厚度均勻可控，少的孔隙率 鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項指標(biāo)，如光亮度鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項指標(biāo)，如光亮度硬度硬度導(dǎo)電性等導(dǎo)電性等陰極陰極陽極陽極電解質(zhì)電解質(zhì)工件工件預(yù)處理預(yù)處理除油除油、清洗清洗電鍍電鍍后處理后處理清洗清洗、烘干烘干產(chǎn)品產(chǎn)品流程圖流程圖非晶態(tài)金屬電鍍非晶態(tài)金屬電鍍 硬硬質(zhì)質(zhì)、耐磨涂層：耐磨涂層：Ni-WNi

17、-W非晶涂層非晶涂層 表面增韌表面增韌、增塑：增塑：Ni-PNi-P等等 功能性涂層：磁性功能性涂層：磁性Co-Co-GaGa、Fe-CrFe-Cr、Fe-Ni-PFe-Ni-P等等非晶電鍍涂層：非晶電鍍涂層：Co-GaCo-Ga、Fe-CrFe-Cr、Fe-Ni-PFe-Ni-P、Al-MnAl-Mn、Ni-PNi-P、Co-WCo-W 、 Fe-Ni-CrFe-Ni-Cr、Fe-Ni-Cr-PFe-Ni-Cr-P、Au-NiAu-Ni、Co-NiCo-Ni、Fe-CoFe-CoRefs：Plating Surf. Finishing 74, 45 (1987); MSE 99, 105 (

18、1988);Surf. Coating Tech. 190, 75 (2005).Tsinghua UniversityPage 153.33.3 電鍍電鍍 電鍍電鍍(electron plating)：就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電化學(xué)反應(yīng)使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的金屬或合金的過程，是利用電化學(xué)反應(yīng)使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化（如銹蝕），提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增工藝從而起到防止金屬氧化（如銹蝕），提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增

19、進(jìn)美觀等作用。進(jìn)美觀等作用。優(yōu)點優(yōu)點 沉積速度快、沉積速度快、成本低成本低 涂層涂層與基片結(jié)合較好與基片結(jié)合較好 大面積均勻涂層的濺射大面積均勻涂層的濺射 易于實現(xiàn)工業(yè)化易于實現(xiàn)工業(yè)化缺點缺點 工藝流程復(fù)雜工藝流程復(fù)雜 涂層表面粗糙度大涂層表面粗糙度大 成分配比較難控制成分配比較難控制 涂層質(zhì)量稍差，受工藝參數(shù)影響很大涂層質(zhì)量稍差，受工藝參數(shù)影響很大脈沖電流脈沖電流恒定電流恒定電流Refs: Plating Surf. Finishing 74, 45 (1987); MSE 99, 105 (1988).Ref: Surf. Coating Tech. 190, 75 (2005).Fe-C

20、r-P-CoFe-Cr-P-Co 廢水廢氣污染環(huán)境廢水廢氣污染環(huán)境Tsinghua UniversityPage 163.43.4 固態(tài)方法固態(tài)方法 3.4.1 3.4.1 機(jī)械合金化機(jī)械合金化機(jī)械合金化：機(jī)械合金化：用高能研磨機(jī)或球磨機(jī)實現(xiàn)固態(tài)合金化的過程。機(jī)械合金化是一個用高能研磨機(jī)或球磨機(jī)實現(xiàn)固態(tài)合金化的過程。機(jī)械合金化是一個通過高能球磨使粉末經(jīng)受反復(fù)的變形、冷焊、破碎，從而達(dá)到元素間原子水平合金化通過高能球磨使粉末經(jīng)受反復(fù)的變形、冷焊、破碎，從而達(dá)到元素間原子水平合金化的復(fù)雜物理化學(xué)過程。的復(fù)雜物理化學(xué)過程。優(yōu)點優(yōu)點 微米尺度甚至可達(dá)納米尺度的非晶粉末微米尺度甚至可達(dá)納米尺度的非晶粉末

21、 可適用于非晶形成能力差、難以混合的合金可適用于非晶形成能力差、難以混合的合金: : 高熔點或蒸氣壓極其不同的金屬元素的合金化高熔點或蒸氣壓極其不同的金屬元素的合金化 引入大量缺陷、引入大量缺陷、強(qiáng)制固溶、強(qiáng)制擴(kuò)散強(qiáng)制固溶、強(qiáng)制擴(kuò)散-不相溶不相溶金屬的合金化金屬的合金化 易于實現(xiàn)工業(yè)化易于實現(xiàn)工業(yè)化，用于催化，用于催化、降解等領(lǐng)域、降解等領(lǐng)域缺點缺點 非晶化很難完全非晶化很難完全機(jī)械合金化是機(jī)械合金化是19701970年美國年美國INCOINCO公司的公司的BenjaminBenjamin發(fā)明的一種材料加工新工藝，主要是利用發(fā)明的一種材料加工新工藝，主要是利用高能球磨的方法高能球磨的方法, ,

22、 最初是用來制備最初是用來制備NiNi基基ODS(oxide dispersion-strengthened)強(qiáng)化合金，強(qiáng)化合金，使使ThO2ThO2等高熔點氧化物能均勻分散到合金基體中等高熔點氧化物能均勻分散到合金基體中Transparent grinding chamber (1600 rpm), Zoz GmbH u 1988年，年，Schultz et al., amorphous Ni-Zr, Mater. Sci. Eng. 97 (1988) 317-320. 可能需后續(xù)加工成塊體材料可能需后續(xù)加工成塊體材料Tsinghua UniversityPage 173.43.4 固態(tài)方

23、法固態(tài)方法 3.4.2 3.4.2 輻照損傷輻照損傷輻照損傷：輻照損傷：高能粒子轟擊材料表面使得材料微觀組織結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，產(chǎn)生高能粒子轟擊材料表面使得材料微觀組織結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，產(chǎn)生大量晶體結(jié)構(gòu)缺陷，發(fā)生非晶化。大量晶體結(jié)構(gòu)缺陷，發(fā)生非晶化。輻照入射粒子包括下列三種輻照入射粒子包括下列三種: :p中性粒子中性粒子: : 中子中子, gamma , gamma 射線射線( (光子光子) )p帶電粒子帶電粒子: : 粒子粒子(He(He核核) )、質(zhì)子、電子、質(zhì)子、電子p高能原子、離子高能原子、離子: : 裂變產(chǎn)物、一次碰撞反沖原子、加速的離子裂變產(chǎn)物、一次碰撞反沖原子、加速的離子固體物質(zhì)固體物質(zhì)(

24、 (靶靶): ): p相對于入射粒子的能量，固體物質(zhì)相對于入射粒子的能量，固體物質(zhì)( (靶靶) )可看作是相對靜止的原子，可看作是相對靜止的原子，p靶原子核具有質(zhì)量，電子具有靶原子核具有質(zhì)量，電子具有keVkeV的能量的能量入射粒子與固體之間的交互作用取決于入射粒子與固體之間的交互作用取決于p入射粒子入射粒子的帶電荷數(shù)的帶電荷數(shù)p入射粒子的速率入射粒子的速率p入射粒子與原子的原子核和核外電子之間的作用是相對獨立的入射粒子與原子的原子核和核外電子之間的作用是相對獨立的p交互作用用散射截面來衡量交互作用用散射截面來衡量Tsinghua UniversityPage 183.43.4 固態(tài)方法固態(tài)方

25、法 3.4.2 3.4.2 輻照損傷輻照損傷輻照損傷：輻照損傷：高能粒子轟擊材料表面使得材料微觀組織結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，產(chǎn)生大量高能粒子轟擊材料表面使得材料微觀組織結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，產(chǎn)生大量晶體結(jié)構(gòu)缺陷，發(fā)生晶體晶體結(jié)構(gòu)缺陷，發(fā)生晶體- -非晶轉(zhuǎn)變。非晶轉(zhuǎn)變。 電子束輻照電子束輻照(electron irradiation-induced (quasi-)crystal-amorphous transition )l NiTi記憶合金，記憶合金，Scrip. Metal. 16, 589-592 (1982);J. Mater. Res. 1, 425 (1986); 離子轟擊離子轟擊(ion bomb

26、ardment)l NiAl3金屬間化合物金屬間化合物，Radiat. Eff. 77, 273 (1983);l Al86Mn14,Al76Mn20Si4,Al80Mn16Ru4,Al6Mn7Fe7, and Mg32Al19Zn30準(zhǔn)晶合金，準(zhǔn)晶合金，Phys. Status Solid. A 122, 79-86 (1990).l Cu-Ti system, Phys. Rev. B 43, 5243-5252 (1991).Chemical disorderPoint defectsFrenkel pair, or Frenkel disorder is a type of point

27、 defect in a crystal lattice. The defect forms when an atom or smaller ion leaves its place in the lattice, creating a vacancy, and becomes an interstitial by lodging in a nearby location. Tsinghua UniversityPage 193.43.4 固態(tài)方法固態(tài)方法 3.4.3 3.4.3 擴(kuò)散作用擴(kuò)散作用固態(tài)相變：固態(tài)相變：由于相鄰材料之間的原子互擴(kuò)散作用發(fā)生固態(tài)相變，產(chǎn)生非晶化。由于相鄰材料之間的原

28、子互擴(kuò)散作用發(fā)生固態(tài)相變，產(chǎn)生非晶化。From solidsPhys. Rev. Lett. 51:415 (1983)Part. Part. Syst. Charact. 33:82 (2016)Prog. Mater. Sci. 30:81 (1986).Tsinghua UniversityPage 203.43.4 固態(tài)方法固態(tài)方法 3.4.4 3.4.4 強(qiáng)沖擊作用強(qiáng)沖擊作用沖擊沖擊(shock-loaded(shock-loaded）：）：強(qiáng)大沖擊外力作用下材料局部發(fā)生了結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變強(qiáng)大沖擊外力作用下材料局部發(fā)生了結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變( (非晶化非晶化) )。 軍工彈道實驗，子彈發(fā)射或炮彈爆炸產(chǎn)生的沖擊力。軍工彈道實驗，子彈發(fā)射或炮彈爆炸產(chǎn)生的沖擊力。l 坦克外殼抗爆炸沖擊能力：強(qiáng)度高、抗沖擊韌性高坦克外殼抗爆炸沖擊能力：強(qiáng)度高、抗沖擊韌性高 沖擊引起短時間內(nèi)的高壓條件，類似于提供了極大的應(yīng)變速率沖擊引起短時間內(nèi)的高壓條件，