半導(dǎo)體光刻膠項(xiàng)目投資價(jià)值分析報(bào)告

1、泓域咨詢/半導(dǎo)體光刻膠項(xiàng)目投資價(jià)值分析報(bào)告目錄第一章 項(xiàng)目概述6一、 項(xiàng)目名稱及投資人6二、 編制原則6三、 編制依據(jù)7四、 編制范圍及內(nèi)容7五、 項(xiàng)目建設(shè)背景8六、 結(jié)論分析9主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)一覽表11第二章 項(xiàng)目投資背景分析13一、 四大壁壘鑄就高集中度，全球市場(chǎng)美日寡頭壟斷13二、 全球百億美金市場(chǎng)，大陸增速遠(yuǎn)高于全球18三、 推動(dòng)企業(yè)自主創(chuàng)新19第三章 行業(yè)發(fā)展分析21一、 半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)難度最高，增速最快21二、 存儲(chǔ)：容量提升+擴(kuò)產(chǎn)是兩大推動(dòng)力24三、 上游原材料樹脂、單體難度較高，大陸產(chǎn)業(yè)化等待突圍24第四章 建設(shè)內(nèi)容與產(chǎn)品方案26一、 建設(shè)規(guī)模及主要建設(shè)內(nèi)容26二、 產(chǎn)品規(guī)劃方

2、案及生產(chǎn)綱領(lǐng)26產(chǎn)品規(guī)劃方案一覽表28第五章 項(xiàng)目選址分析30一、 項(xiàng)目選址原則30二、 建設(shè)區(qū)基本情況30三、 在助力重慶發(fā)揮“三個(gè)作用”中融入新發(fā)展格局33四、 厚植科技創(chuàng)新優(yōu)良生態(tài)35五、 項(xiàng)目選址綜合評(píng)價(jià)36第六章 建筑工程說明37一、 項(xiàng)目工程設(shè)計(jì)總體要求37二、 建設(shè)方案38三、 建筑工程建設(shè)指標(biāo)41建筑工程投資一覽表41第七章 發(fā)展規(guī)劃分析43一、 公司發(fā)展規(guī)劃43二、 保障措施49第八章 法人治理結(jié)構(gòu)51一、 股東權(quán)利及義務(wù)51二、 董事53三、 高級(jí)管理人員58四、 監(jiān)事60第九章 工藝技術(shù)分析63一、 企業(yè)技術(shù)研發(fā)分析63二、 項(xiàng)目技術(shù)工藝分析66三、 質(zhì)量管理67四、 設(shè)

3、備選型方案68主要設(shè)備購(gòu)置一覽表68第十章 組織機(jī)構(gòu)管理70一、 人力資源配置70勞動(dòng)定員一覽表70二、 員工技能培訓(xùn)70第十一章 項(xiàng)目實(shí)施進(jìn)度計(jì)劃73一、 項(xiàng)目進(jìn)度安排73項(xiàng)目實(shí)施進(jìn)度計(jì)劃一覽表73二、 項(xiàng)目實(shí)施保障措施74第十二章 項(xiàng)目投資分析75一、 投資估算的依據(jù)和說明75二、 建設(shè)投資估算76建設(shè)投資估算表78三、 建設(shè)期利息78建設(shè)期利息估算表78四、 流動(dòng)資金80流動(dòng)資金估算表80五、 總投資81總投資及構(gòu)成一覽表81六、 資金籌措與投資計(jì)劃82項(xiàng)目投資計(jì)劃與資金籌措一覽表83第十三章 項(xiàng)目經(jīng)濟(jì)效益84一、 基本假設(shè)及基礎(chǔ)參數(shù)選取84二、 經(jīng)濟(jì)評(píng)價(jià)財(cái)務(wù)測(cè)算84營(yíng)業(yè)收入、稅金及附加

4、和增值稅估算表84綜合總成本費(fèi)用估算表86利潤(rùn)及利潤(rùn)分配表88三、 項(xiàng)目盈利能力分析88項(xiàng)目投資現(xiàn)金流量表90四、 財(cái)務(wù)生存能力分析91五、 償債能力分析92借款還本付息計(jì)劃表93六、 經(jīng)濟(jì)評(píng)價(jià)結(jié)論93第十四章 風(fēng)險(xiǎn)評(píng)估95一、 項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)分析95二、 項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)對(duì)策97第十五章 項(xiàng)目招投標(biāo)方案99一、 項(xiàng)目招標(biāo)依據(jù)99二、 項(xiàng)目招標(biāo)范圍99三、 招標(biāo)要求100四、 招標(biāo)組織方式102五、 招標(biāo)信息發(fā)布104第十六章 項(xiàng)目綜合評(píng)價(jià)105第十七章 附表107主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)一覽表107建設(shè)投資估算表108建設(shè)期利息估算表109固定資產(chǎn)投資估算表110流動(dòng)資金估算表111總投資及構(gòu)成一覽表112項(xiàng)目投資計(jì)

5、劃與資金籌措一覽表113營(yíng)業(yè)收入、稅金及附加和增值稅估算表114綜合總成本費(fèi)用估算表114固定資產(chǎn)折舊費(fèi)估算表115無形資產(chǎn)和其他資產(chǎn)攤銷估算表116利潤(rùn)及利潤(rùn)分配表117項(xiàng)目投資現(xiàn)金流量表118借款還本付息計(jì)劃表119建筑工程投資一覽表120項(xiàng)目實(shí)施進(jìn)度計(jì)劃一覽表121主要設(shè)備購(gòu)置一覽表122能耗分析一覽表122第一章 項(xiàng)目概述一、 項(xiàng)目名稱及投資人（一）項(xiàng)目名稱半導(dǎo)體光刻膠項(xiàng)目（二）項(xiàng)目投資人xx（集團(tuán)）有限公司（三）建設(shè)地點(diǎn)本期項(xiàng)目選址位于xx（待定）。二、 編制原則1、嚴(yán)格遵守國(guó)家和地方的有關(guān)政策、法規(guī)，認(rèn)真執(zhí)行國(guó)家、行業(yè)和地方的有關(guān)規(guī)范、標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定；2、選擇成熟、可靠、略帶前瞻性的工藝

6、技術(shù)路線，提高項(xiàng)目的競(jìng)爭(zhēng)力和市場(chǎng)適應(yīng)性；3、設(shè)備的布置根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際情況，合理用地；4、嚴(yán)格執(zhí)行“三同時(shí)”原則，積極推進(jìn)“安全文明清潔”生產(chǎn)工藝，做到環(huán)境保護(hù)、勞動(dòng)安全衛(wèi)生、消防設(shè)施和工程建設(shè)同步規(guī)劃、同步實(shí)施、同步運(yùn)行，注意可持續(xù)發(fā)展要求，具有可操作彈性；5、形成以人為本、美觀的生產(chǎn)環(huán)境，體現(xiàn)企業(yè)文化和企業(yè)形象；6、滿足項(xiàng)目業(yè)主對(duì)項(xiàng)目功能、盈利性等投資方面的要求；7、充分估計(jì)工程各類風(fēng)險(xiǎn)，采取規(guī)避措施，滿足工程可靠性要求。三、 編制依據(jù)1、中華人民共和國(guó)國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展第十四個(gè)五年規(guī)劃和2035年遠(yuǎn)景目標(biāo)綱要；2、中國(guó)制造2025；3、建設(shè)項(xiàng)目經(jīng)濟(jì)評(píng)價(jià)方法與參數(shù)及使用手冊(cè)（第三版）；4、項(xiàng)目

7、公司提供的發(fā)展規(guī)劃、有關(guān)資料及相關(guān)數(shù)據(jù)等。四、 編制范圍及內(nèi)容投資必要性：主要根據(jù)市場(chǎng)調(diào)查及分析預(yù)測(cè)的結(jié)果，以及有關(guān)的產(chǎn)業(yè)政策等因素，論證項(xiàng)目投資建設(shè)的必要性；技術(shù)的可行性：主要從事項(xiàng)目實(shí)施的技術(shù)角度，合理設(shè)計(jì)技術(shù)方案，并進(jìn)行比選和評(píng)價(jià)；財(cái)務(wù)可行性：主要從項(xiàng)目及投資者的角度,設(shè)計(jì)合理財(cái)務(wù)方案,從企業(yè)理財(cái)?shù)慕嵌冗M(jìn)行資本預(yù)算，評(píng)價(jià)項(xiàng)目的財(cái)務(wù)盈利能力，進(jìn)行投資決策，并從融資主體的角度評(píng)價(jià)股東投資收益、現(xiàn)金流量計(jì)劃及債務(wù)清償能力；組織可行性：制定合理的項(xiàng)目實(shí)施進(jìn)度計(jì)劃、設(shè)計(jì)合理組織機(jī)構(gòu)、選擇經(jīng)驗(yàn)豐富的管理人員、建立良好的協(xié)作關(guān)系、制定合適的培訓(xùn)計(jì)劃等，保證項(xiàng)目順利執(zhí)行；經(jīng)濟(jì)可行性：主要是從資源配置的角

8、度衡量項(xiàng)目的價(jià)值，評(píng)價(jià)項(xiàng)目在實(shí)現(xiàn)區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展目標(biāo)、有效配置經(jīng)濟(jì)資源、增加供應(yīng)、創(chuàng)造就業(yè)、改善環(huán)境、提高人民生活等方面的效益；風(fēng)險(xiǎn)因素及對(duì)策：主要是對(duì)項(xiàng)目的市場(chǎng)風(fēng)險(xiǎn)、技術(shù)風(fēng)險(xiǎn)、財(cái)務(wù)風(fēng)險(xiǎn)、組織風(fēng)險(xiǎn)、法律風(fēng)險(xiǎn)、經(jīng)濟(jì)及社會(huì)風(fēng)險(xiǎn)等因素進(jìn)行評(píng)價(jià)，制定規(guī)避風(fēng)險(xiǎn)的對(duì)策，為項(xiàng)目全過程的風(fēng)險(xiǎn)管理提供依據(jù)。五、 項(xiàng)目建設(shè)背景從半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分產(chǎn)品看，各大巨頭更側(cè)重中高端光刻膠。目前東京應(yīng)化綜合實(shí)力位列第一，除了在ArF光刻膠領(lǐng)域以16%的市占率位于JSR（25%）、信越化學(xué)（22%）、住友化學(xué)（17%）之后，在其他三個(gè)領(lǐng)域的份額均位列第一，其中在EUV光刻膠領(lǐng)域獨(dú)占鰲頭，一家占據(jù)一半以上的份額。地區(qū)生產(chǎn)總值達(dá)到74

9、7.1億元，年均增長(zhǎng)8.8%，人均突破1.4萬美元。社會(huì)消費(fèi)品零售總額突破270億元，累計(jì)利用外資7.5億美元，外貿(mào)進(jìn)出口總額年均增長(zhǎng)20%。經(jīng)濟(jì)結(jié)構(gòu)持續(xù)優(yōu)化，規(guī)模以上工業(yè)增加值年均增長(zhǎng)8%，服務(wù)業(yè)增加值突破300億元，三次產(chǎn)業(yè)比優(yōu)化為5.3:52.8:41.9，成為西部首個(gè)入圍全國(guó)轉(zhuǎn)型升級(jí)成效明顯區(qū)縣。百姓生活不斷改善，居民人均可支配收入年均增長(zhǎng)10.1%，恩格爾系數(shù)下降到33.1%。六、 結(jié)論分析（一）項(xiàng)目選址本期項(xiàng)目選址位于xx（待定），占地面積約36.00畝。（二）建設(shè)規(guī)模與產(chǎn)品方案項(xiàng)目正常運(yùn)營(yíng)后，可形成年產(chǎn)xx噸半導(dǎo)體光刻膠的生產(chǎn)能力。（三）項(xiàng)目實(shí)施進(jìn)度本期項(xiàng)目建設(shè)期限規(guī)劃12個(gè)月。

10、（四）投資估算本期項(xiàng)目總投資包括建設(shè)投資、建設(shè)期利息和流動(dòng)資金。根據(jù)謹(jǐn)慎財(cái)務(wù)估算，項(xiàng)目總投資17281.96萬元，其中：建設(shè)投資13647.60萬元，占項(xiàng)目總投資的78.97%；建設(shè)期利息191.27萬元，占項(xiàng)目總投資的1.11%；流動(dòng)資金3443.09萬元，占項(xiàng)目總投資的19.92%。（五）資金籌措項(xiàng)目總投資17281.96萬元，根據(jù)資金籌措方案，xx（集團(tuán)）有限公司計(jì)劃自籌資金（資本金）9475.15萬元。根據(jù)謹(jǐn)慎財(cái)務(wù)測(cè)算，本期工程項(xiàng)目申請(qǐng)銀行借款總額7806.81萬元。（六）經(jīng)濟(jì)評(píng)價(jià)1、項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)年預(yù)期營(yíng)業(yè)收入（SP）：33100.00萬元。2、年綜合總成本費(fèi)用（TC）：26398.82萬

11、元。3、項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)年凈利潤(rùn)（NP）：4902.56萬元。4、財(cái)務(wù)內(nèi)部收益率（FIRR）：22.52%。5、全部投資回收期（Pt）：5.42年（含建設(shè)期12個(gè)月）。6、達(dá)產(chǎn)年盈虧平衡點(diǎn)（BEP）：11451.37萬元（產(chǎn)值）。（七）社會(huì)效益通過分析，該項(xiàng)目經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益良好。從發(fā)展來看公司將面向市場(chǎng)調(diào)整產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，改變工藝條件以高附加值的產(chǎn)品代替目前產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)。本項(xiàng)目實(shí)施后，可滿足國(guó)內(nèi)市場(chǎng)需求，增加國(guó)家及地方財(cái)政收入，帶動(dòng)產(chǎn)業(yè)升級(jí)發(fā)展，為社會(huì)提供更多的就業(yè)機(jī)會(huì)。另外，由于本項(xiàng)目環(huán)保治理手段完善，不會(huì)對(duì)周邊環(huán)境產(chǎn)生不利影響。因此，本項(xiàng)目建設(shè)具有良好的社會(huì)效益。（八）主要經(jīng)濟(jì)技術(shù)指標(biāo)主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)

12、一覽表序號(hào)項(xiàng)目單位指標(biāo)備注1占地面積24000.00約36.00畝1.1總建筑面積44580.291.2基底面積13920.001.3投資強(qiáng)度萬元/畝357.412總投資萬元17281.962.1建設(shè)投資萬元13647.602.1.1工程費(fèi)用萬元11425.652.1.2其他費(fèi)用萬元1801.192.1.3預(yù)備費(fèi)萬元420.762.2建設(shè)期利息萬元191.272.3流動(dòng)資金萬元3443.093資金籌措萬元17281.963.1自籌資金萬元9475.153.2銀行貸款萬元7806.814營(yíng)業(yè)收入萬元33100.00正常運(yùn)營(yíng)年份5總成本費(fèi)用萬元26398.826利潤(rùn)總額萬元6536.747凈利潤(rùn)萬

13、元4902.568所得稅萬元1634.189增值稅萬元1370.3310稅金及附加萬元164.4411納稅總額萬元3168.9512工業(yè)增加值萬元10934.0413盈虧平衡點(diǎn)萬元11451.37產(chǎn)值14回收期年5.4215內(nèi)部收益率22.52%所得稅后16財(cái)務(wù)凈現(xiàn)值萬元9109.73所得稅后第二章 項(xiàng)目投資背景分析一、 四大壁壘鑄就高集中度，全球市場(chǎng)美日寡頭壟斷1、第一大壁壘：技術(shù)壁壘，生產(chǎn)工藝要求極高，配方是根本作為光刻工藝的核心，光刻膠需滿足四大條件。選擇光刻膠的決定因素是晶圓表面對(duì)尺寸的要求。光刻膠必須要同時(shí)滿足四大條件：1）產(chǎn)生要求的尺寸。2）在刻蝕過程中具有阻擋刻蝕的功能，保持特定

14、厚度的光刻膠層中一定不能存在針孔。3）必須和晶圓（或其他襯底）表面能很好的粘合，否則刻蝕后的圖形可能發(fā)生扭曲。4）工藝維度和階梯覆蓋能力。多參數(shù)指標(biāo)要求，分辨率直接決定產(chǎn)品特征尺寸。光刻膠的主要性能指標(biāo)包括：分辨率、黏附性、對(duì)比度、敏感度、抗蝕性、表面張力、曝光速度、針孔密度、階梯覆蓋度等。1）分辨率：在光刻膠層所能產(chǎn)生的最小圖形或其間距。一般而言，越小的線寬需要越薄的光刻膠膜，但為阻擋刻蝕且不能出現(xiàn)針孔，光刻膠膜必須有一定的厚度，因此只能權(quán)衡選擇。2）黏結(jié)能力：光刻膠必須和襯底表面很好黏結(jié)，才能準(zhǔn)確講圖形轉(zhuǎn)移到襯底表面，否則可能導(dǎo)致圖形畸變。在制造過程中，不同的表面，光刻膠的黏結(jié)能力不同。因

15、此在光刻膠工藝中，多個(gè)步驟是為了增加光刻膠對(duì)晶圓表面的自然黏結(jié)能力。3）曝光速度：反應(yīng)速度越快，光刻和刻蝕區(qū)域的加工速度越快。一般而言，負(fù)膠需要5-15秒曝光時(shí)間，而正膠需要3-4倍時(shí)間。4）針孔：光刻膠層尺寸非常小的空穴。針孔的存在會(huì)允許刻蝕劑滲透過光刻膠層接觸襯底表面，從而在襯底表面刻蝕出小孔造成損害。光刻膠越薄，針孔越多，光刻膠越厚，針孔越少，但厚膠降低了光刻膠分辨率，因此光刻膠膜厚是多個(gè)因素的權(quán)衡。光刻膠工藝一旦確立，一般不再變更。準(zhǔn)備、烘焙、曝光、刻蝕和去除工藝會(huì)根據(jù)特定的光刻膠性質(zhì)和想達(dá)到的預(yù)期結(jié)果進(jìn)行微調(diào)。光刻膠的選擇和光刻膠工藝的研發(fā)是一項(xiàng)漫長(zhǎng)而復(fù)雜的過程，一旦一種光刻工藝被建

16、立，一般不再改變。從專利數(shù)看，日本美國(guó)合計(jì)占比超70%，大陸發(fā)展迅速。截至2021年9月，全球光刻膠第一大技術(shù)來源國(guó)為日本，專利申請(qǐng)量占全球光刻膠專利總申請(qǐng)量的46%；美國(guó)則以25%的申請(qǐng)量位列第二。中國(guó)則以7%的申請(qǐng)量排在韓國(guó)之后。從趨勢(shì)上看，中國(guó)的光刻膠相關(guān)專利申請(qǐng)量正在快速增長(zhǎng)，在2020年實(shí)現(xiàn)了對(duì)日本的反超。2020年，中國(guó)光刻膠專利申請(qǐng)量為1.29萬項(xiàng)，日本光刻膠專利申請(qǐng)量下降至8982項(xiàng)。光刻膠種類多樣，不同類別化學(xué)結(jié)構(gòu)、性能有所區(qū)別。光刻膠下游不同客戶的需求差異明顯，即使同一客戶的不同應(yīng)用需求也不一致。這就導(dǎo)致光刻膠的整體生產(chǎn)缺乏統(tǒng)一的工藝，每一類光刻膠使用的原料在化學(xué)結(jié)構(gòu)、性能

17、上均有所區(qū)別，要求使用不同品質(zhì)等級(jí)的專用化學(xué)品。這就迫使制造商需要有能力設(shè)計(jì)出符合不同需求設(shè)計(jì)不同配方，并有相應(yīng)的生產(chǎn)工藝完成生產(chǎn)。這屬于行業(yè)的核心技術(shù)之一，對(duì)企業(yè)的技術(shù)能力要求比較高。2、第二大壁壘：客戶認(rèn)證壁壘，上下游深度綁定，驗(yàn)證周期長(zhǎng)在光刻膠供貨前，一般會(huì)經(jīng)過光刻膠產(chǎn)品的驗(yàn)證及工廠（產(chǎn)線）資質(zhì)的驗(yàn)證，其中光刻膠驗(yàn)證根據(jù)驗(yàn)證階段分為PRS（光刻膠性能測(cè)試）、STR（小試）、MSTR（批量驗(yàn)證）及Release（通過驗(yàn)證）；工廠（產(chǎn)線）資質(zhì)驗(yàn)證方面，主要在質(zhì)量體系、供貨穩(wěn)定性、工廠（產(chǎn)線）產(chǎn)能等幾方面進(jìn)行驗(yàn)證。在工廠（產(chǎn)線）資質(zhì)驗(yàn)證通過以及產(chǎn)品驗(yàn)證通過后，可實(shí)現(xiàn)對(duì)客戶的正式供貨。由于驗(yàn)證周

18、期通常為624個(gè)月，下游晶圓廠切換光刻膠成本較高，通?？蛻羟袚Q光刻膠意愿不強(qiáng)，光刻膠企業(yè)較難進(jìn)行客戶的突破。3、第三大壁壘：設(shè)備壁壘，光刻機(jī)昂貴且購(gòu)買難度大送樣前，光刻膠生產(chǎn)商需要購(gòu)臵光刻機(jī)用于內(nèi)部配方測(cè)試，根據(jù)驗(yàn)證結(jié)果調(diào)整配方。光刻機(jī)設(shè)備昂貴，數(shù)量有限且供應(yīng)可能受國(guó)外限制，尤其是EUV光刻機(jī)目前全球只有ASML能批量供應(yīng)。光刻機(jī)購(gòu)買交貨周期較長(zhǎng)，根據(jù)日經(jīng)亞洲評(píng)論報(bào)導(dǎo)，由于需求早已超過負(fù)荷，目前芯片生產(chǎn)設(shè)備的交貨時(shí)間已經(jīng)從12個(gè)月延長(zhǎng)至約18個(gè)月。光刻機(jī)產(chǎn)量較少而價(jià)格昂貴，近年增量主要集中在在EUV、ArFi和KrF光刻機(jī)。根據(jù)ASML2021年財(cái)報(bào)，2021年公司共銷售287臺(tái)光刻系統(tǒng)，銷售

19、額約136.5億歐元，其中42臺(tái)為EUV光刻系統(tǒng)機(jī)，銷售額約62.8億歐元，平均一臺(tái)1.5億歐元;ArFi光刻系統(tǒng)81臺(tái)，銷售額約49.6億歐元，平均單價(jià)約6100萬歐元;ArFdry光刻系統(tǒng)銷售22臺(tái)，銷售額約4.3億歐元，平均單價(jià)約2000萬歐元；KrF光刻系統(tǒng)131臺(tái)，銷售額約13.2億歐元，平均單價(jià)約1000萬歐元;i-Line光刻系統(tǒng)33臺(tái)，銷售額約1.4億歐元，平均單價(jià)約400萬歐元。4、第四大壁壘：原材料壁壘，國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈尚不完善，樹脂、單體產(chǎn)業(yè)化困難重重上游原材料是影響光刻膠品質(zhì)的重要因素，目前我國(guó)光刻膠原材料市場(chǎng)基本被國(guó)外廠商壟斷，尤其是樹脂和感光劑高度依賴于進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)化率很低

20、，由此增加了國(guó)內(nèi)光刻膠生產(chǎn)成本以及供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。行業(yè)高度集中，日本三巨頭+美國(guó)杜邦壟斷市場(chǎng)。全球光刻膠市場(chǎng)基本被日本和美國(guó)企業(yè)所壟斷，2020年數(shù)據(jù)顯示，東京應(yīng)化排名第一，份額為26%，杜邦排名第二，份額為17%，加上JSR和住友化學(xué)，CR4接近70%，行業(yè)集中度較高。從半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分產(chǎn)品看，各大巨頭更側(cè)重中高端光刻膠。目前東京應(yīng)化綜合實(shí)力位列第一，除了在ArF光刻膠領(lǐng)域以16%的市占率位于JSR（25%）、信越化學(xué)（22%）、住友化學(xué)（17%）之后，在其他三個(gè)領(lǐng)域的份額均位列第一，其中在EUV光刻膠領(lǐng)域獨(dú)占鰲頭，一家占據(jù)一半以上的份額。PCB光刻膠：低端產(chǎn)品由國(guó)內(nèi)主導(dǎo)。在PCB光刻膠市場(chǎng)中，

21、中國(guó)在中低端產(chǎn)品占據(jù)主導(dǎo)地位，2020年容大感光、廣信材料、東方材料、北京力拓達(dá)等本土企業(yè)占據(jù)國(guó)內(nèi)46%左右的濕膜光刻膠和光成像阻焊油墨市場(chǎng)份額。但是較高端的干膜光刻膠市場(chǎng)主要由日本旭化成、日本日立化成、中國(guó)臺(tái)灣長(zhǎng)興化學(xué)壟斷，這三大企業(yè)在全球的市場(chǎng)占有率超過80%，我國(guó)在干膜光刻膠方面仍高度依賴進(jìn)口。LCD光刻膠的全球供應(yīng)集中在日本、韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣等地區(qū)，我國(guó)彩色和黑色光刻膠市場(chǎng)國(guó)產(chǎn)化率僅為5%左右。彩色濾光片所需的高分子顏料和顏料的分散技術(shù)主要集中在Ciba等日本顏料廠商手中，因此彩色光刻膠和黑色光刻膠的核心技術(shù)基本被日本和韓國(guó)企業(yè)壟斷。另一方面，近年來我國(guó)在觸控屏光刻膠技術(shù)上有所突破，晶瑞

22、股份和北京科華微已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了觸控屏光刻膠的量產(chǎn)，國(guó)產(chǎn)化率在30%-40%左右。二、 全球百億美金市場(chǎng)，大陸增速遠(yuǎn)高于全球根據(jù)Reportlinker數(shù)據(jù)，全球光刻膠市場(chǎng)預(yù)計(jì)2019-2026年CAGR有望達(dá)到6.3%，至2023年突破100億美金，到2026年超過120億美元。大陸市場(chǎng)增速高于全球，2022年規(guī)模有望超過百億人民幣，占全球光刻膠市場(chǎng)比例也將持續(xù)提升，到2026年占比有望從2019年15%左右提升到19.3%。從下游領(lǐng)域看，顯示、PCB、IC是三大應(yīng)用領(lǐng)域，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)難度最高，增速最快。SEMI統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，2021年全球IC光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)24.7億美元，較上年同期增長(zhǎng)19

23、.49%，大陸增速超全球兩倍。LCD光刻膠市場(chǎng)穩(wěn)健增長(zhǎng)，2020年全球規(guī)模近14億美金，2021-2026年CAGR為2%，大陸受益產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移和本土面板廠崛起，2019-2023年CAGR達(dá)14.6%，高于全球水平。大陸光刻膠自給率較低，國(guó)產(chǎn)替代空間廣闊。就IC光刻膠而言，2020年我國(guó)IC光刻膠自給率低，其中g(shù)/i線光刻膠自給率小于10%，KrF光刻膠約5%，更高端的ArF及EUV光刻膠幾乎空白。面板膠方面，LCD光刻膠的全球供應(yīng)集中在日本、韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣等地區(qū)，我國(guó)彩色和黑色光刻膠市場(chǎng)國(guó)產(chǎn)化率僅為5%左右。PCB光刻膠方面，感光油墨及濕膜光刻膠合計(jì)自給率約46%，但相對(duì)高端的干膜光刻自給率較

24、低。我國(guó)光刻膠整體自給率偏低，大陸供應(yīng)商替代空間廣闊。需求旺盛疊加龍頭減產(chǎn)，大陸公司有望加速替代。全球光刻膠市場(chǎng)主要由美日企業(yè)主導(dǎo)，CR4約70%。近年來，隨著光刻膠的需求攀升，疊加日本龍頭減產(chǎn)，光刻膠出現(xiàn)供不應(yīng)求的局面，部分中小晶圓廠甚至出現(xiàn)了“斷供”現(xiàn)象。目前大陸企業(yè)在g/i線光刻膠已形成一定規(guī)模的銷售，中高端光刻膠方面，彤程新材的KrF光刻膠產(chǎn)品已批量供應(yīng)國(guó)內(nèi)主要12英寸、8英寸晶圓廠，晶瑞電材KrF光刻膠加緊建設(shè)中，另有多家企業(yè)ArF光刻膠研發(fā)順利進(jìn)行，其中南大光電ArF產(chǎn)品已通過下游客戶驗(yàn)證，有望在未來形成銷售，光刻膠國(guó)產(chǎn)替代趨勢(shì)顯著。三、 推動(dòng)企業(yè)自主創(chuàng)新強(qiáng)化企業(yè)創(chuàng)新主體地位，用好

25、鼓勵(lì)企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新政策，促進(jìn)各類創(chuàng)新要素向企業(yè)集聚，構(gòu)建以企業(yè)為主體、市場(chǎng)為導(dǎo)向、產(chǎn)學(xué)研深度融合的技術(shù)創(chuàng)新體系。實(shí)施科技企業(yè)成長(zhǎng)工程，推動(dòng)規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)研發(fā)機(jī)構(gòu)全覆蓋，打造流程型、分散型制造業(yè)工業(yè)互聯(lián)網(wǎng)平臺(tái)，普及工業(yè)云運(yùn)用，促進(jìn)新技術(shù)快速大規(guī)模應(yīng)用。發(fā)揮企業(yè)家在技術(shù)創(chuàng)新中的作用，鼓勵(lì)企業(yè)加大研發(fā)投入，提高全社會(huì)研發(fā)支出占地區(qū)生產(chǎn)總值比重，落實(shí)好企業(yè)研發(fā)投入兌現(xiàn)科技創(chuàng)新稅收優(yōu)惠等政策。鼓勵(lì)有條件的企業(yè)組建面向行業(yè)共性基礎(chǔ)技術(shù)、前沿引領(lǐng)技術(shù)開發(fā)的研究院，支持創(chuàng)新型領(lǐng)軍企業(yè)牽頭組建創(chuàng)新聯(lián)合體，發(fā)揮璧山企業(yè)科技創(chuàng)新聯(lián)盟的平臺(tái)和橋梁作用，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈上下游、大中小企業(yè)融通創(chuàng)新。支持領(lǐng)軍企業(yè)、知名科學(xué)家參與

26、共建新型研發(fā)機(jī)構(gòu)，培育專精特新、具有示范帶動(dòng)作用的旗艦型新型研發(fā)機(jī)構(gòu)。編制全區(qū)科研資源目錄，開放共享共性實(shí)驗(yàn)室和重大科研儀器設(shè)備，一體推進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新。強(qiáng)化用戶思維，深化工業(yè)設(shè)計(jì)、產(chǎn)品創(chuàng)意在制造業(yè)領(lǐng)域融合滲透，不斷提升產(chǎn)品技術(shù)性能和美觀度。建立創(chuàng)新型企業(yè)梯度培育機(jī)制，大力弘揚(yáng)企業(yè)家精神，培養(yǎng)一批戰(zhàn)略眼光獨(dú)到、創(chuàng)新意識(shí)突出、創(chuàng)業(yè)能力強(qiáng)勁的企業(yè)家隊(duì)伍，強(qiáng)化企業(yè)診斷服務(wù)，大力發(fā)展科技型中小企業(yè)和高新技術(shù)企業(yè)，幫助企業(yè)提高市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力，促進(jìn)科技企業(yè)“小升高”。第三章 行業(yè)發(fā)展分析一、 半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)難度最高，增速最快全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)增速遠(yuǎn)高于全球光刻膠平均水平，占比不斷提升。據(jù)SEMI統(tǒng)計(jì)，2021

27、年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)24.71億美元，較上年同期增長(zhǎng)19.49%，2015-2021年CAGR為12.03%。2019年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模分別為約為18億美元，半導(dǎo)體光刻膠占整體光刻膠比重約21.9%，到2021年占比提升至26.85%。大陸半導(dǎo)體光刻膠增速超全球兩倍。分地區(qū)看，中國(guó)大陸半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)依舊保持著最快增速，2021年市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到4.93億美元，較上年同期增長(zhǎng)43.69%，超過全年半導(dǎo)體光刻膠增速的兩倍；中國(guó)占比全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)比重也將從2015年約10.4%提升到2021年接近20%。中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠的快速崛起離不開中國(guó)整體半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。受益于5G大規(guī)模建

28、設(shè)，以及2020年新冠疫情導(dǎo)致遠(yuǎn)程辦公、網(wǎng)絡(luò)直播等應(yīng)用普及，全球集成電路行業(yè)發(fā)展迅猛，根據(jù)Frost&Sullivan數(shù)據(jù)，2013年集成電路市場(chǎng)規(guī)模為2518億美元，到2019年集成電路市場(chǎng)規(guī)模高達(dá)3334億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率為4.79%。2019年全球集成電路市場(chǎng)規(guī)模有所下滑，主要系全球貿(mào)易摩擦、存儲(chǔ)供需變化以及智能手機(jī)、服務(wù)器等產(chǎn)品需求下滑因素影響。預(yù)計(jì)到2025年，全球集成電路市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到4750億美元,2020-2025年CAGR為6.02%。我國(guó)集成電路行業(yè)起步較晚，但發(fā)展迅速。根據(jù)中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù)，2013年中國(guó)集成電路銷售收入為2508億元，2019年達(dá)到7562億元，

29、年均復(fù)合增速達(dá)到20.2%，在5G和新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展帶動(dòng)下，如汽車電子行業(yè)和物聯(lián)網(wǎng)的推動(dòng)下，中國(guó)集成電路行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模將不斷擴(kuò)大，預(yù)計(jì)到2025年，我國(guó)集成電路市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到18932億元，2020-2025年CAGR為16.22%。按曝光波長(zhǎng)分，全球ArF/EUV光刻膠占比超50%，為國(guó)際主流。半導(dǎo)體光刻膠按照曝光波長(zhǎng)不同可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及新興起的EUV光刻膠5大類，高端光刻膠指KrF、ArF和EUV光刻膠，等級(jí)越往上其極限分辨率越高，同一面積的硅晶圓布線密度越大，性能越好。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù)，從市場(chǎng)分布看，2021年

30、ArFi+ArF光刻膠占全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模的比例為48.1%，KrF占比34.7%，G/I線占14.7%。ArF（包括ArFi）光刻膠已是集成電路制造需求金額最大的光刻膠產(chǎn)品，隨著集成電路產(chǎn)業(yè)超先進(jìn)制程持續(xù)發(fā)展，ArF光刻膠持續(xù)迎來廣闊市場(chǎng)機(jī)遇。隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，制造工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷縮小，KrF和ArF光刻膠市場(chǎng)需求量更大，增速更快，是推動(dòng)當(dāng)下光刻膠市場(chǎng)快速增長(zhǎng)的主要因素。從市場(chǎng)規(guī)模增速來看，EUV光刻膠發(fā)展最快，但處于發(fā)展初期體量較小，2021年僅約0.51億美元，預(yù)計(jì)到2025年達(dá)到1.97億美元，2020-2025CAGR達(dá)48.8%；增速第二快的是KrF光刻膠，其2021年全

31、球市場(chǎng)規(guī)模為6.9億美元，預(yù)計(jì)到2025年達(dá)到9.07億美元，2020-2025年CAGR為8.2%。ArF光刻膠（ArF+ArFi）2021年全球市場(chǎng)規(guī)模為9.55億美元，預(yù)計(jì)到2025達(dá)到10.72億美元，2020-2025CAGR為3.5%；較為低端的g/i線光刻膠預(yù)計(jì)市場(chǎng)規(guī)模變化不大，占比縮小。從應(yīng)用產(chǎn)品看，2021年邏輯占比超63.5%，是第一大應(yīng)用領(lǐng)域。非易失性存儲(chǔ)器（NVM）是一種計(jì)算機(jī)即使關(guān)閉電源也能夠保存已保存數(shù)據(jù)的存儲(chǔ)器，增速最快。根據(jù)TECHCET數(shù)據(jù)，2021年邏輯用光刻膠需求超過595萬升，占比超過63.5%，到2025年需求量提升到約677萬升，2021-2025年

32、CAGR為3.3%，由于NVM對(duì)光刻膠需求的快速提升（2021-2025CAGR12.8%），預(yù)計(jì)2025年邏輯占比略降低到59.5%，NVM占比提升到26.4%。對(duì)非易失性存儲(chǔ)器（NVM）的需求是主要由于移動(dòng)設(shè)備所需要的存儲(chǔ)容量大幅提升，尤其是相機(jī)、智能手機(jī)和平板電腦。隨著制程縮減和存儲(chǔ)容量提升，光刻次數(shù)增加，單位面積光刻膠的金額越高。根據(jù)SEMI的數(shù)據(jù)，單位面積所使用的的光刻膠價(jià)值量從15年3月不到0.12美元/平方英寸上升到2021年9月約0.19美元/平方英寸，平均價(jià)值量的提升主要來源于先進(jìn)制程占比的提升以及光刻次數(shù)的增加。二、 存儲(chǔ)：容量提升+擴(kuò)產(chǎn)是兩大推動(dòng)力容量要求提升，光刻次數(shù)增

33、加，相應(yīng)光刻膠的用量隨著光刻次數(shù)的增加大幅增長(zhǎng)。DRAM：DRAM的技術(shù)發(fā)展路徑是以微縮制程來提高存儲(chǔ)密度。制程工藝進(jìn)入20nm之后，制造難度大幅提升，DRAM芯片廠商對(duì)工藝的定義從具體的線寬轉(zhuǎn)變?yōu)樵诰唧w制程范圍內(nèi)提升二或三代技術(shù)來提高存儲(chǔ)密度。目前市場(chǎng)上DRAM的應(yīng)用較為廣泛的是2xnm和1xnm，三星、美光、海力士等龍頭廠商均已開發(fā)出1znm制程的DRAM。NAND：NAND芯片制程已經(jīng)達(dá)到極限，2DNAND的存儲(chǔ)容量難以繼續(xù)突破，NAND工藝逐漸轉(zhuǎn)向3D堆疊架構(gòu)，以更多的堆疊層數(shù)來得到更大的存儲(chǔ)容量，光刻次數(shù)隨著層數(shù)增加而增加，KrF光刻膠的使用量將顯著提升。三、 上游原材料樹脂、單體難

34、度較高，大陸產(chǎn)業(yè)化等待突圍溶劑、感光劑、樹脂是光刻膠的三大原材料。光刻膠會(huì)根據(jù)不同光的波長(zhǎng)和不同的曝光源而進(jìn)行微調(diào)。光刻膠具有特定熱流程特點(diǎn)，用特定的方法配臵而成，與特定的表面結(jié)合。這些屬性由光刻膠里不同化學(xué)成分的類型、數(shù)量、混合過程決定，溶劑、感光劑和樹脂是光刻膠三大原材料。從含量來看，根據(jù)Trendbank數(shù)據(jù)，光刻膠主要原材料占比從大到小分別是溶劑（50%-90%）、樹脂（10%-40%）、光引發(fā)劑（1%-6%）以及添加劑（1%）。溶劑是光刻膠中容量最大的成分，使光刻膠處于液態(tài)，并使光刻膠能通過旋轉(zhuǎn)涂在晶圓表面形成薄層。感光劑在曝光過程中控制或調(diào)節(jié)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)，用于產(chǎn)生或控制聚合物特

35、定反應(yīng)。感光劑添加到光刻膠中用來限制反應(yīng)光的波譜范圍或把反應(yīng)光限制到某一特定波長(zhǎng)的光。聚合物用于當(dāng)光刻機(jī)曝光時(shí)，聚合物結(jié)構(gòu)由可溶變成聚會(huì)（或反之），是由一組大且重的分子組成，分子里包括碳、氫、氧，典型聚合物如塑料。此外，光刻膠中還含有添加劑。不同類型的添加劑和光刻膠混合在一起來達(dá)到某種特定的結(jié)果。部分負(fù)膠包含染色劑，功能是在光刻膠薄膜中用來吸收和控制光線。正膠可能含有化學(xué)的抗溶解系統(tǒng)，這樣的添加劑可以阻止光刻膠沒有被曝光的部分在顯影過程中被溶解。從成本來看，高端光刻膠中樹脂占成本比重較大。根據(jù)南大光電公告，ArF光刻膠樹脂以丙二醇甲醚醋酸酯為主，質(zhì)量占比僅5%-10%，但成本占光刻膠原材料總成

36、本的97%以上。第四章 建設(shè)內(nèi)容與產(chǎn)品方案一、 建設(shè)規(guī)模及主要建設(shè)內(nèi)容（一）項(xiàng)目場(chǎng)地規(guī)模該項(xiàng)目總占地面積24000.00（折合約36.00畝），預(yù)計(jì)場(chǎng)區(qū)規(guī)劃總建筑面積44580.29。（二）產(chǎn)能規(guī)模根據(jù)國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)需求和xx（集團(tuán)）有限公司建設(shè)能力分析，建設(shè)規(guī)模確定達(dá)產(chǎn)年產(chǎn)xx噸半導(dǎo)體光刻膠，預(yù)計(jì)年?duì)I業(yè)收入33100.00萬元。二、 產(chǎn)品規(guī)劃方案及生產(chǎn)綱領(lǐng)本期項(xiàng)目產(chǎn)品主要從國(guó)家及地方產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策、市場(chǎng)需求狀況、資源供應(yīng)情況、企業(yè)資金籌措能力、生產(chǎn)工藝技術(shù)水平的先進(jìn)程度、項(xiàng)目經(jīng)濟(jì)效益及投資風(fēng)險(xiǎn)性等方面綜合考慮確定。具體品種將根據(jù)市場(chǎng)需求狀況進(jìn)行必要的調(diào)整，各年生產(chǎn)綱領(lǐng)是根據(jù)人員及裝備生產(chǎn)能力水平，

37、并參考市場(chǎng)需求預(yù)測(cè)情況確定，同時(shí)，把產(chǎn)量和銷量視為一致，本報(bào)告將按照初步產(chǎn)品方案進(jìn)行測(cè)算。以集成電路為例，光刻工藝步驟和光刻膠的使用場(chǎng)景如下：1）氣體硅片表面預(yù)處理：在光刻前，硅片會(huì)經(jīng)歷一次濕法清洗和去離子水沖洗，目的是去除沾污物。在清洗完畢后，硅片表面需要經(jīng)過疏水化處理，用來增強(qiáng)硅片表面同光刻膠（通常是疏水性的）的黏附性。2）旋涂光刻膠，抗反射層：在氣體預(yù)處理后，光刻膠需要被涂敷在硅片表面。涂敷的方法是最廣泛使用的旋轉(zhuǎn)涂膠方法，光刻膠（大約幾毫升）先被管路輸送到硅片中央，然后硅片會(huì)被旋轉(zhuǎn)起來，并且逐漸加速，直到穩(wěn)定在一定的轉(zhuǎn)速上（轉(zhuǎn)速高低決定了膠的厚度，厚度反比于轉(zhuǎn)速的平方根）。3）曝光前烘

38、焙：當(dāng)光刻膠被旋涂在硅片表面后，必須經(jīng)過烘焙。烘焙的目的在于將幾乎所有的溶劑驅(qū)趕走。這種烘焙由于在曝光前進(jìn)行叫做“曝光前烘焙”，簡(jiǎn)稱前烘，又叫軟烘（softbake）。前烘改善光刻膠的黏附性，提高光刻膠的均勻性，以及在刻蝕過程中的線寬均勻性控制。4）對(duì)準(zhǔn)和曝光：在投影式曝光方式中，掩膜版被移動(dòng)到硅片上預(yù)先定義的大致位臵，或者相對(duì)硅片已有圖形的恰當(dāng)位臵，然后由鏡頭將其圖形通過光刻轉(zhuǎn)移到硅片上。對(duì)接近式或者接觸式曝光，掩膜版上的圖形將由紫外光源直接曝光到硅片上。5）曝光后烘焙：曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過又一次烘焙。后烘的目的在于通過加熱的方式，使光化學(xué)反應(yīng)得以充分完成。曝光過程中產(chǎn)生的光敏感成分會(huì)

39、在加熱的作用下發(fā)生擴(kuò)散，并且同光刻膠產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，將原先幾乎不溶解于顯影液體的光刻膠材料改變成溶解于顯影液的材料，在光刻膠薄膜中形成溶解于和不溶解于顯影液的圖形。由于這些圖形同掩膜版上的圖形一致，但是沒有被顯示出來，又叫“潛像”（latentimage）。6）顯影：由于光化學(xué)反應(yīng)后的光刻膠呈酸性，顯影液采用強(qiáng)堿溶液。一般使用體積比為2.38%的四甲基氫氧化銨水溶液。光刻膠薄膜經(jīng)過顯影過程后，曝過光的區(qū)域被顯影液洗去，掩膜版的圖形便在硅片上的光刻膠薄膜上以有無光刻膠的凹凸形狀顯示出來。7）堅(jiān)膜烘焙：在顯影后，由于硅片接觸到水分，光刻膠會(huì)吸收一些水分，這對(duì)后續(xù)的工藝，如濕發(fā)刻蝕不利。于是需要通過堅(jiān)

40、膜烘焙（hardbake）來將過多的水分驅(qū)逐出光刻膠。由于現(xiàn)在刻蝕大多采用等離子體刻蝕，又稱為“干刻”，堅(jiān)膜烘焙在很多工藝當(dāng)中已被省去。制程升級(jí)是確定發(fā)展方向，光刻設(shè)備和光刻膠是核心因素。隨著高集成度、超高速、超高頻集成電路及元器件的開發(fā)，集成電路與元器件特征尺寸呈現(xiàn)出越來越精細(xì)的趨勢(shì)，加工尺寸達(dá)到百納米直至納米級(jí)，光刻設(shè)備和光刻膠產(chǎn)品也為滿足超微細(xì)電子線路圖形的加工應(yīng)用而推陳出新。光刻膠的分辨率直接決定了特征尺寸的大小，通常而言，曝光波長(zhǎng)越短，分辨率越高，因此為適應(yīng)集成電路線寬不斷縮小的要求，光刻膠的曝光波長(zhǎng)由紫外寬譜向線(436nm)線(365nm)KrF(248nm)ArF(193nm)

41、F2（157nm）的方向轉(zhuǎn)移，并通過分辨率增強(qiáng)技術(shù)不斷提升光刻膠的分辨率水平。產(chǎn)品規(guī)劃方案一覽表序號(hào)產(chǎn)品（服務(wù)）名稱單位單價(jià)（元）年設(shè)計(jì)產(chǎn)量產(chǎn)值1半導(dǎo)體光刻膠噸xxx2半導(dǎo)體光刻膠噸xxx3半導(dǎo)體光刻膠噸xxx4.噸5.噸6.噸合計(jì)xx33100.00第五章 項(xiàng)目選址分析一、 項(xiàng)目選址原則項(xiàng)目選址應(yīng)符合城鄉(xiāng)規(guī)劃和相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范，有利于產(chǎn)業(yè)發(fā)展、城鄉(xiāng)功能完善和城鄉(xiāng)空間資源合理配置與利用，堅(jiān)持節(jié)能、保護(hù)環(huán)境可持續(xù)利用發(fā)展，經(jīng)濟(jì)效益、社會(huì)效益、環(huán)境效益三效統(tǒng)一，土地利用最優(yōu)化。二、 建設(shè)區(qū)基本情況璧山區(qū)隸屬重慶市，位于長(zhǎng)江上游地區(qū)、重慶市西部、重慶大都市區(qū)內(nèi)。唐至德二年設(shè)立建制，因境內(nèi)“山出白石，明潤(rùn)

42、如璧”而得名。2014年撤縣設(shè)區(qū)。璧山區(qū)下轄6個(gè)街道、9個(gè)鎮(zhèn)，幅員面積914.55平方千米。截至2020年11月1日零時(shí)，全區(qū)常住人口756022人(第七次人口普查)。璧山區(qū)獲得過全國(guó)科技進(jìn)步先進(jìn)縣（市）、全國(guó)水土保持生態(tài)環(huán)境建設(shè)示范縣、全國(guó)平安建設(shè)先進(jìn)縣、中國(guó)人居環(huán)境范例獎(jiǎng)、國(guó)家水利風(fēng)景區(qū)、全國(guó)納稅服務(wù)示范區(qū)、國(guó)家低碳工業(yè)園區(qū)試點(diǎn)、國(guó)家水生態(tài)文明城市建設(shè)試點(diǎn)、國(guó)家衛(wèi)生區(qū)、第二批節(jié)水型社會(huì)建設(shè)達(dá)標(biāo)縣（區(qū)）、2019年全國(guó)村莊清潔行動(dòng)先進(jìn)縣等榮譽(yù)稱號(hào)。2019年，璧山區(qū)完成地區(qū)生產(chǎn)總值681.0億元，同比增長(zhǎng)8.6%。從國(guó)際看，世界百年未有之大變局正加速變化，世界進(jìn)入動(dòng)蕩變革期，中國(guó)發(fā)展將面對(duì)更

43、多逆風(fēng)逆水的外部環(huán)境。大國(guó)競(jìng)爭(zhēng)逐漸由隱性競(jìng)爭(zhēng)轉(zhuǎn)向顯性對(duì)抗，在中美經(jīng)貿(mào)摩擦持續(xù)深化的作用下，疊加日本、歐盟修改對(duì)中國(guó)的雙邊和多邊經(jīng)貿(mào)規(guī)則影響，保護(hù)主義、單邊主義上升，世界經(jīng)濟(jì)低迷，全球產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈因非經(jīng)濟(jì)因素而面臨沖擊，國(guó)際政治、經(jīng)濟(jì)、科技、文化、安全等格局都在發(fā)生深刻調(diào)整。新一輪科技革命深入改變世界，以數(shù)字經(jīng)濟(jì)為代表的新經(jīng)濟(jì)對(duì)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)進(jìn)行垂直整合，已經(jīng)形成突破態(tài)勢(shì)。以人工智能、5G、物聯(lián)網(wǎng)、區(qū)塊鏈等為代表的新一代信息技術(shù)正在廣泛而深入地滲透到經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的各個(gè)領(lǐng)域，與生物科技、新能源、新材料等新型技術(shù)相互滲透、交叉融合，第四次工業(yè)革命方興未艾，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)變革、智能化社會(huì)深入發(fā)展，世界各國(guó)在爭(zhēng)奪“

44、卡脖子”的關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域競(jìng)爭(zhēng)日益白熱化。中國(guó)制造業(yè)發(fā)展在全球產(chǎn)業(yè)鏈和價(jià)值鏈分工體系中，面臨自主創(chuàng)新能力不夠強(qiáng)和傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)成本增加的雙重?cái)D壓，疊加全球貿(mào)易環(huán)境的變化，傳統(tǒng)工業(yè)產(chǎn)品“走出去”更加困難。新冠肺炎疫情對(duì)全球經(jīng)濟(jì)的影響仍然存在，對(duì)全球消費(fèi)市場(chǎng)、生產(chǎn)體系、運(yùn)輸體系、供應(yīng)鏈的影響持續(xù)深遠(yuǎn)。全球產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)渠道多元化、多樣化發(fā)展趨勢(shì)將更加明顯，由此帶動(dòng)全球產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)和空間布局的深度調(diào)整。從國(guó)內(nèi)看，我國(guó)發(fā)展仍然處于重要戰(zhàn)略機(jī)遇期?！笆奈濉睍r(shí)期，我國(guó)將轉(zhuǎn)向高質(zhì)量發(fā)展新階段，跨越“中等收入陷阱”，經(jīng)濟(jì)發(fā)展水平從中等收入國(guó)家加速向高收入國(guó)家提升，將造就更大規(guī)模的中等收入群體，居民消費(fèi)潛能進(jìn)一步釋放，帶動(dòng)消費(fèi)

45、結(jié)構(gòu)、投資結(jié)構(gòu)、產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)“三升級(jí)”，內(nèi)需將成為經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)的主要?jiǎng)恿?。但?yīng)該看到，我國(guó)經(jīng)濟(jì)發(fā)展也存在一些長(zhǎng)期性的問題：城市化進(jìn)入中后期，拉動(dòng)經(jīng)濟(jì)增長(zhǎng)的動(dòng)力減弱，大宗生產(chǎn)資料產(chǎn)能過剩問題仍然突出；人口老齡化特征明顯，勞動(dòng)力紅利下降，帶來創(chuàng)新動(dòng)能低和消費(fèi)動(dòng)力弱、人口撫養(yǎng)比增加等一系列問題；發(fā)展不平衡不充分問題仍然突出，有效需求難以激發(fā)；重點(diǎn)領(lǐng)域關(guān)鍵環(huán)節(jié)改革任務(wù)仍然艱巨，市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)體系還不夠健全，要素流動(dòng)、創(chuàng)新動(dòng)力不適應(yīng)高質(zhì)量發(fā)展需求；民生保障存在短板，社會(huì)治理還有弱項(xiàng)等。從我區(qū)看，“十三五”期末全區(qū)人均地區(qū)生產(chǎn)總值達(dá)到1.4萬美元，已進(jìn)入中心城區(qū)序列。建立創(chuàng)新型社會(huì)，提高經(jīng)濟(jì)活動(dòng)的數(shù)字化、智能化、綠色化

46、、服務(wù)化水平，推進(jìn)產(chǎn)教融合、城鄉(xiāng)融合、軍民融合發(fā)展，不斷優(yōu)化經(jīng)濟(jì)結(jié)構(gòu)，提高服務(wù)業(yè)占比，是璧山區(qū)加速同城化實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量發(fā)展的關(guān)鍵舉措。璧山區(qū)要準(zhǔn)確把握成渝地區(qū)雙城經(jīng)濟(jì)圈建設(shè)的最佳時(shí)機(jī)和重慶中心城區(qū)向西拓展的最優(yōu)區(qū)位，努力在發(fā)展動(dòng)能轉(zhuǎn)換中尋求新動(dòng)力，在消費(fèi)結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變中創(chuàng)造新市場(chǎng)，在三次產(chǎn)業(yè)融合發(fā)展中催生新場(chǎng)景，在綠色發(fā)展中創(chuàng)造新經(jīng)驗(yàn)，在城鄉(xiāng)融合、人口快速集聚發(fā)展中展示社會(huì)治理新作為，全力建設(shè)同城化發(fā)展先行示范區(qū)，傾力打造重慶主城都市區(qū)“迎客廳”。展望二三五年，我區(qū)經(jīng)濟(jì)實(shí)力、科技實(shí)力和綜合實(shí)力將大幅提升，經(jīng)濟(jì)總量和城鄉(xiāng)居民人均收入將再邁上新的大臺(tái)階，基本實(shí)現(xiàn)新型工業(yè)化、信息化、城鎮(zhèn)化、農(nóng)業(yè)現(xiàn)代化，建成現(xiàn)

47、代化經(jīng)濟(jì)體系，成為推動(dòng)成渝地區(qū)雙城經(jīng)濟(jì)圈建設(shè)、重慶“一區(qū)兩群”協(xié)調(diào)發(fā)展的重要增長(zhǎng)極。基本實(shí)現(xiàn)治理體系和治理能力現(xiàn)代化，各方面體制機(jī)制更加完善，法治政府、法治社會(huì)和平安建設(shè)達(dá)到更高水平?；A(chǔ)設(shè)施互聯(lián)互通全面實(shí)現(xiàn)，在更廣范圍建成開放型經(jīng)濟(jì)體系，開放程度和國(guó)際化水平躋身中西部第一方陣、與東部發(fā)達(dá)地區(qū)比肩。實(shí)現(xiàn)社會(huì)主義精神文明和物質(zhì)文明全面協(xié)調(diào)發(fā)展，科技強(qiáng)區(qū)、文化強(qiáng)區(qū)、教育強(qiáng)區(qū)、人才強(qiáng)區(qū)、體育強(qiáng)區(qū)、健康璧山基本建成，市民素質(zhì)和社會(huì)文明程度達(dá)到新高度，文化軟實(shí)力顯著增強(qiáng)，社會(huì)事業(yè)發(fā)展處于全市領(lǐng)先水平。生態(tài)文明建設(shè)取得重大成效，全面建成生產(chǎn)生活生態(tài)空間相宜、自然經(jīng)濟(jì)社會(huì)人文相融、“城人產(chǎn)”高度和諧統(tǒng)一、全

48、面體現(xiàn)新發(fā)展理念的田園都市。中等收入群體顯著擴(kuò)大，基本公共服務(wù)實(shí)現(xiàn)均等化，高品質(zhì)生活供給更加充分，人的全面發(fā)展、全體人民共同富裕取得更為明顯的實(shí)質(zhì)性進(jìn)展，“儒雅溫潤(rùn)、如詩如畫，隱于田園、歸于心安”的美好畫卷生動(dòng)呈現(xiàn)，成為令人向往的幸福美麗之地。三、 在助力重慶發(fā)揮“三個(gè)作用”中融入新發(fā)展格局助力重慶發(fā)揮“三個(gè)作用”，圍繞新時(shí)代西部大開發(fā)戰(zhàn)略、長(zhǎng)江經(jīng)濟(jì)帶發(fā)展戰(zhàn)略、共建“一帶一路”等重大國(guó)家戰(zhàn)略，強(qiáng)化戰(zhàn)略對(duì)接、政策對(duì)應(yīng)和項(xiàng)目承接，在深度對(duì)接、主動(dòng)服務(wù)國(guó)家重大戰(zhàn)略中展示璧山作為。助推全市在推進(jìn)新時(shí)代西部大開發(fā)中發(fā)揮支撐作用。以重慶第二國(guó)際機(jī)場(chǎng)為核心，通過西部陸海新通道、中歐班列（渝新歐）、成渝中線高

49、鐵、高速公路等基礎(chǔ)設(shè)施聯(lián)動(dòng)，擴(kuò)大機(jī)場(chǎng)服務(wù)半徑，深化西部地區(qū)與東部地區(qū)戰(zhàn)略互動(dòng)，承接?xùn)|部地區(qū)產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移，協(xié)同西部城市群開發(fā)開放。建設(shè)保障國(guó)家安全的戰(zhàn)略后方，建設(shè)現(xiàn)代制造業(yè)、現(xiàn)代服務(wù)業(yè)、現(xiàn)代都市農(nóng)業(yè)等現(xiàn)代化產(chǎn)業(yè)體系，發(fā)揮重慶中心城區(qū)西部“窗口”作用，集中展示璧山高質(zhì)量發(fā)展、高品質(zhì)生活建設(shè)成就。助推全市在推進(jìn)長(zhǎng)江經(jīng)濟(jì)帶綠色發(fā)展中發(fā)揮示范作用。璧山區(qū)作為國(guó)家生態(tài)文明建設(shè)示范區(qū)，地處重慶中心城區(qū)“西大門”，是主城都市區(qū)的“迎客廳”。縉云山、云霧山及璧山槽谷，形成了川東平行嶺谷地區(qū)典型的“兩山一槽”地理空間格局和獨(dú)立完整的自然地理單元，與重慶主城都市區(qū)“四山三槽”的地理空間格局一脈相承，分布著成渝兩地自古交

50、往最多的古驛道，見證成渝兩地友好密切交往的悠久歷史，“儒雅璧山田園都市”對(duì)生態(tài)文明時(shí)代的空間治理和文化傳承具有重要價(jià)值，必將進(jìn)一步豐富“迎客廳”的生態(tài)文明內(nèi)涵。助推全市在推進(jìn)共建“一帶一路”中發(fā)揮帶動(dòng)作用。璧山區(qū)以重慶第二國(guó)際機(jī)場(chǎng)為連接點(diǎn)，提早謀劃綜合交通體系和樞紐體系，規(guī)劃研究璧山內(nèi)陸無水港建設(shè)，打造以機(jī)場(chǎng)為核心的“鐵公水空”聯(lián)運(yùn)物流系統(tǒng)，打造重慶內(nèi)陸開放高地“新門戶”，成為重慶建設(shè)“一帶一路”、長(zhǎng)江經(jīng)濟(jì)帶、西部陸海新通道聯(lián)動(dòng)發(fā)展戰(zhàn)略性樞紐的關(guān)鍵支撐之一。深度融入全球價(jià)值鏈供應(yīng)鏈體系，爭(zhēng)創(chuàng)綜合保稅區(qū)、航空口岸等國(guó)家級(jí)開放平臺(tái)，全面推進(jìn)對(duì)內(nèi)對(duì)外開放協(xié)同。加快建設(shè)開放平臺(tái)，建好中意（中歐）創(chuàng)新產(chǎn)

51、業(yè)園、中新合作智慧區(qū)，深化數(shù)字經(jīng)濟(jì)、科技創(chuàng)新、商貿(mào)服務(wù)等領(lǐng)域國(guó)際合作，促進(jìn)國(guó)際人文交流。抓住區(qū)域全面經(jīng)濟(jì)伙伴關(guān)系協(xié)定（RCEP）簽署機(jī)遇，持續(xù)拓展“一帶一路”沿線國(guó)家和地區(qū)市場(chǎng)，籌建東盟（重慶）中心，在對(duì)外貿(mào)易通道節(jié)點(diǎn)城市探索建立境外商會(huì)、境外商務(wù)代表處、招商代理平臺(tái)，增強(qiáng)與歐洲、東盟國(guó)家的經(jīng)貿(mào)往來和跨境合作。四、 厚植科技創(chuàng)新優(yōu)良生態(tài)進(jìn)一步發(fā)揮好“迎客廳”在交流思想、碰撞靈感、激發(fā)活力等方面的作用，牢固樹立生態(tài)理念，打造主體集中、空間集聚、特色鮮明、顯示度強(qiáng)的創(chuàng)新體系，推動(dòng)創(chuàng)新生態(tài)要素耦合聯(lián)系，匯集創(chuàng)新資源發(fā)生“化學(xué)反應(yīng)”“鏈?zhǔn)椒磻?yīng)”。打造學(xué)科內(nèi)涵關(guān)聯(lián)的原始創(chuàng)新集群，力爭(zhēng)在基礎(chǔ)研究和關(guān)鍵核心

52、技術(shù)領(lǐng)域取得突破。營(yíng)造開放包容、利于創(chuàng)新的環(huán)境，推動(dòng)社會(huì)發(fā)展向知識(shí)經(jīng)濟(jì)方向轉(zhuǎn)型，在推進(jìn)西部（重慶）科學(xué)城建設(shè)中當(dāng)好排頭兵、做出大貢獻(xiàn)。突出創(chuàng)新文化打造，加強(qiáng)科普工作，辦好各類創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽，高標(biāo)準(zhǔn)籌辦西部科學(xué)論壇，擴(kuò)大成渝地區(qū)雙城經(jīng)濟(jì)圈科技創(chuàng)新聯(lián)盟“朋友圈”，在全社會(huì)營(yíng)造崇尚創(chuàng)新的文化生態(tài)。深化科技交流合作，建立與國(guó)內(nèi)外優(yōu)質(zhì)創(chuàng)新資源、知名科研院所、高校、大型企業(yè)協(xié)同創(chuàng)新合作關(guān)系，引進(jìn)或共建專業(yè)技術(shù)研究院、院士（專家）工作站、中試平臺(tái)等，建立產(chǎn)學(xué)研合作共同體，打造一批科技企業(yè)孵化器、眾創(chuàng)空間、星創(chuàng)天地，完善創(chuàng)業(yè)孵化體系，構(gòu)建關(guān)鍵核心技術(shù)協(xié)同攻關(guān)的研發(fā)生態(tài)。加強(qiáng)與“一帶一路”沿線國(guó)家和地區(qū)的協(xié)作，共

53、建科技創(chuàng)新離岸孵化中心、技術(shù)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新中心，建設(shè)“一帶一路”國(guó)際合作交流社區(qū)，打造“一帶一路”科技創(chuàng)新合作區(qū)。五、 項(xiàng)目選址綜合評(píng)價(jià)項(xiàng)目選址應(yīng)統(tǒng)籌區(qū)域經(jīng)濟(jì)社會(huì)可持續(xù)發(fā)展，符合城鄉(xiāng)規(guī)劃和相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范，保證城鄉(xiāng)公共安全和項(xiàng)目建設(shè)安全，滿足項(xiàng)目科研、生產(chǎn)要求，社會(huì)經(jīng)濟(jì)效益、社會(huì)效益、環(huán)境效益相互協(xié)調(diào)發(fā)展。 第六章 建筑工程說明一、 項(xiàng)目工程設(shè)計(jì)總體要求（一）土建工程原則根據(jù)生產(chǎn)需要，本項(xiàng)目工程建設(shè)方案主要遵循如下原則：1、布局合理的原則。在平面布置上，充分利用好每寸土地，功能設(shè)施分區(qū)設(shè)置，人流、物流布置得當(dāng)、有序，做到既利于生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)，又方便交通。2、配套齊全、方便生產(chǎn)的原則。立足廠區(qū)現(xiàn)有基礎(chǔ)條件，充分

54、利用好現(xiàn)有功能設(shè)施，保證水、電供應(yīng)設(shè)施齊全，廠區(qū)內(nèi)外道路暢通，方便生產(chǎn)。在建筑結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，嚴(yán)格執(zhí)行國(guó)家技術(shù)經(jīng)濟(jì)政策及環(huán)保、節(jié)能等有關(guān)要求。在滿足工藝生產(chǎn)特性，設(shè)備布置安裝、檢修等前提下，土建設(shè)計(jì)要盡量做到技術(shù)先進(jìn)、經(jīng)濟(jì)合理、安全適用和美觀大方。建筑設(shè)計(jì)要簡(jiǎn)捷緊湊，組合恰當(dāng)、功能合理、方便生產(chǎn)、節(jié)約用地；結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)要統(tǒng)一化、標(biāo)準(zhǔn)化、并因地制宜，就地取材，方便施工。（二）土建工程采用的標(biāo)準(zhǔn)為保證建筑物的質(zhì)量，保證生產(chǎn)安全和長(zhǎng)壽命使用，本項(xiàng)目建筑物嚴(yán)格按照相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行施工建設(shè)。1、工業(yè)企業(yè)設(shè)計(jì)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)2、公共建筑節(jié)能設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)3、綠色建筑評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)4、外墻外保溫工程技術(shù)規(guī)程5、建筑照明設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)6、建筑采光設(shè)

55、計(jì)標(biāo)準(zhǔn)7、民用建筑電氣設(shè)計(jì)規(guī)范8、民用建筑熱工設(shè)計(jì)規(guī)范二、 建設(shè)方案（一）建筑結(jié)構(gòu)及基礎(chǔ)設(shè)計(jì)本期工程項(xiàng)目主體工程結(jié)構(gòu)采用全現(xiàn)澆鋼筋混凝土梁板，框架結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)采用樁基基礎(chǔ)，鋼筋混凝土條形基礎(chǔ)。基礎(chǔ)工程設(shè)計(jì)：根據(jù)工程地質(zhì)條件，荷載較小的建（構(gòu)）筑物采用天然地基，荷載較大的建（構(gòu)）筑物采用人工挖孔現(xiàn)灌澆柱樁。（二）車間廠房、辦公及其它用房設(shè)計(jì)1、車間廠房設(shè)計(jì)：采用鋼屋架結(jié)構(gòu)，屋面采用彩鋼板，墻體采用彩鋼夾芯板，基礎(chǔ)采用鋼筋混凝土基礎(chǔ)。2、辦公用房設(shè)計(jì)：采用現(xiàn)澆鋼筋混凝土框架結(jié)構(gòu)，多孔磚非承重墻體，屋面為現(xiàn)澆鋼筋混凝土框架結(jié)構(gòu)，基礎(chǔ)為鋼筋混凝土基礎(chǔ)。3、其它用房設(shè)計(jì)：采用磚混結(jié)構(gòu)，承重型墻體，基礎(chǔ)采用墻下條形基礎(chǔ)。（三）墻體及墻面設(shè)計(jì)1、墻體設(shè)計(jì)：外墻體均用標(biāo)準(zhǔn)多孔粘土磚實(shí)砌，內(nèi)墻均用巖棉彩鋼板。2、墻面設(shè)計(jì)：生產(chǎn)車間的外墻墻面采用水泥砂漿抹面，刷外墻涂料，內(nèi)墻面為乳膠漆墻面。辦公樓等根據(jù)使用要求適當(dāng)提高裝飾標(biāo)準(zhǔn)。腐蝕性樓地面、地坪以及有防火要求的樓地面采用特殊地面做法。依據(jù)建設(shè)部、國(guó)家建材局關(guān)于建筑采用使用的規(guī)定，框架填充墻采用加氣混凝土空心砌塊墻體，磚混結(jié)構(gòu)承重墻地上及地下部分采用燒結(jié)實(shí)心頁巖磚。（四）屋面防水及門窗設(shè)計(jì)1、屋面設(shè)計(jì)：屋面采用大跨度輕鋼屋面，高分子卷材防水面層，上人屋面加裝保護(hù)層。2、屋面防水設(shè)計(jì)：現(xiàn)澆